苏州节能四氟化碳

四氟甲烷（Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane），亦称四氟化碳、全氟化碳，PFC-14（R-14），化学式CF4，商品名称Reflube 14，相对分子量88.00。在常温下，四氟甲烷是无色、无臭、不燃，不溶于水的可压缩性气体。沸点-128℃，熔点-183.6℃。液体密度（-130℃）1.613g/cm3，临界温度-45.67℃，临界压力3.74MPa，蒸气压（-150.7℃）13.33kPa，介电常数（25℃，0.5MPa）1.0006。挥发性较高，是稳定的有机化合物之一，在900摄氏度时，不与钢、镍、钨、钼反应，在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25摄氏度及0.1MPa下其溶解度为0.0015％（重量比），然而与可燃性气体燃烧时， 会分解产生有毒氟化物，危险性类别为第2.2类不燃气体。温度较低时，四氟化碳与二氧化碳不发生作用。苏州节能四氟化碳

    四氟化碳用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体，用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。四氟化碳是微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。四氟化碳常温常压下稳定，避免强氧化剂、易燃或可燃物。不燃气体，遇高热后容器内压增大，有开裂危险。化学性质稳定，不燃。常温下只有液氨-金属钠试剂能发生作用。 南京节能四氟化碳质量代理商四氯化碳与氟化氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行。

    四氟化碳(CF4)是目前微电子工业中使用的等离子体蚀刻气体，广用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。四氟化碳早就是通过氟碳直接反应法制得的，该方法经过不断的发展与完善，如今己成为工业上制备全氟烷的主要的方法之一。氟气与碳反应剧烈，反应不易控制。因此，人们一直在研究四氟化碳的安全生产工艺。

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体，广用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于化学稳定性极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规格，各国为推动本国微电子工业发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言，CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体场，因此具有广阔的发展潜力。所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中，需要使用四氟化碳。

    四氟化碳在常温常压下为无色无臭有轻微醚味的气体，微溶于水；在25℃，，水中溶解度为(重量)，有轻微的水解作用。四氟化碳应用广，可广泛应用于电子工业、制冷空调、电力工业、太阳能工业、航天工业、金属冶炼和塑料工业等。四氟化碳对大多数金属及合金均不腐蚀，可用钢瓶或铝合金容器包装和运输，充瓶压力通常低于MPa，充装前应经过清洗、干燥、检验、抽真空后再充装，贮存于阴凉、通风的库房，远离火。四氟化碳因为拥有良好的溶氧性，且溶解度和空气中的氧气含量相当，所以即便生物完全浸在其中也能够很好地呼吸，不会出现溺水状况。 用硅胶除去气体中的水分，经精馏而得成品。镇江口碑好四氟化碳厂家供货

也要注意使用四氟化碳的注意事项。苏州节能四氟化碳

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体，广用于硅、氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于化学稳定性极强，四氟化碳还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电予气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规格，各国为推动本国微电子工业发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言，四氟化碳以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体市场，因此具有广阔的发展潜力。苏州节能四氟化碳