南通优良四氟化碳厂家供货

    四氟化碳的用途有哪些？四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体，充装于四氟化碳钢瓶中，饱和蒸汽压约压力2000psig。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态，印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于四氟化碳的化学稳定性，四氟化碳可用于金属冶炼，例如：铜、不锈钢，碳钢、铝、蒙乃尔等；还可用于塑料行业；如：合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。 只有在1000℃以上，才能和二氧化碳进行反应。南通优良四氟化碳厂家供货

    四氯化碳有什么作用？四氯化碳可以做萃取剂来萃取有机物（极性分子相似相溶）。萃取实验中萃取出的碘单质是紫红色的，而其他卤素也会有其他对应的颜色，所以四氯化碳有的时候用于卤素除杂与鉴定；曾用作灭火剂但是由于在一些条件下四氯化碳会产生窒息性的剧毒气体——光气;另外它也不能用于扑灭活泼金属钾、钠的失火，因四氯化碳会强烈分解。现被1211灭火剂替代；可与水置于同一容器防倒吸（利用密度梯度分离，导气管需伸入下层）。 常州直销四氟化碳厂家供货R-14制冷剂，别名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名称有Freon 14等。

    四氟化碳与氧在高温下不反应]四氟化炭是目前微电子行业使用比较多的等离子蚀刻气体，它是由高纯气与高纯气配高纯氧的混合物，可用于硅粉、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和钨薄膜材料的蚀刻。在使用CF4-H2反应离子刻蚀的硅及二氧化硅系统中，通过调节两种气体的比例，可以获得45:1的选择性，这对刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜是非常有用的。危害概览危险类别：：吸入健康危险：吸入浓度高的四氟化碳后，出现呼吸困难、呕吐等窒息症状。

    四氟化碳用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体，用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。四氟化碳是微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。四氟化碳常温常压下稳定，避免强氧化剂、易燃或可燃物。不燃气体，遇高热后容器内压增大，有开裂危险。化学性质稳定，不燃。常温下只有液氨-金属钠试剂能发生作用。 所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中，需要使用四氟化碳。

质量指标纯度（%）≥99.99水份（PPm）≤10酸度（PPm）≤0.3蒸发残留物（PPm）≤100％物理性质分子量88.0沸点（1atm），℃-128临界温度，℃-45.67临界压力，kPa3740饱和蒸气压（25℃），kPa3650（-45.6℃）汽化热/蒸发潜热（沸点下，1atm），kJ/kg-破坏臭氧潜能值（ODP）0全球变暖潜能值(GWP，100yr)5700ASHRAE安全级别A1（无毒不可燃）化学性质相对分子量88.00。在常温下，四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体，挥发性较高，是**稳定的有机化合物之一，不易溶于水。在900℃时，不与铜、镍、钨、钼反应，*在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%（重量比），然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒氟化物。然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生氟化物。正规四氟化碳哪里有

四氟化碳的溶氧性很好。南通优良四氟化碳厂家供货

    四氟化碳(CF4)是目前微电子工业中使用的等离子体蚀刻气体，广用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。四氟化碳早就是通过氟碳直接反应法制得的，该方法经过不断的发展与完善，如今己成为工业上制备全氟烷的主要的方法之一。氟气与碳反应剧烈，反应不易控制。因此，人们一直在研究四氟化碳的安全生产工艺。 南通优良四氟化碳厂家供货

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