巴斯夫光稳定剂Chiguard 326

Chiguard 100G 紫外光稳定剂Chiguard 100G可带来如下 好处： · 提高摩擦静电喷涂中上粉率，减少粉末的回收量 · 提高粉末涂料和工件之间的附着力。 · 提高喷涂中对工件的‘包敷性’。 紫外光稳定剂Chiguard 100G可能会和涂料体系中的酸性成分如：酸类催化剂发生反应。所以在此类条件下使用，请加以测试。 建议用量（相对于树脂固体份） 清漆和单层金属漆： 0.5-1% Chiguard 100G+ 1-3%Chiguard 5530或Chiguard 5582或Chiguard 5400等紫外线吸收剂复配；使涂料的耐候性明显提高，使汽车涂料更好的发挥作用的光稳定剂。巴斯夫光稳定剂Chiguard 326

YASORB UV-2908 美国氰特（CYTEC）紫外线吸收剂 紫外线吸收剂YASORB UV-2908是一种受阻苯甲酸酯类光稳定剂、高效的抗紫外线自由基捕获剂，抗气熏褪色，低碱性。挥发性低、着色性小、化学稳定性好、可耐酸和碱。低化学活性使其适合于需加入卤素阻燃剂或过氧化物聚烯烃体系。 理化数据： 产品形态 白色粉末 熔点 60℃ 分子量 475 相对密度 1.07（25℃） 热失重温度T-10% 291℃ 功能 ： 1、高效的自由基捕获剂，具有很好的光稳定性能，同时还具有抗氧剂性能。 2、抗NOX气熏褪色，PH值中性。 3、与受阻胺的协同增效作用。 4、对PP和阻燃聚烯烃体系的高效稳定性。巴斯夫光稳定剂Chiguard 326嵌段齐聚的受阻胺光稳定剂。

Hostavin VSU尼龙,聚氨酯紫外线吸收剂Hostavin VSU是草酰苯胺类紫外光吸收剂，低挥发性，热稳定性优。 Hostavin VSU不与来自催化剂残余，填料以及表面接触的金属离子发生反应，不会因为金属离子影响其所保护的塑料颜色。 Hostavin VSU在UV-B波段具有强吸收作用，因此推荐与荧光增白剂和紫外光交联体系结合使用。应用范围： 透明PC/PET/PMMA紫外线吸收剂Hostavin B-CAP适用于各种塑料如PVC，PO，尤其推荐用于PC，PET，PS等透明工程塑料的应用。是一种用于工程塑料的易加工的高性能UV吸收剂。Hostavin B-CAP的优异综合性能可满足要求较高的应用需求，如可用于车辆前灯漫射器； 性能优势： 透明PC/PET/PMMA紫外线吸收剂Hostavin B-CAP该光稳定剂不与聚合催化剂或加工过程中残余的金属离子发生反应，不会因为金属离子影响其所保护的塑料颜色。产品吸收范围广，在低波长UV-B中提供有效吸收.可用于各种塑料如PVC，PO。

YASORB UV-2908 美国氰特（CYTEC）紫外线吸收剂 紫外线吸收剂YASORB UV-2908是一种受阻苯甲酸酯类光稳定剂、高效的抗紫外线自由基捕获剂，抗气熏褪色，低碱性。挥发性低、着色性小、化学稳定性好、可耐酸和碱。低化学活性使其适合于需加入卤素阻燃剂或过氧化物聚烯烃体系。应用： 1、PE：膜、扁丝、注塑和滚塑制品 2、PP：膜、扁丝、注塑制品、阻燃制品、TPO 3、PET、PBT、PC、软质PVC，香精香料、蜡烛 添加量: 在推荐的用途内，根据基体树脂和加工条件的不同，较佳添加量依具体用途而定，一般为0.08%--0.6%之间。 使用建议： 本品可单独使用，也可与二苯甲酮类紫外线吸收剂(如UV-531等)或亚磷酸酯抗氧剂并用，具有很好的协同效果。 包装： 20公斤/包装。适合于卤素阻燃或过氧化物聚烯烃体系的紫外光稳定剂。

Chiguard 353液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353可能会和涂料体系中的酸性成分如：酸类催化剂发生反应。所以在此类条件下使用，请加以测试。 建议用量（相对于树脂固体份）：清漆和单层金属漆：0.5-2%天来稳292+ 1-3%Chiguard 5530,Chiguard 5228,Chiguard 5582或Chiguard 5400 实色漆：0.5-2% Chiguard 353（单独使用）或+ 1-3%Chiguard 5530,Chiguard 5228,Chiguard 5582或Chiguard 5400 CAS:41556-26-7和82919-37-7 涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353是高效液体稳定剂，适用于多种聚合物和多种用途，包括聚氨酯、密封胶、粘合剂、弹性体、不饱和聚酯、丙烯酸类、乙烯基聚合物（PVB、PVC）、苯乙烯均聚和共聚物、聚烯烃、液体颜色浓缩物和其它有机物基体。清漆，中涂和实色漆中的紫外光稳定剂。食品包装光稳定剂TINUVIN 479

耐酸和耐碱紫外光稳定剂。巴斯夫光稳定剂Chiguard 326

Nylostab S-EED 是一种新颖的尼龙用多功能添加剂，在单一分子里含有多种有利的性质。由于分子结构独特，Nylostab S-EED能 够耐尼龙熔体的还原环境，可作为一种熔体稳定剂，也可作为熔体加工改性剂。通过应用Nylostab S-EED，熔体压力的高度稳定性使 得尼龙注塑制件、吹塑制件及挤出产品质量很好，在纤维纺丝的应用中断丝的比例很低。 尼龙6加工时的扭矩曲线（表现为挤出机马达的电流消耗） 图表1很清楚地阐明了Nylostab S-EED对尼龙6的稳定作用。在熔体加工时如果同时加入了其他的受阻胺(HALS)稳定剂时，没有这个效 果。 从图1可以看出，Nylostab S-EED可以改善注塑件的表观质量。含有Nylostab S-EED的制品表面更平滑些，注塑螺纹无缺陷。同样也发现，Nylostab S-EED可以改善吹注应用时的可加工性。巴斯夫光稳定剂Chiguard 326

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