安徽半导体净化车间无尘室检测频率

1一级防静电工作区的地面、墙面和柱面应采用导静电型。导静电型地面、墙面、柱面的表面电阻、对地电阻应为2.5X10↵~1X10°2,摩擦起电电压不应大于100V,静电半衰期不应大于0.1s;2二级防静电工作区的地面、墙面、柱面、顶棚、门和软帘应采用静电耗散型。静电耗散型地面、墙面、柱面和顶棚、门的表面电阻、对地电阻应为1X10°~1X109Ω,摩擦起电电压不应大于200V,静电半衰期不应大于1s,但软帘的摩擦起电电压不应大于300V;3三级防静电工作区的地面、墙面和柱面宜根据生产工艺要求采用静电耗散型材料或低起电材料,顶棚、门等宜采用低起电材料。选用静电耗散型材料的地面、墙面和柱面,应符合本条第2 款的要求;选用低起电材料的地面、墙面、柱面、顶棚、门等的摩擦起电电压不应大于1000V。沿单一方向呈平行流线并且横断面上风速一致的气流。包括垂直单向流和水平单向流。安徽半导体净化车间无尘室检测频率

4.1.2洁净厂房净化空调系统的新风口与城市交通干道之间的距离（相邻侧边沿）宜大于50m。当洁净厂房与交通干道之间设有城市绿化带时，可根据具体条件适当减少，但不得小于25m。4.1.3对于有微振控制要求的洁净厂房的位置选择，应实际测定周围现有振源和模拟振源的影响，并应与容许振动值比较分析后确定。4.1.4厂区总平面布置时，应按洁净生产、非洁净生产、辅助生产、公用动力系统和办公、生活等功能区合理布局。洁净厂房宜根据电子产品生产工艺特点和各种功能区的要求，按组合式、大体量的综合性厂房布置。4.1.5洁净厂房周围及其周边的道路面层，应选用整体性能好、发尘少的材料。医疗净化车间无尘室检测周期设施已经建成，生产设备已经安装，并按业主及供应商同意的状态运行，但无生产人员。

9.2.1纯水系统的设备配置除应满足所需水量和水质的要求外，还应满足运行灵活、安全可靠、便于操作管理、运行费用低等要求。9.2.2纯水的制备、储存和输送设备,应符合电子产品生产工艺的要求,并应符合下列规定:1纯水的制备、终端处理设备的选型和制造材料的选择,应满足供水水质、终端水质的要求;2纯水储罐、输送设备的选型和制造材料的选择,应确保水 质污染少、密封性好,不得有渗气现象;3纯水制备、储存、输送设备应有效地防止水质降低。

12.1.1洁净厂房的用电负荷等级和供电要求，应根据电子产品生产工艺及设备要求和现行国家标准《供配电系统设计规范》GB50052的有关规定确定。12.1.2洁净厂房低压配电电压等级应符合生产工艺设备用电要求。带电导体系统的型式宜采用单相二线制、三相三线制、三相四线制。系统接地型式宜采用TN-S或TN-C-S系统。12.1.3电子产品生产用主要工艺设备，应由变压器或低压馈电线路供电。对电源连续性有特殊要求的生产设备、动力设备，宜设置不间断电源或备用发电装置等。在洁净室(区)内宜设置的检修电源。12.1.4洁净厂房的净化空调系统（含制冷机），应由变电所专线供电。无尘室是一种完全封闭、密封的房间，它的主要目的是控制空气中的尘埃颗粒数量。

4.2.1洁净室可根据电子产品生产工艺特点、空气洁净度等级和布置要求分为隧道式、开放式和微环境等，也可按气流流型分为单向流洁净室、非单向流洁净室和混合流洁净室。4.2.2电子工业洁净厂房垂直单向流洁净室的空间，应包括活动地板以下的下技术夹层、洁净生产层和吊顶以上的上技术夹层。4.2.3洁净室型式的选择应综合生产工艺要求、节约能源、减少投资和降低运行费用等因素确定，各种空气洁净度等级的电子工业洁净厂房宜采用混合流洁净室。对空气洁净度净度要求严格时，宜采用微环境等型式。在运作时，无尘室需要严格控制人员进出，常规维护和定期检查是确保无尘室持续洁净的关键。浙江洁净室无尘室检测服务

物料在进入洁净室(区)之前按一定程序进行净化的房间。安徽半导体净化车间无尘室检测频率

无尘车间工程主要包括无尘车间设计、施工和运行管理前后相关的三个环节。质量源于设计，设计是**。而净化工程的施工又区别于一般的建筑工程，包括围护结构(俗称“房中房”)；空调净化系统；供电、自控、弱电系统；纯水、特气、物料供应系统；废气、废水处理系统及相关设施。运行管理包括：实时检测，人员培训，设备维护，以保证受控的生产科研环境持续符合要求。三个环节涵盖了空态、静态、动态三个占有状态；环境受控又融合了风险评估、生产认证的概念和程序；加之洁净技术跨行业、跨专业、跨学科的特点：使之无尘车间工程的难度和复杂性增加。因此对于无尘车间工程行业来说，优化设计、现场施工环境的协调与管控、工程相关技术细节的经验积累，对客户需求的理解和实现，以及对设计变更的准备和响应程度等都是衡量无尘车间施工团队能力的重要指标。安徽半导体净化车间无尘室检测频率