光学平台表面该仪器具有便携、可直读数据、精度高等优点。光学平台重复定位精度（±0.10㎜）：该指标意义在于保证工作台面在动态条件下的水平，以方便使用者高速光路，检测方法是将百分表（精度0.02㎜）固定在稳固的物体上，表头顶住台面，然后在工作台面上反复加载或卸载，待稳定后读数在范围正负0.10㎜以内即为合格。光学平台工作台面的振幅（So≤2μm）：在正常的使用环境下，为了保证仪器的使用精度，光学平台必须提供尽可能低的振幅。在光学平台的研发过程中，对平台表面上很多点的柔量曲线进行记录。浙江气浮式光学平台配件
光学平台重要的作用是提供动态刚度，光路的稳定性主要受桌面长轴方向上点对点的相对运动影响。这些相对运动产生于桌面上搭建的设备、空气调节(HVAC)系统以及其他声音来源。削减这些振动的佳方案是在来源处即行隔绝，比如在设备与桌面间放置柔性垫、为排气管增加挡板或使用隔声罩。调整架的位移由一个不产生任何质量效应的激光测振仪来测量，实验使用主动阻尼光学平台，同时测量结构阻尼和主动阻尼的运动，以便充分地体现阻尼桌面的减振效果。北京精密隔振光学平台定制光学平台应用于其他机械行业的精密试验仪器、设备振动隔离的关键装置中。
光学实验平台普遍使用的振动响应传递函数为柔量。在恒定（静态）力的情况下，柔量可以定义为线性或角度错位与所施加外力的比值。在动态变化力（振动）的情况下，柔量则可以定义为受激振幅（角度或线性错位）与振动力振幅的比值。平台的任意挠度都可以通过安装在平台表面的部件相对位置变化表现出来。因此，根据定义，柔量值越小，光学平台就越接近设计的首要目标：将挠度小化。柔量是与频率相关的，其测量单位为没单位力的错位量（米/牛顿）。
光学平台的磨削是有极限的，这个加工的极限一般是在±0.01mm/600mm×600mm左右，换算成平方米大约为：±0.03mm/m2，但这个平面度，同大理石平台的平面度相差甚远。大理石平台根据平面度指标一般分为：000级（平面度≤3μm/m2）、00级（平面度≤5μm/m2）、0级（平面度≤10μm/m2）。换句话说，平面度好的光学平台，同低等级的大理石平台相比，平面度还差数倍甚至一个数量级，所以若您需要高平面度的台面，强烈建议您选购大理石平台。光学平台光路的稳定性主要受桌面长轴方向上点对点的相对运动影响。
光学平台中提到的大相对位移有别于精密位移台中的相关概念，通常光学平台的大相对位移指标，是指在特定的测试条件和环境中，台面本身的变形量。比如在一个隔离了外界振动的环境中，放置负载和空载情况下，通过平面度检测仪测量台面的变形。台面的尺寸，通常取300mm×300mm，负载安置在此面积的中心位置，负载也有一定的要求（比如取114公斤）。光学平台的大相对位移值，主要同平台的结构和材料刚性相关，在同样测试条件，且光学平台的结构和材料相近的情况下，大相对位移的值相差不大。光学平台台面，采用三层夹心结构，上台面厚度4～6mm，采用铁磁不锈钢材质，此时测试的大相对位移，在10-7mm量级，同国外同类产品指标相近。在动态变化力（振动）的情况下，柔量则可以定义为受激振幅（角度或线性错位）与振动力振幅的比值。青海自平衡光学平台订制
无论何种激光应用，为维持光路稳定，振动隔离和桌面阻尼的重要性都是再强调也不为过。浙江气浮式光学平台配件
电子元器件自主可控是指在研发、生产和保证等环节，主要依靠国内科研生产力量，在预期和操控范围内，满足信息系统建设和信息化发展需要的能力。电子元器件关键技术及应用，对电子产品和信息系统的功能性能影响至关重要，涉及到工艺、合物半导体、微纳系统芯片集成、器件验证、可靠性等。为进一步推动我国光纤耦合对准系统，硅光芯片耦合系统，直流/射频探针台，非标耦合对准系统的产业发展，促进新型光纤耦合对准系统，硅光芯片耦合系统，直流/射频探针台，非标耦合对准系统的技术进步与应用水平提高，在 5G 商用爆发前夕，2019 中国 5G 光纤耦合对准系统，硅光芯片耦合系统，直流/射频探针台，非标耦合对准系统重点展示关键元器件及设备，旨在助力光纤耦合对准系统，硅光芯片耦合系统，直流/射频探针台，非标耦合对准系统行业把握发展机遇，实现跨越发展。我国也在这方面很看重，技术，意在摆脱我国元器件受国外有限责任公司（自然）企业间的不确定因素影响。我国和电子元器件的专业人员不懈努力，终于获得了回报！电子元器件几乎覆盖了我们生活的各个方面，既包括电力、机械、交通、化工等传统工业，也涵盖航天、激光、通信、机器人、新能源等新兴产业。据统计，目前，我国电子元器件销售产业总产值已占电子信息行业的五分之一，是我国电子信息行业发展的根本。浙江气浮式光学平台配件
