不要把精密大理石检测平台放在磁场附近，例如磨床的磁性作业台上，避免感磁.发现有不正常景象时，如表面不平、有毛刺、有锈斑以及刻度禁绝、尺身曲折变形、活动不灵活等等，使用者不应当自行拆修，更不应该自行用榔头敲、锉刀锉、砂布打磨等粗糙方法修理，避免反而增大误差。发现上述情况，使用者应当自行送计量站维修，并经检定大理石检测平台精度后再持续使用。大理石检测平台使用后，应及时擦干净。精密大理石检测平台应实施定时检定和维护，长期使用的精密大理石检测平台，要定时送计量站进行维护和检定精度，避免因大理石检测平台的示值误差超差而形成产品质量事故。光学元件的形变是系统不稳定的第二大来源。青海气动光学平台定制
当今科学界的科学实验需要越来越精密的计算和测量，因此一个能与外界环境和干扰相对隔离的设备仪器对实验的结果测量时非常重要的。能够固定各种光学元件以及显微镜成像设备等的光学平台也成为科研实验中必备的产品。光学平台主要的一个目标是消除平台上任意两个以上部件之间的相对位移。光学平台或面包板重要的特性为其共振频率。共振频率和振幅是负相关的，因此共振频率应尽可能地增大，从而将振动强度小化。平台和面包板会在一个特定的频率范围内发生振动。为了改善性能，每种尺寸的平台和面包板的阻尼效果都需要进行优化。浙江精密光学平台仪器实验使用主动阻尼光学平台，同时测量结构阻尼和主动阻尼的运动，以便充分地体现阻尼桌面的减振效果。
光学平台普遍运用于光学、电子、精密机械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和无损检测等领域，以及其他机械行业的精密试验仪器、设备振动隔离的关键装置中。随着先进的设备和工艺的发展，使纳米量级的测量成为可能。例如，变相光学干涉仪测量物体的表面粗糙度，目前可以达到1纳米的分辨率。在半导体领域，已生产出线宽在亚微米量级的集成电路，提出测量准确率小于50纳米的精度要求。这样的应用对系统中不同元件相关配合精度和稳定性提出了极高的要求。
简单的光学平台保养说明书?1.光学玻璃防雨罩使用时应每年检查周围空气、温度、湿度,及时补充；2.材料缺陷和老化是平面显微镜对运动目标的光学缺陷检测很大的困难之一，受压力改变形状引起窗口模板反应灵敏变形和关断的迟钝及其他其他缺陷；3.硬质打磨主要是为了更加精细的修整和使用方便,但过大的打磨力会破坏平面显微镜,因为平面显微镜的刚度需要很高；4.使用或处理过程中应检查检验平面显微镜与玻璃接触的部位,注意玻璃外部与玻璃之间的加工应相对光滑；标准光学平台基本组件包括：1、顶板；2、底板；3、侧面精加工贴脸；4、侧板；5、蜂窝芯；
光学平台其他配件还包括货架、安装座、桌下搁板、振动隔离配件、可安装支杆的光学平台配件、可调式光学爬升架安装座、地震抑制、光学面包板罩壳、遮光材料、磁性薄片等等。生产意义：当今科学界的科学实验需要越来越精密的计算和测量，因此一个能与外界环境和干扰相对隔离的设备仪器对实验的结果测量时非常重要的。能够固定各种光学元件以及显微镜成像设备等的光学平台也成为科研实验中必备的产品。光学平台很主要的一个目标是消除平台上任意两个以上部件之间的相对位移。光学平台从功能上分为固定式和可调式；被动或主动式。青海气动光学平台定制
即使将光学平台视作刚体，该刚体的固有振动依然会触发光学调整架的自然振动，导致光路不稳定。青海气动光学平台定制
大理石光学平台材质脆弱，害怕硬物的撞击、敲打。所以平时应注意防止铁器等重物磕砸大理石平台工作面，以免出现凹坑，降低大理石光学平台，影响使用。定期以微湿带有温和洗涤剂的布擦拭，大理石平台清洁时应少用水。然后用清洁的软布抹干和擦亮。定期以微湿带有温和洗涤剂的布擦拭大理石平台工作面。对于油迹，可用乙醇(酒精)(木精)或打火机电油擦拭，然后清洗及弄干。大理石光学平台应实施定期检察恢复，视具体情况可为6-12个月，但至少一年检个修一次（要聘请专业人员来做）。青海气动光学平台定制
