硅光芯片耦合测试系统基本参数
  • 品牌
  • 勤确
  • 型号
  • 上海
硅光芯片耦合测试系统企业商机

硅光芯片耦合测试系统组件装夹完成后,通过校正X,Y和Z方向的偏差来进行的初始光功率耦合,图像处理软件能自动测量出各项偏差,然后软件驱动运动控制系统和运动平台来补偿偏差,以及给出提示,继续手动调整角度滑台。当三个器件完成初始定位,同时确认其在Z轴方向的相对位置关系后,这时需要确认输入光纤阵列和波导器件之间光的耦合对准。点击找初始光软件会将物镜聚焦到波导器件的输出端面。通过物镜及初始光CCD照相机,可以将波导输出端各通道的近场图像投射出来,进行适当耦合后,图像会被投射到显示器上。硅光芯片耦合测试系统硅光芯片的好处:程序和数据空间分开,可以同时访问指令和数据。河北射频硅光芯片耦合测试系统

河北射频硅光芯片耦合测试系统,硅光芯片耦合测试系统

在硅光芯片领域,芯片耦合封装问题是硅光子芯片实用化过程中的关键问题,芯片性能的测试也是至关重要的一步骤,现有的硅硅光芯片耦合测试系统系统是将硅光芯片的输入输出端硅光纤置于显微镜下靠人工手工移动微调架转轴进行调硅光,并依靠对输出硅光的硅光功率进行监控,再反馈到微调架端进行调试。芯片测试则是将测试设备按照一定的方式串联连接在一起,形成一个测试站。具体的,所有的测试设备通过硅光纤,设备连接线等连接成一个测试站。例如将VOA硅光芯片的发射端通过硅光纤连接到硅光功率计,使用硅硅光芯片耦合测试系统就可以测试硅光芯片的发端硅光功率。将硅光芯片的发射端通过硅光线连接到硅光谱仪,就可以测试硅光芯片的硅光谱等。河北射频硅光芯片耦合测试系统硅光芯片耦合测试系统保证产品质量一致性,节约了人力成本,降低对人工的依赖。

河北射频硅光芯片耦合测试系统,硅光芯片耦合测试系统

实验中我们经常使用硅光芯片耦合测试系统获得了超过50%的耦合效率测试以及低于-20dB的偏振串扰。我们还对一个基于硅条形波导的超小型偏振旋转器进行了理论分析,该器件能够实现100%的偏转转化效率,并拥有较大的制造容差。在这里,我们还对利用侧向外延生长硅光芯片耦合测试系统技术实现Ⅲ-Ⅴ材料与硅材料混集成的可行性进行了初步分析,并优化了诸如氢化物气相外延,化学物理抛光等关键工艺。在该方案中,二氧化硅掩膜被用来阻止InP种子层中的线位错在外延生长中的传播。初步实验结果和理论分析证明该集成平台对于实现InP和硅材料的混合集成具有比较大的吸引力。

硅光芯片耦合测试系统是比较关键的,我们的客户非常关注此工位测试的严谨性,硅光芯片耦合测试系统主要控制“信号弱”,“易掉话”,“找网慢或不找网”,“不能接听”等不良机流向市场。一般模拟用户环境对设备EMC干扰的方法与实际使用环境存在较大差异,所以“信号类”返修量一直占有较大的比例。可见,硅光芯片耦合测试系统是一个需要严谨的关键岗位,在利用金机调好衰减(即线损)之后,功率无法通过的,必须进行维修,而不能随意的更改线损使其通过测试,因为比较可能此类机型在开机界面显示满格信号而在使用过程中出现“掉话”的现象,给设备质量和信誉带来负面影响。以上是整机耦合的原理和测试存在的意义,也就是设备主板在FT测试之后,还要进行组装硅光芯片耦合测试系统的原因。下面再说一说硅光芯片耦合测试系统过程中常见的异常问题和处理思路。当三维的粗耦合结束后,在计算机地控制下,将光纤阵列和波导端面的距离调整到预先设定的距离,进行微耦合。

河北射频硅光芯片耦合测试系统,硅光芯片耦合测试系统

硅光芯片耦合测试系统这些有视觉辅助地初始光耦合的步骤是耦合工艺的一部分。在此工艺过程中,输入及输出光纤阵列和波导输入及输出端面的距离大约是100~200微米,以便通过使用机器视觉精密地校准预粘接间隙的测量,为后面必要的旋转耦合留出安全的空间。旋转耦合技术的原理。大体上来讲,旋转耦合是通过使用线性偏移测量及旋转移动相结合的方法,将输出光纤阵列和波导的的第1个及结尾一个通道进行耦合,并作出必要的更正调整。输出光纤阵列的第1个及结尾一个通道和两个光探测器相联接。硅光芯片耦合测试系统的优势:可视化杜瓦,可实现室温~4.2K变温环境下光学测试根据测试。云南光子晶体硅光芯片耦合测试系统机构

利用硅的高折射率差和成熟的制造工艺,硅光子学被认为是实现高集成度光子芯片的较佳选择。河北射频硅光芯片耦合测试系统

经过多年发展,硅光芯片耦合测试系统如今已经成为受到普遍关注的热点研究领域。利用硅的高折射率差和成熟的制造工艺,硅光子学被认为是实现高集成度光子芯片的较佳选择。但是,硅光子学也有其固有的缺点,比如缺乏高效的硅基有源器件,极低的光纤-波导耦合效率以及硅基波导明显的偏振相关性等都制约着硅光子学的进一步发展。针对这些问题,试图通过新的尝试给出一些全新的解决方案。首先我们回顾了一些光波导的数值算法,并在此基础上开发了一个基于柱坐标系的有限差分模式分析器,它非常适合于分析弯曲波导的本征模场。对于复杂光子器件结构的分析,我们主要利用时域有限差分以及波束传播法等数值工具。接着我们回顾了硅基光子器件各项主要的制造工艺和测试技术。重点介绍了几种基于超净室设备的关键工艺,如等离子增强化学气相沉积,电子束光刻以及等离子体干法刻蚀。为了同时获得较高的耦合效率以及较大的对准容差,本论文主要利用垂直耦合系统作为光子器件的主要测试方法。河北射频硅光芯片耦合测试系统

与硅光芯片耦合测试系统相关的**
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责