下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...
在制冷方面,压缩机是采用德国进口的压缩机。制冷系统由高温部分和低温部分组成,每一部分是一个相对的制冷系统。高温部分中制冷剂的蒸发吸收来自低温部分的制冷剂的热量而汽化;低温部分制冷剂的蒸发则从被冷却的对象(试验机内的空气)吸热以获取冷量。高温部分和低温部分之间是用一个蒸发冷凝器联系起来,它既是高温部分的冷凝器,也是低温部分的冷凝器。加热系统采用完全的镍铬合金电加热式,电阻率大、电阻温度系数小,在高温下变形小且不易脆化,自身加热温度可达1000~1500℃。试验箱的发展前景如何呢?成都试验箱
下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。 一、产品介绍 真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。 二、设计特点 1.后门设计热风电机 2.降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向 3.通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的。高低温低压试验箱参考价格试验箱的特点是什么?合肥真萍告诉您。
精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。下面为大家介绍一下真萍科技精密鼓风烤箱的箱体结构。1.本设备由室体、加热系统、电气控制系统、送风系统、保护系统等组成。2.箱体采用先进设备制作、业内优良工艺制造流程、线条流畅,美观大方。3.工作室材质为不锈钢SUS304材质,外箱材质为优良冷轧钢板,产品外壳采用环保金属漆喷制,整体设计美观大方,适合实验室的颜色搭配。4.工作室内搁架可随用户的要求任意调节高度以及搁架的数量。5.工作室与外箱之间的保温材料为优良超细玻璃纤维保温棉,保温层厚度:>70mm,隔温效果好,高性能的绝缘结构。从里到外有内腔、内壳、超细玻璃纤维、铝制反射铝箔片、空气夹层,内胆热量损失少。内胆外箱及门胆结构独特,极大减少了内腔热量的外传。
精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。真萍科技精密鼓风烤箱采用进口液晶显示控制器,产品采用综合的电磁兼容设计和人性化的菜单设计,使得设备操作完全傻瓜化,控温效果较好。高亮度宽视窗液晶显示,示值清晰、直观。微电脑智能控制。设定温度和时间后,仪表自行控制加热功率,并显示加热状态,控温精确而稳定。超温报警并自动切断加热电源。电器控制系统:1.电气控制元器件均采用国内出名品牌“正泰”2.电气线路设计新颖,合理布线,安全可靠3.箱体顶部为电气控制柜,方便于集中检查维修安全保护系统:1.超温报警2.欠相缺相保护3.过电流保护4.快速熔断器5.接地保护合肥真萍与您分享试验箱发挥的重要作用。
下面为大家介绍一下全自动HMDS真空烤箱的技术指标。1.HMDS管路加热功能,使HMDS液体进入箱体的前端管路加热,使转为HMDS气态时更易。2.低液报警装置,采用红外液体感测器,能及时灵敏给出指令(当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能)3.温度与PLC联动保护功能(当PLC没有启动程序时,加温功能启动不了,相反加温功能启动时,PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能,发出警报)4.整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料,整体使用无缝焊接(避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害)合肥真萍告诉您试验箱如何去使用呢?北京高低温恒定湿热试验箱
试验箱对如今市场的影响。成都试验箱
隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的技术参数。 1.送风方式:强制送风循环系统。 2.温度范围:RT+10℃~300℃。 3.温度精度:±1℃ 4.温度均匀性:±1℃ 5.温控装置:富士智能PID温控仪,LED数字显示,PID自动演算及定时。 6.材质:内胆不锈钢,外箱体钢板静电喷塑。 7.传送方式:链杆、链网、自动锟轮,相当强承重。 8.特制复合式电加热器。 9.保护装置:漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。成都试验箱
下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...
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