灰度光刻基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 类型
  • 双光子微纳光刻系统
  • 规格
  • QuantumX
  • 厂家
  • Nanoscribe
  • 产地
  • 德国
灰度光刻企业商机

Nanoscribe带领全球高精度微纳米3D打印 。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商,拥有多项**技术,为全球客户提供整套硬件,软件,打印材料和解决方案一站式服务。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商,拥有多项专项技术,为全球客户提供整套硬件,软件,打印材料和解决方案一站式服务。Nanoscribe的双光子聚合技术具有极高设计自由度和超高精度的特点,结合具备生物兼容特点的光敏树脂和生物材料,开发并制作真正意义上的高精度3D微纳结构,适用于生命科学领域的应用,如设计和定制微型生物医学设备的原型制作。基于双光子灰度光刻技术 (2GL ®)的Quantum X打印系统可以实现一气呵成的制作。湖南灰度光刻技术

湖南灰度光刻技术,灰度光刻

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状:晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。Photonic Professional GT2 结合了设计的灵活性和操控的简洁性,以及非常广的材料-基板选择。因此,它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备,适用于多用户共享平台和研究实验室。Nanoscribe的3D无掩模光刻机目前已经分布在30多个国家的前沿研究中,超过1,000个开创性科学研究项目是这项技术强大的设计和制造能力的特别好证明。黑龙江工业级灰度光刻微纳光刻了解更多关于灰度光刻技术各种应用,欢迎咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。

湖南灰度光刻技术,灰度光刻

Nanoscribe成立于2007年,凭借着尔斯鲁厄理工学院(KIT)的技术背景和卡尔蔡司公司(CarlZeissAG)的支持,经过十几年的不断研究和成长成为了现在世界公认的微纳米加工技术和3D打印市场的带领者,并于2017年在上海成立分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。公司主要产品有基于双光子聚合技术(Two-PhotonPolymerization)并拥有多项国际专项的双光子微纳3D打印系统PhotonicProfessionalGT2。全球头一台工业级双光子灰度光刻(2GL®)微纳打印设备QuantumX受到普遍关注并被众多高学府和高科技单位所采用,例如哈佛大学,牛津大学等出名的院校,华为公司等。可应用于微纳机器人,再生医学工程,微纳光学,力学超材料等不同领域。

Quantum X 新型超高速无掩模光刻技术的重要部分是Nanoscribe独有的双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺很大程度缩短了企业的设计迭代,打印样品结构既可以用作技术验证原型,也可以用作工业生产上的加工模具。而且Nanoscribe的Quantum X打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术 (2GL ®)的Quantum X打印系统可以实现一气呵成的制作,即一步打印多级衍射光学元件,并以经济高效的方法将多达4,096层的设计加工成离散的或准连续的拓扑。如需了解更多全新工业级双光子灰度光刻微纳打印系统Quantum X的内容,请咨询Nanoscribe中国分公司纳糯三维。

湖南灰度光刻技术,灰度光刻

    Nanoscribe双光子灰度光刻系统QuantumX,Nanoscribe的全球头一次创建的工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统QuantumX,适用于制造微光学衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球头一次创作工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统QuantumX,适用于制造微光学衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的双光子聚合微纳3D打印技术,斯图加特大学和阿德莱德大学的研究人员联手澳大利亚医学研究中心的科学家们新研发的微型内窥镜。将12050微米直径的微光学器件直接打印在光纤上,构建了一款功能齐全的超薄像差校正光学相干断层扫描探头。这是迄今有报道的尺寸低值排名优先的自由曲面3D成像探头,包括导管鞘在内的直径只为mm。 更多灰度光刻技术,欢迎您致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。湖南灰度光刻技术

Quantum X是全球头一台灰度光刻激光直写系统。湖南灰度光刻技术

    QuantumX新型超高速无掩模光刻技术的中心是Nanoscribe独有的双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺很大程度缩短了企业的设计迭代,打印样品结构既可以用作技术验证原型,也可以用作工业生产上的加工模具。这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到精细同步,这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小,并在不影响速度的情况下,使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性*结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。 湖南灰度光刻技术

纳糯三维科技(上海)有限公司一直专注于作为Nanoscribe在中国全资子公司,纳糯三维科技(上海)有限公司可进行三维打印科技领域内的技术开发,技术转让,技术咨询,技术服务,三维打印设备,光电机一体化设备和相关零配件的批发,进出口,佣金代理,并提供相关配套服务,贸易信息咨询,企业管理咨询。,是一家仪器仪表的企业,拥有自己**的技术体系。公司目前拥有专业的技术员工,为员工提供广阔的发展平台与成长空间,为客户提供高质的产品服务,深受员工与客户好评。公司业务范围主要包括:PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统等。公司奉行顾客至上、质量为本的经营宗旨,深受客户好评。一直以来公司坚持以客户为中心、PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统市场为导向,重信誉,保质量,想客户之所想,急用户之所急,全力以赴满足客户的一切需要。

与灰度光刻相关的**
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责