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轮廓仪基本参数
  • 产地
  • 中国
  • 品牌
  • 超纳/SUBNANO
  • 型号
  • NanoX-2000/3000,NanoX-8000
  • 是否定制
轮廓仪企业商机

轮廓仪的功能:

廓测量仪能够对各种工件轮廓进行长度、高度、间距、水平距离、垂直距离、角度、圆弧半径等几何参数测量。测量效率高、操作简单、适用于车间检测站或计量室使用。


白光轮廓仪的典型应用:

对各种产品,不见和材料表面的平面度,粗糙度,波温度,面型轮廓,表面缺 陷,磨损情况,腐蚀情况,孔隙间隙,台阶高度,完全变形情况,加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。


如果您想要了解更多的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 轮廓仪与粗糙度仪不是同一种产品,轮廓仪主要功能是测量零件表面的轮廓形状。研究所轮廓仪干涉测量应用

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    超纳轮廓仪的主设计简介:

中组部第十一批“****”****,美国KLA-Tencor(集成电路行业检测设备市场的**企业)***研发总监,干涉测量技术**美国上市公司ADE-Phaseift的总研发工程师,创造多项干涉测量数字化所需的关键算法,在光测领域发表23个美国专利和35篇学术论文3个研发的产品获得大奖,国家教育部***批公派研究生,83年留学美国。光学轮廓仪可广泛应用于各类精密工件表面质量要求极高的如:半导体、微机电、纳米材料、生物医疗、精密涂层、科研院所、航空航天等领域。可以说只要是微型范围内重点部位的纳米级粗糙度、轮廓等参数的测量,除了三维光学轮廓仪,没有其它的仪器设备可以达到其精度要求。(网络)。 研究所轮廓仪干涉测量应用共聚焦显微镜能够在纳米范围内获得高 分辨率。

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NanoX-8000 3D轮廓测量主要技术参数

3D测量主要技术指标(1):

测量模式: PSI + VSI + CSI

Z轴测量范围: 大行程PZT 扫描 (300um 标配/500um选配)

10mm 精密电机拓展扫描

CCD相机: 1920x1200 高速相机(标配)

干涉物镜: 2.5X, 5X, 10X(标配), 20X, 50X, 100X(NIKON )

物镜切换: 5孔电动鼻切换 FOV: 1100x700um(10X物镜), 220x140um(50X物镜)

Z轴聚焦: 高精密直线平台自动聚焦

照明系统: 高 效长寿白光LED + 滤色镜片电动切换(绿色/蓝色)

倾斜调节: ±5°电动调节

横向分辨率: ≥0.35μm(与所配物镜有关)

3D测量主要技术指标(2):

垂直扫描速度: PSI : <10s,VSI/CSI:< 38um/s

高度测量范围: 0.1nm – 10mm

表面反射率: > 0.5%

测量精度: PSI: 垂直分辨率 < 0.1nm

准确度 < 1nm

RMS重复性 < 0.01nm (1σ)

台阶高重复性:0.15nm(1σ)

VSI/CSI:垂直分辨率 < 0.5nm

准确度<1%

重复性<0.1% (1σ,10um台阶高)

轮廓仪产品概述:  

NanoX-2000/3000

系列 3D 光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量(PSI)、白光垂直扫描干涉测量(VSI)和单色光

垂直扫描干涉测量(CSI)等技术的基础上,以其纳米级测量准确度和重复性(稳定性)定量地反映出被测件的表面粗

糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加

工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。


想要了解更多的信息,请联系我们岱美仪器。 200到400个共焦图像通常在几秒内被捕获,之后软件从共焦图像的堆栈重建精确的三维高度图像。

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轮廓仪的培训

一、 培训承诺

    系统建成后,我公司将为业主提供为期1天的**培训和技术资询;培训地点可以在我公司,亦或在工程现场;

    系统操作及管理人员的培训人数为10人,由业主指定,我公司将确保相关人员正确使用该系统;


1.1. 培训对象

    系统操作及管理人员(培训对象须具有专业技术的技术人员或实际值班操作人员);

    其他业主指定的相关人员。


1.2. 培训内容

    系统操作使用说明书。

    培训课程的主要内容是系统的操作、系统的相关参数设定和修改和系统的维修与保养与简单升级等,具体内容如下:

    * 系统文档解读;

    * 系统的技术特点、安装维护和系统管理方式;

    * 系统一般故障排除。





NanoX-8000主设备尺寸:1290(W)x1390(D)x2190(H) mm。中芯国际轮廓仪有哪些品牌

轮廓仪可用于:微结构均匀性 缺 陷,表面粗糙度。研究所轮廓仪干涉测量应用

    比较椭圆偏振仪和光谱反射仪光谱椭圆偏振仪(SE)和光谱反射仪(SR)都是利用分析反射光确定电介质,半导体,和金属薄膜的厚度和折射率。两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光,而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。获取反射光谱指南入射光角度的不同造成两种技术在成本,复杂度,和测量能力上的不同。由于椭偏仪的光从一个角度入射,所以一定要分析反射光的偏振和强度,使得椭偏仪对超薄和复杂的薄膜堆有较强的测量能力。然而,偏振分析意味着需要昂贵的精密移动光学仪器。光谱反射仪测量的是垂直光,它忽略偏振效应(绝大多数薄膜都是旋转对称)。因为不涉及任何移动设备,光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。从下面表格可以看出,光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的优先,而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间,两种技术都可用。而且具有快速,简便,成本低特点的光谱反射仪通常是更好的选择。光谱反射率光谱椭圆偏振仪厚度测量范围1nm-1mm(非金属)-50nm(金属)*-(非金属)-50nm(金属)测量折射率的厚度要求>20nm(非金属)5nm-50nm(金属)>5nm(非金属)>。研究所轮廓仪干涉测量应用

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