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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

EVG ® 7200 LA大面积SmartNIL

® UV纳米压印光刻系统

用于大面积****的共形纳米压印光刻。

EVG7200大面积UV纳米压印系统使用EVG专有且经过量证明的SmartNIL技术,将纳米压印光刻(NIL)缩放为第三代(550 mm x 650 mm)面板尺寸的基板。对于不能减小尺寸的显示器,线栅偏振器,生物技术和光子元件等应用,至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济有效的方法,因为它不受光学系统的限制,并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。

SmartNIL利用非常强大且可控的加工工艺,提供了低至40 nm *的出色保形压印结果。凭借独特且经过验证的设备功能(包括****的易用性)以及高水平的工艺专业知识,EVG通过将纳米压印提升到一个新的水平来满足行业需求。

*分辨率取决于过程和模板 SmartNIL集成多次使用的软标记处理功能,并具有显着的拥有成本的优势,同时保留可扩展性和易于维护的特点。HERCULES NIL纳米压印国内用户

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纳米压印应用二:面板尺寸的大面积纳米压印

EVG专有的且经过大量证明的SmartNIL技术的***进展,已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为Gen 3(550 mm x 650 mm)的基板上实现。对于不能减小尺寸的显示器,线栅偏振器,生物技术和光子元件等应用,至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法,因为它不受光学系统的限制,并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。


内蒙古纳米压印推荐产品EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场**的晶圆键合技术。

HERCULES NIL纳米压印国内用户,纳米压印

HERCULES®NIL:完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产

■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸(分辨率取决于过程和模板)

■结合了预处理(清洁/涂布/烘烤/冷却)和SmartNIL®技术

■全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章

■具备工作印章制造能力


EVG®770:连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作

■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造,直至SmartNIL®的纳米结构

■不同类型的母版的简单实现

■可变的光刻胶分配模式

■分配,压印和脱模过程中的实时图像

■用于压印和脱模的原位力控制


    具体说来就是,MOSFET能够有效地产生电流流动,因为标准的半导体制造技术旺旺不能精确控制住掺杂的水平(硅中掺杂以带来或正或负的电荷),以确保跨各组件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一层二氧化硅(SiO2)衬底上,然后沉积一层金属或多晶硅制成的。然而这种方法可以不精确且难以完全掌控,掺杂有时会泄到别的不需要的地方,那样就创造出了所谓的“短沟道效应”区域,并导致性能下降。一个典型MOSFET不同层级的剖面图。不过威斯康星大学麦迪逊分校已经同全美多个合作伙伴携手(包括密歇根大学、德克萨斯大学、以及加州大学伯克利分校等),开发出了能够降低掺杂剂泄露以提升半导体品质的新技术。研究人员通过电子束光刻工艺在表面上形成定制形状和塑形,从而带来更加“物理可控”的生产过程。(来自网络。EVG紫外光纳米压印系统还有:EVG®7200LA,HERCULES®NIL,EVG®770,IQAligner®等。

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客户示范

■工艺开发

■材料测试

■与合作伙伴共同研发

■资助项目

■小批量试生产

■IP管理

■过程技术许可证

■流程培训

→世界前列的洁净室基础设施

→**的设备

→技术**

→**计量

→工艺知识

→应用知识

→与NIL的工作印模材料和表面化学有关的化学专业知识


新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案,并在显示器,生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。

岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制(制造)的***选择。量产纳米压印美元价

EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA是自动化的全场域纳米压印解决方案,适用于第3代基材。HERCULES NIL纳米压印国内用户

EVG ® 770分步重复纳米压印光刻系统

分步重复纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作


EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从**

大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合,分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。

EVG770的主要功能包括精确的对准功能,完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。 HERCULES NIL纳米压印国内用户

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纳米压印是一种用于工程与技术科学基础学科领域的工艺试验仪器,于2015年06月30日启用。
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