EVG ® 520 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印和纳米压印应用
自动化压花工艺
EVG专有的**对准工艺，用于光学对准的压印和压印
气动压花选项
软件控制的流程执行
EVG ® 520 HE技术数据
加热器尺寸：150毫米，200毫米
比较大基板尺寸：150毫米，200毫米
**小基板尺寸：单芯片，100毫米
比较大接触力：10、20、60、100 kN
比较高温度：标准：350°C；可选：550°C
粘合卡盘系统/对准系统
150毫米加热器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200
200毫米加热器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT
真空：
标准：0.1毫巴
可选：0.00001 mbar EVG的SmartNIL技术是基于紫外线曝光的全场压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术。全域纳米压印质量怎么样
EVG ® 620 NT特征：
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形补偿序列
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
敏捷处理和转换工具
台式或带防震花岗岩台的单机版
EVG ® 620 NT附加功能：
键对准
红外对准
SmartNIL
µ接触印刷技术数据
晶圆直径（基板尺寸）
标准光刻：比较大150毫米的碎片
柔软的UV-NIL：比较大150毫米的碎片
SmartNIL ®：在100毫米范围
解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程：软UV-NIL＆SmartNIL
®
曝光源：汞光源或紫外线LED光源
对准：
软NIL：≤±0.5 µm
SmartNIL ®：≤±3微米
自动分离：柔紫外线NIL：不支持；SmartNIL
®：支持
工作印章制作：柔软的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持
奥地利纳米压印国内代理EVG是纳米压印光刻（NIL）的市场**设备供应商。
该公司的高科技粘合剂以功能与可靠性闻名于世。根据客户的专门需求，公司对这些聚合物作出调整，使其具备其它特征。它们极其适合工业环境，在较短的生产周期时间内粘合各种微小的元件。此外，DELO紫外线LED固化设备与点胶阀的可靠度十分杰出。关于德路德路(DELO)是世界前列的工业粘合剂制造商，总部位于德国慕尼黑附近的Windach。在美国、中国、新加坡及日本均设有子公司。2019财政年，公司的780名员工创造了。该公司产品在全球范围内广泛应用于汽车、消费类电子产品与工业电子产品。几乎每一部智能手机与超过一半的汽车上都使用该公司产品。DELO的客户包括博世、戴姆勒、华为、欧司朗、西门子以及索尼等。关于EVGroup(EVG)EV集团(EVG)是为生产半导体、微机电系统(MEMS)、化合物半导体、功率器件以及纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的**供应商。该公司主要产品包括晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/纳米压印光刻技术（NIL）与计量设备，，以及涂胶机、清洗机与检测系统。EV集团创办于1980年，可为遍及全球的众多客户与合作伙伴提供各类服务与支持。
为了优化工艺链，HERCULES NIL中包括多次使用的软印章的制造，这是大批量生产的基石，不需要额外的压印印章制造设备。作为一项特殊功能，该工具可以升级为具有ISO 3 *功能的微型环境，以确保比较低的缺 陷率和比较高质量的原版复制。
通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案，HERCULES NIL增强了EVG在***积NIL设备解决方案中的领导地位。
*根据ISO 14644
HERCULES ® NIL特征：
批量生产**小40 nm *或更小的结构
联合预处理（清洁/涂层/烘烤/寒意）和SmartNIL ®
体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度
全自动压印和受控的低力分离，可很大程度地重复使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源，固化时间**快
优化的模块化平台可实现高吞吐量
*分辨率取决于过程和模板 EVG的纳米压印设备已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为第三代（550 mm x 650 mm）的基板上实现。
对于压印工艺，EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到比较大直径150 mm。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括用于印章的释放机构。EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的压印，该卡盘支持软性和硬性印模。
EVG610特征：
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形误差补偿机制
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
敏捷处理和光刻工艺之间的转换
台式或带防震花岗岩台的单机版
附加功能：
键对准
红外对准
纳米压印光刻
µ接触印刷
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA是自动化的全场域纳米压印解决方案，适用于第3代基材。晶片纳米压印实际价格
EVG紫外光纳米压印系统还有：EVG®7200LA，HERCULES®NIL，EVG®770，IQAligner®等。全域纳米压印质量怎么样
SmartNIL是一项关键的启用技术，可用于显示器，生物技术和光子应用中的许多新创新。例如，SmartNIL提供了****的全区域共形压印，以便满足面板基板上线栅偏振器的**重要标准。SmartNIL还非常适合对具有复杂纳米结构的微流控芯片进行高精度图案化，以支持下一代药 物研究和医学诊断设备的生产。此外，SmartNIL的***发展为制造具有比较高功能，**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度，这对于实现衍射光学元件（DOE）至关重要。
特征：
体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度
专有SmartNIL ®技术，多使用聚合物印模技术
经过生产验证的分辨率低至40 nm或更小
大面积全场压印
总拥有成本比较低
在地形上留下印记
对准能力
室温过程
开放式材料平台 全域纳米压印质量怎么样
