HERCULES ® NIL完全模块化和集成SmartNIL ® UV-NIL系统达300毫米
结合EVG的SmartNIL一个完全模块化平台®技术支持AR / VR,3D传感器,光子和生物技术生产应用
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的跟 踪系统,将清洁,抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG专有的SmartNIL大面积纳米压印光刻(NIL)工艺结合在一个平台上,用于直径比较大为300 mm的晶圆。它是***个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统,可为客户提供比较大的自由度来配置他们的系统,以比较好地满足其生产需求,包括200 mm和300 mm晶圆的桥接功能。
EVG®770可用于连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作。中国澳门纳米压印质保期多久
EVG ® 620 NT特征:
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形补偿序列
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和转换工具
台式或带防震花岗岩台的单机版
EVG ® 620 NT附加功能:
键对准
红外对准
SmartNIL
µ接触印刷技术数据
晶圆直径(基板尺寸)
标准光刻:比较大150毫米的碎片
柔软的UV-NIL:比较大150毫米的碎片
SmartNIL ®:在100毫米范围
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:软UV-NIL&SmartNIL
®
曝光源:汞光源或紫外线LED光源
对准:
软NIL:≤±0.5 µm
SmartNIL ®:≤±3微米
自动分离:柔紫外线NIL:不支持;SmartNIL
®:支持
工作印章制作:柔软的UV-NIL:外部:SmartNIL ®:支持
中国澳门纳米压印质保期多久EV Group 提供完整的UV 紫外光纳米压印光刻(UV-NIL)产品线。
对于压印工艺,EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到比较大直径150 mm。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外,还可以包括用于印章的释放机构。EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力,以实现高产量的压印,该卡盘支持软性和硬性印模。
EVG610特征:
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形误差补偿机制
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和光刻工艺之间的转换
台式或带防震花岗岩台的单机版
附加功能:
键对准
红外对准
纳米压印光刻
µ接触印刷
EVG ® 6200 NT是SmartNIL
UV纳米压印光刻系统。
用UV纳米压印能力设有EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统®技术范围达150m。这些系统以其自动化的灵活性和可靠性而著称,以**小的占地面积提供了**
新的掩模对准技术。操作员友好型软件,**短的掩模和工具更换时间以及高 效的全球服务和支持使它们成为任何研发环境(半自动批量生产)的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,并且可以选择背面对准。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。
EVG620 NT是以其灵活性和可靠性而闻名的,因为它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。
NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的相当有成本效益的方法,因为它不受光学光刻所需的复杂光学器件的限制,并且它可以为极小尺寸(小于100分)提供比较好图案保真度nm)结构。
EVG的SmartNIL是基于紫外线曝光的全场压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。另外,主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。
新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 纳米压印设备可用来进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。UV纳米压印国内用户
EVG ® 7200 LA是大面积SmartNIL ® UV紫外光纳米压印光刻系统。中国澳门纳米压印质保期多久
纳米压印光刻设备-处理结果:
新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案,并在显示器,生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。HRI SmartNIL®压印上的单个像素的1.AFM图像压印全息结构的AFM图像
资料来源:EVG与SwissLitho
AG合作(欧盟项目SNM)
2.通过热压花在PMMA中复制微流控芯片
资料来源:EVG
3.高纵横比(7:1)的10 µm柱阵列
由加拿大国家研究委 员会提供
4.L / S光栅具有优化的残留层,厚度约为10 nm
资料来源:EVG
5.紫外线成型镜片300 µm
资料来源:EVG
6.光子晶体用于LED的光提取
多晶硅的蜂窝织构化(mc-Si)
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形结构50 µm
资料来源:EVG
8.**小尺寸的光模块晶圆级封装
资料来源:EVG
9.光子带隙传感器光栅
资料来源:EVG(欧盟Saphely项目)
10.在强光照射下对HRISmartNIL®烙印进行完整的晶圆照相
资料来源:EVG 中国澳门纳米压印质保期多久