轮廓仪相关图片
  • 光刻机轮廓仪研发生产,轮廓仪
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轮廓仪基本参数
  • 产地
  • 中国
  • 品牌
  • 超纳/SUBNANO
  • 型号
  • NanoX-2000/3000,NanoX-8000
  • 是否定制
轮廓仪企业商机

NanoX-系列轮廓仪**性客户

• 集成电路相关产业

– 集成电路先进封装和材料:华天科技,通富微电子,江苏纳佩斯

半导体,华润安盛等

• MEMS相关产业

– 中科院苏州纳米所,中科电子46所,华东光电集成器件等

• 高 效太阳能电池相关产业

– 常州亿晶光电,中国台湾速位科技、山东衡力新能源等

• 微电子、FPD、PCB等产业

– 三星电机、京东方、深圳夏瑞科技等  



具备 Global alignment & Unit alignment

自动聚焦范围 : ± 0.3mm

XY运动速度 **快


如果有什么问题,请联系我们。


LED光源通过多***盘(MPD)和物镜聚焦到样品表面上,从而反射光。光刻机轮廓仪研发生产

光刻机轮廓仪研发生产,轮廓仪

轮廓仪的功能:

廓测量仪能够对各种工件轮廓进行长度、高度、间距、水平距离、垂直距离、角度、圆弧半径等几何参数测量。测量效率高、操作简单、适用于车间检测站或计量室使用。


白光轮廓仪的典型应用:

对各种产品,不见和材料表面的平面度,粗糙度,波温度,面型轮廓,表面缺 陷,磨损情况,腐蚀情况,孔隙间隙,台阶高度,完全变形情况,加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。


如果您想要了解更多的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 国产轮廓仪干涉测量应用仪器运用高性能内部抗震设计,不受外部环境影响测量的准确性。

光刻机轮廓仪研发生产,轮廓仪

轮廓仪产品应用

蓝宝石抛光工艺表面粗糙度分析(粗抛与精抛比较)

高精密材料表面缺 陷超精密表面缺 陷分析,核探测


Oled 特征结构测量,表面粗糙度  

外延片表面缺 陷检测

硅片外延表面缺 陷检测

散热材料表面粗糙度分析(粗糙度控制)


生物、医药新技术,微流控器件

微结构均匀性 缺 陷,表面粗糙度


移相算法的优化和软件系统的开发 本作品采用重叠平均移相干涉算法,保证了亚纳米量级的测量精度;优化软件控制系统,使每次检测时间压缩到10秒钟以内,同时完善的数据评价系统为用户评价产品面形质量提供了方便。

轮廓仪的**团队

夏勇博士,江苏省双创人才


15年ADE,KAL-Tencor半导体检测设备公司研发、项目管理经验


SuperSight Inc. CEO/共同创始人,太阳能在线检测设备

唐寿鸿博士,国家千人****


25年 ADE,KAL-Tencor半导体检测设备公司研发经验


KLA-Tencor ***研发总监,***图像处理、算法**

许衡博士,软件系统研发


10 年硅谷世界500强研发经验(BD Medical

Instrument)

光学测量、软件系统


岱美仪器与**组为您提供轮廓仪的技术支持,为您排忧解难。 NanoX-8000主设备尺寸:1290(W)x1390(D)x2190(H) mm。

光刻机轮廓仪研发生产,轮廓仪

轮廓仪的物镜知多少?  

白光干涉轮廓仪是基于白光干涉原理,以三维非接触时方法测量分析样片表面形貌的关键参数和尺寸,典型结果包括:


表面形貌(粗糙度,平面度,平行度,台阶高度,锥角等)

几何特征(关键孔径尺寸,曲率半径,特征区域的面积和集体,特征图形的位置和数量等)


白光干涉系统基于无限远显微镜系统,通过干涉物镜产生干涉条纹,使基本的光学显微镜系统变为白光干涉仪。  

因此物镜是轮廓仪****的部件,

物镜的选择根据功能和检测的精度提出需求,为了满足各种精度的需求,需要提供各种物镜,例如标配的10×, 还有2.5×,5×,20×,50×,100×,可选。  

不同的镜头价格有很大的差别,因此需要量力根据需求选配对应的镜头哦。


轮廓仪在晶圆的IC封装中的应用:

晶圆的IC制造过程可简单看作是将光罩上的电路图通过UV刻蚀到镀膜和感光层后的硅晶圆上这一过程,其中由于光罩中电路结构尺寸极小,任何微小的黏附异物和下次均会导致制造的晶圆IC表面存在缺 陷,因此必须对光罩和晶圆的表面轮廓进行检测,检测相应的轮廓尺寸。 每个共焦图像是通过样品的形貌的水平切片,在不同的焦点高度捕获图像产生这样的图像的堆叠。ADE轮廓仪自动化测量

轮廓仪可用于:散热材料表面粗糙度分析(粗糙度控制),生物、医药新技术,微流控器件。光刻机轮廓仪研发生产

NanoX-8000轮廓仪的自动化系统主要配置 :

▪ XY比较大行程650*650mm

➢ 支持415*510mm/510*610mm两种尺寸

▪ XY光栅分辨率 0.1um,定位精度 5um,重复精度

1um

▪ XY 平台比较大移动速度:200mm/s

▪ Z 轴聚焦:100mm行程自动聚焦,0.1um移动步进

▪ 隔振系统:集成气浮隔振 + 大理石基石

▪ 配置真空台面

▪ 配置Barcode 扫描板边二维码,可自动识别产品信息

▪ 主设备尺寸:1290(W)x1390(D)x2190(H) mm


如果想要了解更加详细的产品信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 光刻机轮廓仪研发生产

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