轮廓仪在晶圆的IC封装中的应用:
晶圆的IC制造过程可简单看作是将光罩上的电路图通过UV刻蚀到镀膜和感光层后的硅晶圆上这一过程,其中由于光罩中电路结构尺寸极小,任何微小的黏附异物和下次均会导致制造的晶圆IC表面存在缺 陷,因此必须对光罩和晶圆的表面轮廓进行检测,检测相应的轮廓尺寸。
白光轮廓仪的典型应用:
对各种产品,不见和材料表面的平面度,粗糙度,波温度,面型轮廓,表面缺 陷,磨损情况,腐蚀情况,孔隙间隙,台阶高度,完全变形情况,加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。
轮廓仪与粗糙度仪不是同一种产品,轮廓仪主要功能是测量零件表面的轮廓形状。氮化镓轮廓仪值得买

轮廓的角度处理:
角度处理:两直线夹角、直线与Y轴夹角、直线与X轴夹角点线处理:两直线交点、交点到直线距离、交点到交点距离、交点到圆心距离、交点到点距离圆处理:圆心距离、圆心到直线的距离、交点到圆心的距离、直线到切点的距离线处理:直线度、凸度、LG凸度、对数曲线 。
白光轮廓仪的典型应用:
对各种产品,不见和材料表面的平面度,粗糙度,波温度,面型轮廓,表面缺 陷,磨损情况,腐蚀情况,孔隙间隙,台阶高度,完全变形情况,加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。
氮化镓轮廓仪值得买NanoX-8000 的XY 平台比较大移动速度:200mm/s 。

NanoX-8000 系统主要性能
▪ 菜单式系统设置,一键式操作,自动数据存储
▪ 一键式系统校准
▪ 支持连接MES系统,数据可导入SPC
▪ 具备异常报警,急停等功能,报警信息可储存
▪ MTBF ≥ 1500 hrs
▪ 产能 : 45s/点 (移动 + 聚焦 + 测量)(扫描范围 50um)
➢ 具备 Global alignment & Unit alignment
➢ 自动聚焦范围 : ± 0.3mm
➢ XY运动速度 **快
表面三维微观形貌测量的意义
在生产中,表面三维微观形貌对工程零件的许多技术性能的评家具有**直接的影响,而且表面三维评定参数由于能更***,更真实的反应零件表面的特征及衡量表面的质量而越来越受到重视,因此表面三维微观形貌的测量就越显重要。通过兑三维形貌的测量可以比较***的评定表面质量的优劣,进而确认加工方法的好坏以及设计要求的合理性,这样就可以反过来通过知道加工,优化加工工艺以及加工出高质量的表面,确保零件使用功能的实现。
表面三位微观形貌的此类昂方法非常丰富,通常可分为接触时和非接触时两种,其中以非接触式测量方法为主。
轮廓仪的培训
一、 培训承诺
系统建成后,我公司将为业主提供为期1天的**培训和技术资询;培训地点可以在我公司,亦或在工程现场;
系统操作及管理人员的培训人数为10人,由业主指定,我公司将确保相关人员正确使用该系统;
1.1. 培训对象
系统操作及管理人员(培训对象须具有专业技术的技术人员或实际值班操作人员);
其他业主指定的相关人员。
1.2. 培训内容
系统操作使用说明书。
培训课程的主要内容是系统的操作、系统的相关参数设定和修改和系统的维修与保养与简单升级等,具体内容如下:
* 系统文档解读;
* 系统的技术特点、安装维护和系统管理方式;
* 系统一般故障排除。
NanoX-2000/3000 系列 3D 光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量(PSI)、白光垂直扫描干涉测量(VSI)和单色光。

轮廓仪的性能
测量模式
移相干涉(PSI),白光垂直扫描干涉(VSI),单色光垂直扫描干涉(CSI)
样 品 台
150mm/200mm/300mm 样品台(可选配)
XY 平移:±25mm/150mm/200mm/300mm,倾斜:±5°
可选手动/电动样品台
CCD 相机像素
标配:1280×960
视场范围
560×750um(10×物镜)
具体视场范围取决于所配物镜及 CCD 相机
光学系统
同轴照明无限远干涉成像系统
光 源
高 效 LED
Z 方向聚焦 80mm 手动聚焦(可选电动聚焦)
Z 方向扫描范围 精密 PZT 扫描(可选择高精密机械扫描,拓展达 10mm )
纵向分辨率 <0.1nm
RMS 重复性* 0.005nm,1σ
台阶测量** 准确度 ≤0.75%;重复性 ≤0.1%,1σ
横向分辨率 ≥0.35um(100 倍物镜)
检测速度 ≤ 35um/sec , 与所选的 CCD 200到400个共焦图像通常在几秒内被捕获,之后软件从共焦图像的堆栈重建精确的三维高度图像。氮化镓轮廓仪值得买
由于光罩中电路结构尺寸极小,任何微小的黏附异物和下次均会导致制造的晶圆IC表面存在缺 陷。氮化镓轮廓仪值得买
轮廓仪的自动拼接功能:
条件: 被测区域明显大于视场的区域,使用自动图片拼接。
需要点击自动拼接, 轮廓仪会把移动路径上的拍图自动拼接起来。
软件会自适应计算路径上移动的偏差,自动消除移动中偏差,减小误差。
但是误差是一定存在的。
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