轮廓仪，能描绘工件表面波度与粗糙度，并给出其数值的仪器，采用精密气浮导轨为直线基准。轮廓测试仪是对物体的轮廓、二维尺寸、二维位移进行测试与检验的仪器，作为精密测量仪器在汽车制造和铁路行业的应用十分***。（来自网络）
先进的轮廓仪集成模块
60年世界水平半导体检测技术研发和产业化经验
所有的关键硬件采用美国、德国、日本等
PI ，纳米移动平台及控制
Nikon，干涉物镜
NI，信号控制板和Labview64
控制软件
TMC 隔震平台
世界先进水平的计算机软硬件技术平台
VS2012/64位，.NET/C#/WPF
Intel Xeon 计算机
NanoX-8000 的XY 平台比较大移动速度：200mm/s 。晶片轮廓仪应用
轮廓仪对精密加工的意义
现代化高新技术的飞速发展离不开硬件设施和软件系统的配套支持，在精密加工领域同样如此，虽然我们在生活中不曾注意到超精密加工产品的“身影”，但是它却与我们的生活息息相关。例如在光学玻璃、集成电路、汽车零部件、机器人**器件、航空航天材料、****设备等领域，都需要对加工的成品进行检测，从物体表面光滑到粗糙的参数，其中包含了从纳米到微米级别的轮廓、线粗糙度、面粗糙度等二维、三维参数，作为评定该物件是否合格的标准。因此光学轮廓仪应运而生，以下是表面三维轮廓仪对精密加工的作用： 晶片轮廓仪研发生产轮廓仪在晶圆的IC封装中的应用。
白光干涉轮廓仪对比激光共聚焦轮廓仪
白光干涉3D显微镜：
干涉面成像，
多层垂直扫描
比较好高度测量精度：< 1nm
高度精度不受物镜影响
性价比好
激光共聚焦3D显微镜：
点扫描合成面成像，
多层垂直扫描
Keyence（日本）
比较好高度测量精度：～10nm
高度精度由物镜决定，1um精度@10倍
90万-130万
三维光学轮廓仪采用白光轴向色差原理（性能优于白光干涉轮廓仪与激光干涉轮廓仪）对样品表面进行快速、重复性高、高 分辨率的三维测量，测量范围可从纳米级粗糙度到毫米级的表面形貌，台阶高度，给MEMS、半导体材料、太阳能电池、医疗工程、制药、生物材料，光学元件、陶瓷和先进材料的研发和生产提供了一个精确的、价格合理的计量方案。（来自网络）
1.5. 系统培训的注意事项
如何使用电子书阅读软件和软、硬件的操作手册；
数据采集功能的讲解：通讯端口、连接计算器、等待时间等参数的解释和参数设置；
实际演示一一讲解；
如何做好备份和恢复备份资料；
当场演示各种报表的操作并进行操作解说；
数据库文件应定时作备份，大变动时更应做好备份以防止系统重新安装时造成资料数据库的流失；
在系统培训过程中如要输入一些临时数据应在培训结束后及时删除这些资料。
备注：系统培训完成后应请顾客详细阅读软件操作手册，并留下公司“客户服务中心”的电话与个人名片，以方便顾客电话联系咨询。 表面三维评定参数由于能更***，更真实的反应零件表面的特征。
表面三维微观形貌测量的意义
在生产中，表面三维微观形貌对工程零件的许多技术性能的评家具有**直接的影响，而且表面三维评定参数由于能更***，更真实的反应零件表面的特征及衡量表面的质量而越来越受到重视，因此表面三维微观形貌的测量就越显重要。通过兑三维形貌的测量可以比较***的评定表面质量的优劣，进而确认加工方法的好坏以及设计要求的合理性，这样就可以反过来通过知道加工，优化加工工艺以及加工出高质量的表面，确保零件使用功能的实现。
表面三位微观形貌的此类昂方法非常丰富，通常可分为接触时和非接触时两种，其中以非接触式测量方法为主。
每个共焦图像是通过样品的形貌的水平切片，在不同的焦点高度捕获图像产生这样的图像的堆叠。晶片轮廓仪应用
晶圆的IC制造过程可简单看作是将光罩上的电路图通过UV刻蚀到镀膜和感光层后的硅晶圆上这一过程。晶片轮廓仪应用
NanoX-系列轮廓仪**性客户
• 集成电路相关产业
– 集成电路先进封装和材料：华天科技，通富微电子，江苏纳佩斯
半导体，华润安盛等
• MEMS相关产业
– 中科院苏州纳米所，中科电子46所，华东光电集成器件等
• 高 效太阳能电池相关产业
– 常州亿晶光电，中国台湾速位科技、山东衡力新能源等
• 微电子、FPD、PCB等产业
– 三星电机、京东方、深圳夏瑞科技等
具备 Global alignment & Unit alignment
自动聚焦范围 ： ± 0.3mm
XY运动速度 **快
如果有什么问题，请联系我们。
晶片轮廓仪应用
岱美仪器技术服务（上海）有限公司属于仪器仪表的高新企业，技术力量雄厚。岱美中国是一家其他有限责任公司企业，一直“以人为本，服务于社会”的经营理念;“诚守信誉，持续发展”的质量方针。公司业务涵盖半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪，价格合理，品质有保证，深受广大客户的欢迎。岱美中国将以真诚的服务、创新的理念、***的产品，为彼此赢得全新的未来！
