厦门工业烤箱门配件

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。

柜体规格、配备：

1.左右双开门，3mm钢化玻璃，1mm厚不锈钢板，气密式隐藏锁把手。

2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭，脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。

3. 附高载重不锈钢隔板，柜体加装高载重煞车轮。

4.上掀式气密盖，方便 FFU保养及维修。

5.回风循环设计，单向氮气循环不产生紊流。

6.背面气密开门式设计，方便洁净清理与保养。 工业烤箱有什么特点？合肥真萍科技告诉您。厦门工业烤箱门配件

可靠的测控系统

1温度控制装置：进口温控器，内置PID自动整定，斜率设定功能

2温度控制方式为SSR固态继电器功率调整输出，温度采集探头为特制铠装K型热电偶

3温度监控装置：采用六通道巡回检测 有纸记录仪，可将烤箱内实时环境温度进行检测打印。

完善的控制系统，及安全防护措施

1操作控制系统，采用精密电子仪器仪表结合电力拖动系统控制，更快速，更稳定。

2防护措施：紧急停止，超温保护,断线报警，相序保护，过载保护，短路保护，漏电保护，及电磁门禁保护等 温州工业烤箱门配件工业烤箱生产厂家哪家好？合肥真萍科技告诉您。

下面为大家简单介绍一下洁净烘箱

本产品是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，普遍应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。

技术指标：

1 无尘等级：Class100：（符合FED-STD 209E标准：0.3um≤300个0.5≤100个）

2温度范围：+60℃~ +250℃（极限温度350℃）

3温度均匀性：±2℃（空箱测试）

4温度精确度：±1℃（空箱测试）

5设备型号规格:

450*450*450450*600*450600*800*600600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;

冷热冲击试验箱具有模拟大气环境中温度变化规律。主要针对于电工，电子产品，以及其元器件及其它材料在高温，低温综合环境下运输，使用时的适应性试验。用于产品设计，改进，鉴定及检验等环节。

真萍科技作为冷热冲击试验箱设备制造厂商，在冷热冲击试验箱设备制造领域的专业性是不用多说的。下面让真萍科技从温度方面，带您了解冷热冲击试验箱。一、温度波动度

    这个指标也有叫温度稳定度，控制温度稳定后，在给定任意时间间隔内，工作空间内任一点的较高和较低温度之差。这里有个小小的区别“工作空间”并不是“工作室”，是大约工作室去掉离箱壁各自边长的1/10的一个空间。这个指标考核产品的控制技术。

二、温度范围

     指产品工作室能耐受和(或)能达到的极限温度。通常含有能控制恒定的概念，应该是可以相对长时间稳定运行的极值。一般温度范围包括极限高温和极限低温。一般标准要求指标为≤1℃或±0.5℃。

三、温度均匀度

     旧标准称均匀度，新标准称梯度。温度稳定后，在任意时间间隔内，工作空间内任意两点的温度平均值之差的较大值。这个指标比下面的温度偏差指标更可以考核产品的**技术，因此好多公司的样本及方案刻意隐藏此项。一般标准要求指标为≤2℃。

合肥真萍科技的工业烤箱，值得推荐。

锂电池真空干燥箱产品描述：真空干燥箱，是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿，使工作室内形成真空状态，降低水的沸点，加快干燥的速度。

特点：

1、长方体工作室，增加有效容积，微电脑温度控制器，精确控温。

2、双层玻璃视窗观察工作室内物体，一目了然。

3、箱体闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。

4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成，确保产品经久耐用。

5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行，所以不会氧化。

真空程序分段控制

该型号机型，抽真空过程可提供程序化编程，根据客户要求编辑设定真空值，保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。

操作步骤

1，接通电源

2，产品送入腔体，关门

3，打开电源

4，工作温度设定好，启动加热，设备进入自动恒温状态

5，真空值和时间设定好后，启动真空泵，开始进入自动抽真空阶段

6，到达时间值后，真空泵自动关闭 选用定制工业烤箱有哪些好处呢？合肥真萍科技为您介绍。厦门工业烤箱门配件

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石墨盘烤盘炉

一.产品介绍

真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。

二、设计特点

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的

三、技术指标

1、使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；

2、绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；

4、加热元件：石墨加热棒；

5、冷却方式：气冷 + 循环风冷降温；

6、控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能；

7、炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）；

8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；

9、极限真空: 10-3torr级；

10、抽气速率：空载下，30min达到10-2torr

11、升温功率：170kW；

12、升温速率：15℃/min（空载）；

13、降温速率：1450℃至80℃,240分钟

14、腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高） 厦门工业烤箱门配件