芜湖工业烤箱温度不均匀

锂电池真空干燥箱产品描述：真空干燥箱，是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿，使工作室内形成真空状态，降低水的沸点，加快干燥的速度。

特点：

1、长方体工作室，增加有效容积，微电脑温度控制器，精确控温。

2、双层玻璃视窗观察工作室内物体，一目了然。

3、箱体闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。

4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成，确保产品经久耐用。

5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行，所以不会氧化。

真空程序分段控制

该型号机型，抽真空过程可提供程序化编程，根据客户要求编辑设定真空值，保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。

操作步骤

1，接通电源

2，产品送入腔体，关门

3，打开电源

4，工作温度设定好，启动加热，设备进入自动恒温状态

5，真空值和时间设定好后，启动真空泵，开始进入自动抽真空阶段

6，到达时间值后，真空泵自动关闭 合肥真萍科技为您提供专业质量服务。芜湖工业烤箱温度不均匀

石墨盘烤盘炉

一.产品介绍

真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。

二、设计特点

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的

三、技术指标

1、使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；

2、绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；

4、加热元件：石墨加热棒；

5、冷却方式：气冷 + 循环风冷降温；

6、控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能；

7、炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）；

8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；

9、极限真空: 10-3torr级；

10、抽气速率：空载下，30min达到10-2torr

11、升温功率：170kW；

12、升温速率：15℃/min（空载）；

13、降温速率：1450℃至80℃,240分钟

14、腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高） 温州工业烤箱卖为您推荐工业烤箱的专业生产厂家。

产品名称：洁净烘箱

产品介绍：本产品是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，普遍应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。

技术指标：

1 无尘等级：Class100：（符合FED-STD 209E标准：0.3um≤300个0.5≤100个）

2温度范围：+60℃~ +250℃（极限温度350℃）

3温度均匀性：±2℃（空箱测试）

4温度精确度：±1℃（空箱测试）

5设备型号规格:

450*450*450450*600*450600*800*600600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;

下面为大家介绍一下高温无氧固化烘箱。

无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、***、船舶、电子、通讯等科研及生产单位，主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化，模压固烤、IC（晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别）、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干，电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。

1、技术指标与基本配置：

1.1使用温度：RT～260℃，极限温度：300℃；

1.2炉膛腔数:2个,上下布置；

1.3炉膛材料：SUS304镜面不锈钢；加热元件：不锈钢加热器；热偶：K分度

1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪；

2、氧含量（配氧分析仪）：

2.1高温状态氧含量：≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量：≤ 20ppm +气源氧含量

2.2控温稳定度：±1℃； 2.3温度均匀度：±2%℃（260℃平台）；

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质量连续炉的产品特点：

1、双边配有链条传动，解决传送过程中跑偏的现象；

2、烘箱分段式加热，**电箱控制，方便操作，结构主要由输送机系统与烘干炉两大部分组成，多段**；

3、PID温度控制，炉内温度均匀；

4、输送速度变频调速，调节自如，运行平稳，产能高；

5、每段**箱体设置废气排放接口，可外接到车间外面，避免车间废气污染。

质量连续炉的术参数：

1、送风方式：送风循环系统；

2、温度范围：RT+30℃~300℃；

3、温度精度：±1℃

4、温度均匀性：±1℃

5、温控装置：富士智能PID温控仪，LED数字显示，PID自动演算及定时；

6、材质：内胆不锈钢，外箱体钢板静电喷塑；

7、传送方式：链杆、链网、自动锟轮，相当强承重；

8、复合式电加热器；

9、保护装置：漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。 设备适用于产品或材料及电气、仪表、电子、电工及汽车、航空在恒温条件下作干燥和各种恒温适应性试验。漳州大型工业烤箱

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HMDS真空烤箱整机尺寸、真空腔体尺寸：

1. 内胆尺寸：650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;

2. 载物托架：2块

3.室温+10℃-250℃   控温范围：温度分辨率：0.1℃   温度波动度：±0.5℃

4. 真空泵：油泵或无油真空泵。真空度：133pa，

5. 加热方式：腔体下部及两侧加温。加热器为外置加热板（防止一侧加热使的HMDS液进入箱体内不能完本转成气态）

6. 可放2寸晶圆片或4寸晶圆片；6寸晶圆片；8寸晶圆片等。

7.开箱温度可以由user自行设定来降低process时间（正常工艺在50分钟-120分钟（按产品所需而定烘烤时间），为正常工作周期不含降温时间（因降温时间为 常规降温）。 芜湖工业烤箱温度不均匀