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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用

自动化压花工艺

EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印

完全由软件控制的流程执行

闭环冷却水供应选项

外部浮雕和冷却站


EVG ® 510 HE技术数据:

加热器尺寸:150毫米 ,200毫米

比较大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:单芯片,100毫米

比较大接触力:10、20、60 kN

比较高温度:标准:350°C;可选:550°C

夹盘系统/对准系统

150毫米加热器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加热器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

标准:0.1毫巴


可选:0.00001 mbar


NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的相当有成本效益的方法。CMOS纳米压印推荐型号

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纳米压印应用二:面板尺寸的大面积纳米压印

EVG专有的且经过大量证明的SmartNIL技术的***进展,已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为Gen 3(550 mm x 650 mm)的基板上实现。对于不能减小尺寸的显示器,线栅偏振器,生物技术和光子元件等应用,至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法,因为它不受光学系统的限制,并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。


安徽纳米压印三维芯片应用EVG先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求,因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。

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纳米压印光刻(NIL)技术

EVG是纳米压印光刻(NIL)设备和集成工艺的市场**供应商。EVG从19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。NIL是产生纳米尺度分辨率图案的**有前途且相当有成本效益的工艺,可用于生物MEMS,微流体,电子学以及**近各种衍射光学元件的各种商业应用。


其中EVG紫外光纳米压印系统型号包含:

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®


热压纳米压抑系统型号包含:

EVG®510HE

EVG®520HE


详细的参数,请联系我们岱美有限公司。


    NIL系统肖特增强现实负责人RuedigerSprengard博士表示:“将高折射率玻璃晶圆的制造扩展到300-mm,对于实现我们客户满足当今和未来**AR/MR设备不断增长的市场需求所需的规模经济产量来说至关重要。通过携手合作,EVG和肖特彰显了当今300-mm高折射率玻璃制造的设备和供应链的就绪性。”在此之前,使用光刻/纳米压印技术对具有光子学应用结构的玻璃基板进行图案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圆加工的迁移是将AR/MR头戴显示设备推向大众消费和工业市场迈出的重要一步。不过,在这些较大的基板上保持高基板质量和工艺均匀性是很难控制的,需要先进的自动化和工艺控制能力。EVG的SmartNIL技术得益于多年的研究、开发和实验,旨在满足纳米图案成形的需求,经过了现场验证,能够轻松从晶圆级样品尺寸扩展到大面积基板。去年六月,EVG推出了HERCULES®NIL300mm,将SmartNIL引入300-mm制造,满足各种设备和应用的生产需求,其中包括AR、MR和虚拟现实(VR)头戴显示设备的光学器件以及3D传感器、生物医疗设备、纳米光子学和等离子电子学。集成到SmartNIL®UV-NIL系统的全模块化EVG®HERCULES®。SmartNIL 非常适合对具有复杂纳米结构微流控芯片进行高精度图案化,用在下一代药 物研究和医学诊断设备生产。

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    NIL300mmEV集团企业技术开发和知识产权总监MarkusWimplinger表示:“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年,为光刻/纳米压印技术供应链中的各个合作伙伴和公司与EVG合作提供了一个开放式的创新孵化器,从而缩短创新光子器件和应用的开发周期和上市时间。我们很高兴与肖特公司合作,证明EVG光刻/纳米压印技术解决方案的价值,不仅有助于新技术和新工艺的开发,还能够加速新技术和新工艺在大众市场中的采用。我们正在携手肖特开展的工作,彰显了光刻/纳米压印技术设备和工艺的成熟性,为各种令人兴奋的基于光子学的新产品和新应用的300-mm制造奠定了基础。”SCHOTTRealView™高折射率玻璃晶圆是**AR/MR设备的关键组件,已经实现了批量生产。产品组合提供了高达,支持深度沉浸的AR/MR应用,视野更广,高达65度。在与增强现实硬件制造商进行多年研发之后,肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView™。这款**产品在上市一年后便荣获了享有盛誉的2019年SID显示行业奖(SIDDisplayIndustryAward2019)。关于肖特肖特是特种玻璃、微晶玻璃和相关高科技材料领域的**国际技术集团。公司积累了超过130年的经验,是众多行业的创新合作伙伴。**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度,这对于实现衍射光学元件(DOE)至关重要。微透镜纳米压印代理价格

SmartNIL集成多次使用的软标记处理功能,并具有显着的拥有成本的优势,同时保留可扩展性和易于维护的特点。CMOS纳米压印推荐型号

EVG ® 6200 NT特征:

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和转换工具

台式或带防震花岗岩台的单机版


EVG ® 6200 NT附加功能:

键对准

红外对准

智能NIL ®

µ接触印刷技术数据

晶圆直径(基板尺寸)

标准光刻:75至200 mm

柔软的UV-NIL:75至200毫米

SmartNIL ®:**多至150mm

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:软UV-NIL&SmartNIL

®


曝光源:汞光源或紫外线LED光源

对准:软NIL:≤±0.5 µm;SmartNIL ®:≤±3微米

自动分离:柔紫外线NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔软的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持


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岱美仪器技术服务(上海)有限公司坐落在金高路2216弄35号6幢306-308室,是一家专业的磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 公司。目前我公司在职员工以90后为主,是一个有活力有能力有创新精神的团队。公司业务范围主要包括:半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪等。公司奉行顾客至上、质量为本的经营宗旨,深受客户好评。公司深耕半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪,正积蓄着更大的能量,向更广阔的空间、更宽泛的领域拓展。

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