山西光刻机可以免税吗

EVG的光刻机技术：EVG在光刻技术上的关键能力在于其掩模对准器的高产能，接触和接近曝光功能以及其光刻胶处理系统的内部处理的相关知识。EVG的所有光刻设备平台均支持300毫米的晶圆，可以完全集成到其HERCULES光刻轨道系统中，并配有用于从上到下的侧面对准验证的度量工具。

EVG不断展望未来的市场趋势，因此提供了针对特定应用的解决方案，尤其是在光学3D传感和光子学市场中，其****的EVG的工艺和材料专业知识-源自对各种光刻胶材料进行的广/泛优化研究。了解客户需求并提供有效的全球支持是EVG光刻解决方案成功的重要因素。 岱美是EVG光刻机在中国的代理商，提供本地化的质量服务。山西光刻机可以免税吗

EVG6200 NT附加功能：

键对准

红外对准

纳米压印光刻（NIL）

EVG6200 NT技术数据：

曝光源

汞光源/紫外线LED光源

先进的对准功能

手动对准/原位对准验证

自动对准

动态对准/自动边缘对准

对准偏移校正算法

EVG6200 NT产能：

全自动：第/一批生产量：每小时180片

全自动：吞吐量对准：每小时140片晶圆

晶圆直径（基板尺寸）：高达200毫米

对准方式：

上侧对准：≤±0.5 µm

底侧对准：≤±1,0 µm

红外校准：≤±2,0 µm /具体取决于基板材料

键对准：≤±2,0 µm

NIL对准：≤±3.0 µm

曝光设定：真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式

楔形补偿：全自动软件控制

曝光选项：间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光

系统控制

操作系统：Windows

文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数

多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR

实时远程访问，诊断和故障排除

工业自动化功能：盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，弯曲，翘曲，边缘晶圆处理

纳米压印光刻技术：SmartNIL 广西高级封装光刻机OmniSpray涂层技术是对高形晶圆表面进行均匀涂层。

EVG6200 NT特征：

晶圆/基板尺寸从小到200 mm /8''

系统设计支持光刻工艺的多功能性

在第/一次光刻模式下的吞吐量高达180 WPH，在自动对准模式下的吞吐量高达140 WPH

易碎，薄或翘曲的多种尺寸的晶圆处理，更换时间短

带有间隔垫片的自动无接触楔形补偿序列

自动原点功能，用于对准键的精确居中

具有实时偏移校正功能的动态对准功能

支持**/新的UV-LED技术

返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统

自动化系统上的手动基板装载功能

可以从半自动版本升级到全自动版本

**小化系统占地面积和设施要求

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

先进的软件功能以及研发与全/面生产之间的兼容性

便捷处理和转换重组

远程技术支持和SECS / GEM兼容性

台式或带防震花岗岩台的单机版

曝光光学：提供不同配置的曝光光学系统，旨在实现任何应用的**/大灵活性。汞灯曝光光学系统针对150，200和300 mm基片进行了优化，可与各种滤光片一起用于窄带曝光要求，例如i-，g-和h-线滤光片，甚至还有深紫外线。 HERCULES 全电动顶部和底部分离场显微镜支持实时、大间隙、晶圆平面或红外对准，在可编程位置自动定位。

IQ Aligner特征：

晶圆/基板尺寸从小到200 mm /

8''

由于外部晶圆楔形测量，实现了非接触式接近模式

增强的振动隔离，有效减少误差

各种对准功能提高了过程灵活性

跳动控制对准功能，提高了效率

多种晶圆尺寸的易碎，薄或翘曲的晶圆处理

高地表形貌晶圆加工经验

手动基板装载能力

远程技术支持和SECS / GEM兼容性

IQ Aligner附加功能：

红外对准–透射和/或反射

IQ Aligner技术数据：

楔形补偿：全自动软件控制

非接触式

先进的对准功能：自动对准；大间隙对准；跳动控制对准；动态对准 EVG610 掩模对准系统，支持的晶圆尺寸：100 mm / 150 mm / 200 mm。进口光刻机国内代理

除了光刻机之外，岱美还代理了EVG的键合机等设备。山西光刻机可以免税吗

EVG ® 610曝光源：

汞光源/紫外线LED光源

楔形补偿

全自动软件控制

晶圆直径（基板尺寸）

高达100/150/200毫米

曝光设定：

真空接触/硬接触/软接触/接近模式

曝光选项：

间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光

先进的对准功能：

手动对准/原位对准验证

手动交叉校正

大间隙对准

EVG ® 610光刻机系统控制：

操作系统：Windows

文件共享和备份解决方案/无限制程序和参数

多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR

实时远程访问，诊断和故障排除

使用的纳米压印光刻技术为“无紫外线” 山西光刻机可以免税吗

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