工业烤箱的基本原理是使用红外辐射加热物品。烤箱内部通常装有电热元件,通过电流加热后产生红外辐射,将热能传递给物品,使其达到所需温度。烤箱内部还会配备通风设备,以确保空气流通,使物品均匀受热。工业烤箱的结构设计通常包括热风循环系统、温度测量和控制系统。热风循环系统由电热器、送风马达和风轮组...
HMDS真空烤箱主要技术指标:
1. 机外壳采用冷扎钢板喷塑处理,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。
2. 箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。
3. 微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。
4. 智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。
5.HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。整个系统采用质量材料制造,无发尘材料,适用100级光刻间净化环境。
6 HMDS管路加热功能,使HMDS液体进入箱体的前端管路加热,使转为HMDS气态时更易。
7. 低液报警装置,采用红外液体感测器,能及时灵敏给出指令(当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能)
8. 温度与PLC联动保护功能(当PLC没有启动程序时,加温功能启动不了,相反加温功能启动时,PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能,发出警报)
9.整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料,整体使用无缝焊接(避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害)
合肥真萍科技简述工业烤箱规范标准。上海工业烤箱非标定制
HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。
增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。 无尘工业烤箱门把手合肥真萍科技工业烤箱价格更优惠。
真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。
氮气监控系统:
1.1、2.3” LED 大屏幕数字显示湿度/温度。
1.2 、温湿度显示值0.1%-99.9%RH,温度显示值0.1℃-60.0℃。
1.3 、温湿度收集采准确传感器,长距离传输无误差。
1.4 、湿度控制:
2.4.1利用湿度设定值来控制氮气流入,到达湿度设定值即停止进气,节省氮气耗用。
2.4.2湿度在1%-60%RH 可调整。
1.5、温湿度记录功能:
2.5.1内建内存,可储存温度/湿度,收集时间1~240 分钟可自行设定。
2.5.2可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。
2.5.3 品管记录格式设计,有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。
1.6、湿度警报系统:
1.6.1可设定启动警报的湿度值及条件,内配蜂鸣器(90分贝)及闪烁警示功能。
1.6.2可另外选配积层式警示灯。
1.7、温湿度偏移校正功能:内建校正功能,确保显示准确度。
真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。
二、设计特点
1、后门设计热风电机
2、降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向
3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的
三、技术指标
1、使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃;
2、绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸;
4、加热元件:石墨加热棒;
5、冷却方式:气冷 + 循环风冷降温;
6、控温稳定度:±2℃,具有PID参数自整定功能;
7、炉膛温度均匀度:±5℃(恒温1500℃);
8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%;
9、极限真空: 10-3torr级;
10、抽气速率:空载下,30min达到10-2torr
11、升温功率:170kW;
12、升温速率:15℃/min(空载);
13、降温速率:1450℃至80℃,240分钟
14、腔体尺寸:1000*1000*1000mm(宽*深*高) 工业烤箱如何选择?合肥真萍科技告诉您。
中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理。
一、热工系统
1.额定温度 800℃
2.较高温度 850℃
3.加热元件 陶瓷外丝加热管
4.加热功率 18kw
5.空炉保温功率 约 9kw
6.温区个数 1 个
7.控温点数 2 点
8.热偶 K 分度
9.控温稳定度 ±1℃(恒温平台)
10.炉膛温度均匀度 ±6℃(恒温 800℃,1h)
二、气氛系统
1.炉膛气氛 2 路氮气,流量计量程为 2~20L/min;每路流量可调节
2.排气系统 在炉膛顶部设置一个排气*囱,用于废气排放,废气
3.经过水封清洗后进入大气中,减少对环境污染
4.氧含量 配氧含量分析仪分析氧含量:
5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量
6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量
三、冷却系统
1.冷却结构 无
2.产品降温 随炉降温
3.安全保护
4.报警指示 超温、断偶、停水、停气等声光报警保护
5.设备安全升温速率 ≤5℃/min
四、温度控制系统
1.温度测量 采用 K 分度热偶测量
2.控制仪表 采用进口智能调节仪控制。具有 PID 参数自整定、高温
3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能
4.控制方式 固态继电器过零控制
5.超温处理 ⑴.当测量温度超过设定的安全值时,断加热,并报警。
⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时,报警。 工业烤箱选购应该注意哪些呢?合肥真萍科技告诉您。无尘工业烤箱门把手
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