EVG ® 7200 LA特征:
专有SmartNIL ®技术,提供了****的印迹形大面积
经过验证的技术,具有出色的复制保真度和均匀性
多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本
强大且精确可控的处理
与所有市售的压印材料兼容
EVG ® 7200 LA技术数据:
晶圆直径(基板尺寸):直径200毫米(比较大Gen3)(550 x 650毫米)
解析度:40 nm-10 µm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:SmartNIL ®
曝光源:大功率窄带(> 400 mW /cm²)
对准:可选的光学对准:≤±15 µm
自动分离:支持的
迷你环境和气候控制:可选的
工作印章制作:支持的
EVG是纳米压印光刻(NIL)的市场**设备供应商。三维芯片纳米压印联系电话

IQ Aligner UV-NIL特征:
用于光学元件的微成型应用
用于全场纳米压印应用
三个**控制的Z轴,可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿
三个**控制的Z轴,用于压印抗蚀剂的总厚度变化(TTV)控制
利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺
EVG专有的全自动浮雕功能
抵抗分配站集成
粘合对准和紫外线粘合功能
IQ Aligner UV-NIL技术数据:
晶圆直径(基板尺寸):150至300毫米
解析度:≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:柔软的UV-NIL,镜片成型
曝光源:汞光源
对准:≤±0.5微米
自动分离:支持的
前处理:涂层:水坑点胶(可选)
迷你环境和气候控制:可选的
工作印章制作:支持的
低温纳米压印推荐型号EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场**的晶圆键合技术。

EVG610特征:
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形误差补偿机制
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和光刻工艺之间的转换
台式或带防震花岗岩台的单机版
EVG610附加功能:
键对准
红外对准
纳米压印光刻
µ接触印刷
EVG610技术数据:
晶圆直径(基板尺寸)
标准光刻:比较大150毫米的碎片
柔软的UV-NIL:比较大150毫米的碎片
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:柔软的UV-NIL
曝光源:汞光源或紫外线LED光源
自动分离:不支持
工作印章制作:外部
EVG ® 770分步重复纳米压印光刻系统
分步重复纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作
EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从**
大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合,分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。
EVG770的主要功能包括精确的对准功能,完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。 EVG提供不同的***积压印系统,大面积压印机,微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。

EVG ® 510 HE热压印系统
应用:高度灵活的热压印系统,用于研发和小批量生产
EVG510 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。该设备配置有通用压花室以及真空和接触力功能,并管理适用于热压印的全部聚合物。结合高纵横比压印和多种脱压选项,提供了许多用于高质量纳米图案转印的工艺。
EVG ® 510 HE特征:
用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用
自动化压花工艺
EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印
完全由软件控制的流程执行
闭环冷却水供应选项
外部浮雕和冷却站 SmartNIL集成多次使用的软标记处理功能,并具有显着的拥有成本的优势,同时保留可扩展性和易于维护的特点。三维芯片纳米压印联系电话
EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制(制造)的***选择。三维芯片纳米压印联系电话
UV纳米压印光刻系统
EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统
■高精度对准台
■自动楔形误差补偿机制
■电动和程序控制的曝光间隙
■支持***的UV-LED技术
■**小化系统占地面积和设施要求
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自动化的全场纳米压印解决方案,适用于第3代基材
■体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度
■专有的SmartNIL®技术和多用途聚合物印章技术
■集成式压印,UV固化,脱模和工作印模制作
■盒带间自动处理以及半自动研发模式
■适用于所有市售压印材料的开放平台
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