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下面为大家介绍一下石墨盘**真空烤盘炉的技术指标。 1.使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃； 2.绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸； 3.加热元件：石墨加热棒； 4.冷却方式：气冷 + 循环风冷降温； 5.控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能； 6.炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）； 7.气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%； 8.极限真空: 10-3torr级； 9.抽气速率：空载下，30min达到10-2torr 10.升温功率：170kW； 11.升温速率：15℃/min（空载）； 12.降温速率：1450℃至80℃,240分钟 13.腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高）存储柜的运作原理是什么？蚌埠存储柜市面价

中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理，下面为大家介绍一下中温气氛箱式炉的系统配置。 一、热工系统 1.额定温度 800℃ 2.较高温度 850℃ 3.加热元件 陶瓷外丝加热管 4.加热功率 18kw 5.空炉保温功率 约 9kw 6.温区个数 1 个 7.控温点数 2 点 8.热偶 K 分度 9.控温稳定度 ±1℃(恒温平台) 10.炉膛温度均匀度 ±6℃（恒温 800℃,1h） 二、冷却系统 1.冷却结构 无 2.产品降温 随炉降温 3.安全保护 4.报警指示 超温、断偶、停水、停气等声光报警保护 5.设备安全升温速率 ≤5℃/min蚌埠存储柜市面价存储柜制作原理是什么呢？合肥真萍科技为您专业解答。

电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的技术参数。 产品类型：数显微电脑控制 电源电压：AC 220V±10％ 50Hz±2％ 温控范围：室温+10℃-250℃ 温度分辨率：0.1℃ 温度波动率：≤±0.5℃ 温度均匀度：≤±2℃ 输入功率：500W 内胆尺寸(mm)：W300×D300×H270 外形尺寸(mm)：W580×D480×H440 载物托架：2块 定时范围：0-9999分钟

真萍科技洁净烘箱是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。下面为大家介绍一下洁净烘箱的技术指标。 1.无尘等级：Class100：（符合FED-STD 209E标准：0.3um≤300个0.5≤100个） 2.温度范围：+60℃~ +250℃（极限温度350℃） 3.温度均匀性：±2℃（空箱测试） 4.温度精确度：±1℃（空箱测试） 5.设备型号规格:450*450*450；450*600*450；600*800*600；600*700*600;700*900*700; 700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000; 1000*1300*1000;1000*1400*1000;合肥真萍科技****，真诚推荐选择。

隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的产品特性。 1.采用智能型温度控制模块，PID自动演算，LED显示，配合SSR大功率可控硅输出，能精确控制温度之精细度； 2.分段控制（当到达设定温度时可任意关掉其中几段发热管，降低加热功率，其达到省电效果）； 3.内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢(清洁无尘，防生锈、耐腐蚀)，外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板(强度、塑性和焊接综合性能相当好)； 4.整机控制系统采用触摸屏加PLC程序控制，设备加热、运风、传动、自动门开关均采用智能控制，有效防止失误动作； 5.当实际检测温度超过超温保护温控器设定值时，自动切断加热电源，起到双重保护功能。存储柜厂家直销定制，价格从优。蚌埠存储柜市面价

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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。   增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。蚌埠存储柜市面价

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