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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

纳米压印光刻(NIL)技术

EVG是纳米压印光刻(NIL)设备和集成工艺的市场**供应商。EVG从19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。NIL是产生纳米尺度分辨率图案的**有前途且相当有成本效益的工艺,可用于生物MEMS,微流体,电子学以及**近各种衍射光学元件的各种商业应用。


其中EVG紫外光纳米压印系统型号包含:

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®


热压纳米压抑系统型号包含:

EVG®510HE

EVG®520HE


详细的参数,请联系我们岱美有限公司。


EVG ® 6200 NT是SmartNIL UV紫外光纳米压印光刻系统。青海纳米压印芯片堆叠应用

青海纳米压印芯片堆叠应用,纳米压印

IQ Aligner UV-NIL特征:

用于光学元件的微成型应用

用于全场纳米压印应用

三个**控制的Z轴,可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿

三个**控制的Z轴,用于压印抗蚀剂的总厚度变化(TTV)控制

利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺

EVG专有的全自动浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合对准和紫外线粘合功能


IQ Aligner UV-NIL技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):150至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:柔软的UV-NIL,镜片成型


曝光源:汞光源

对准:≤±0.5微米

自动分离:支持的

前处理:涂层:水坑点胶(可选)

迷你环境和气候控制:可选的


工作印章制作:支持的


大面积纳米压印竞争力怎么样EVG先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求,因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。

青海纳米压印芯片堆叠应用,纳米压印

为了优化工艺链,HERCULES NIL中包括多次使用的软印章的制造,这是大批量生产的基石,不需要额外的压印印章制造设备。作为一项特殊功能,该工具可以升级为具有ISO 3 *功能的微型环境,以确保比较低的缺 陷率和比较高质量的原版复制。

通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案,HERCULES NIL增强了EVG在***积NIL设备解决方案中的领导地位。

*根据ISO 14644


HERCULES ® NIL特征:

批量生产**小40 nm *或更小的结构

联合预处理(清洁/涂层/烘烤/寒意)和SmartNIL ®

体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,固化时间**快

优化的模块化平台可实现高吞吐量


*分辨率取决于过程和模板

NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的相当有成本效益的方法,因为它不受光学光刻所需的复杂光学器件的限制,并且它可以为极小尺寸(小于100分)提供比较好图案保真度nm)结构。

EVG的SmartNIL是基于紫外线曝光的全场压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。另外,主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。

新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术,具有非常高的复制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。

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EVG ® 720自动SmartNIL

® UV纳米压印光刻系统

自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米,设有EVG's专有SmartNIL ®技术


EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知识,能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术的EVG720系统能够在大面积上印刷小至40 nm *的纳米结构,具有****的吞吐量,非常适合批量生产下一代微流控和光子器件,例如衍射光学元件( DOEs)。

*分辨率取决于过程和模板


如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。也可以访问官网,获得更多信息。 EVG高达300 mm的高精度聚合物透镜成型和堆叠设备支持晶圆级光学(WLO)的制造。青海纳米压印芯片堆叠应用

纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本的技术,大批量替代光刻技术。青海纳米压印芯片堆叠应用

客户示范

■工艺开发

■材料测试

■与合作伙伴共同研发

■资助项目

■小批量试生产

■IP管理

■过程技术许可证

■流程培训

→世界前列的洁净室基础设施

→**的设备

→技术**

→**计量

→工艺知识

→应用知识

→与NIL的工作印模材料和表面化学有关的化学专业知识


新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案,并在显示器,生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。

岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


青海纳米压印芯片堆叠应用

岱美仪器技术服务(上海)有限公司于2002-02-07成立,注册资本100-200万元元,现有专业技术人员11~50人人,各种专业人员齐备。专业的团队大多数员工都有多年工作经验,熟悉行业专业知识技能,致力于发展EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB的品牌。公司以用心服务为**价值,希望通过我们的专业水平和不懈努力,将磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 等业务进行到底。岱美中国始终以质量为发展,把顾客的满意作为公司发展的动力,致力于为顾客带来***的[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]。

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