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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

    首先准备一块柔性薄膜作为弹性基底层,然后将巯基-烯预聚物旋涂在具有表面结构的母板上,弹性薄膜压印在巯基-烯层上,与材料均匀接触。巯基-烯材料可以在自然环境中固化通过“点击反应”形成交联聚合物,不受氧气和水的阻聚作用。顺利分离开母板后,弹性薄膜与固化后的巯基-烯层紧密连接在一起,获得双层结构的复合柔性模板。由于良好的材料特性,刚性巯基-烯结构层可以实现较高的分辨率。因此,利用该方法可以制备高 分辨的复合柔性模板,经过表面防粘处理后可以作为软压印模板使用。该研究利用新方法制备了以PDMS和PET为弹性基底的亚100nm线宽的光栅结构复合软压印模板。相关研究成果发表于《纳米科技与纳米技术杂志》(JournalofNanoscienceandNanotechnology)。(来自网络。EVG紫外光纳米压印系统还有:EVG®7200LA,HERCULES®NIL,EVG®770,IQAligner®等。全域纳米压印推荐型号

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SmartNIL是行业**的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景,即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本,大批量替代光刻技术。

注:*分辨率取决于过程和模板


如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 热压印纳米压印用于生物芯片步进重复纳米压印光刻可以从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。

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SmartNIL技术简介

SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本的优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外,主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


EVG ® 720特征:

体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

专有SmartNIL ®技术,多使用聚合物印模技术

集成式压印,UV固化脱模和工作印模制造

盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式

可选的顶部对准

可选的迷你环境

适用于所有市售压印材料的开放平台

从研发到生产的可扩展性

系统外壳,可实现比较好过程稳定性和可靠性技术数据

晶圆直径(基板尺寸)

75至150毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i线)> 400 mW /cm²

对准:可选的顶部对准

自动分离:支持的

迷你环境和气候控制:可选的

工作印章制作:支持的


EVG ® 7200是自动SmartNIL ® UV纳米压印光刻系统。

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纳米压印应用二:面板尺寸的大面积纳米压印

EVG专有的且经过大量证明的SmartNIL技术的***进展,已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为Gen 3(550 mm x 650 mm)的基板上实现。对于不能减小尺寸的显示器,线栅偏振器,生物技术和光子元件等应用,至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法,因为它不受光学系统的限制,并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。


HERCULES ® NIL是完全集成SmartNIL ®的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。全域纳米压印推荐型号

纳米压印设备可用来进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。全域纳米压印推荐型号

NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的相当有成本效益的方法,因为它不受光学光刻所需的复杂光学器件的限制,并且它可以为极小尺寸(小于100分)提供比较好图案保真度nm)结构。

EVG的SmartNIL是基于紫外线曝光的全场压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。另外,主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。

新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 全域纳米压印推荐型号

岱美仪器技术服务(上海)有限公司成立于2002-02-07,注册资本:100-200万元。该公司贸易型的公司。公司致力于为客户提供安全、质量有保障的质量产品及服务,是一家其他有限责任公司企业。公司目前拥有***员工11~50人人,具有[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]等多项业务。岱美中国以创造***产品及服务的理念,打造高指标的服务,引导行业的发展。

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