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轮廓仪基本参数
  • 产地
  • 中国
  • 品牌
  • 超纳/SUBNANO
  • 型号
  • NanoX-2000/3000,NanoX-8000
  • 是否定制
轮廓仪企业商机

NanoX-2000/3000

系列 3D 光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量(PSI)、白光垂直扫描干涉测量(VSI)和单色光

垂直扫描干涉测量(CSI)等技术的基础上,以其纳米级测量准确度和重复性(稳定性)定量地反映出被测件的表面粗

糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加

工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。


使用范围广: 兼容多种测量和观察需求  

保护性: 非接触式光学轮廓仪

耐用性更强, 使用无损 

可操作性:一键式操作,操作更简单,更方便  

配置Barcode 扫描板边二维码,可自动识别产品信息。霍梅尔轮廓仪技术支持

霍梅尔轮廓仪技术支持,轮廓仪

NanoX-系列产品PCB测量应用测试案例

测量种类

基板A Sold Mask 3D形貌、尺寸

基板A Sold Mask粗糙度

基板A 绿油区域3D 形貌

基板A 绿油区域 Pad 粗糙度

基板A 绿油区域粗糙度

基板A 绿油区域 pad宽度

基板A Trace 3D形貌和尺寸

基板B 背面 Pad


NanoX-8000 系统主要性能

▪ 菜单式系统设置,一键式操作,自动数据存储

▪ 一键式系统校准

▪ 支持连接MES系统,数据可导入SPC

▪ 具备异常报警,急停等功能,报警信息可储存

▪ MTBF ≥ 1500 hrs

▪ 产能 : 45s/点 (移动 + 聚焦 + 测量)(扫描范围 50um)

➢ 具备 Global alignment & Unit alignment

➢ 自动聚焦范围 : ± 0.3mm

➢ XY运动速度 **快

太阳能电池轮廓仪用途是什么轮廓仪在晶圆的IC封装中的应用。

霍梅尔轮廓仪技术支持,轮廓仪

轮廓仪在晶圆的IC封装中的应用:

晶圆的IC制造过程可简单看作是将光罩上的电路图通过UV刻蚀到镀膜和感光层后的硅晶圆上这一过程,其中由于光罩中电路结构尺寸极小,任何微小的黏附异物和下次均会导致制造的晶圆IC表面存在缺 陷,因此必须对光罩和晶圆的表面轮廓进行检测,检测相应的轮廓尺寸。



白光轮廓仪的典型应用:

对各种产品,不见和材料表面的平面度,粗糙度,波温度,面型轮廓,表面缺 陷,磨损情况,腐蚀情况,孔隙间隙,台阶高度,完全变形情况,加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。


满足您需求的轮廓仪  

使用范围广: 兼容多种测量和观察需求  

保护性: 非接触式光学轮廓仪

耐用性更强, 使用无损 

可操作性:一键式操作,操作更简单,更方便  

智能性:特殊形状能够只能计算特征参数  

个性化: 定制化客户报告模式 

更好用户体验: 迅捷的售后服务,个性化应用软件支持


1.精度高,寿命长---采用超高精度气浮导轨作为直线测量基准,具有稳定性好、承载大、**磨损等优点,达到国内同类产品较高精度。  2.高精度光栅尺及进口采集卡---保证数据采样分辨率,准确度高,稳定性好。(网络) 轮廓仪可用于:微结构均匀性 缺 陷,表面粗糙度。

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NanoX-8000 3D轮廓测量主要技术参数

3D测量主要技术指标(1):

测量模式: PSI + VSI + CSI

Z轴测量范围: 大行程PZT 扫描 (300um 标配/500um选配)

10mm 精密电机拓展扫描

CCD相机: 1920x1200 高速相机(标配)

干涉物镜: 2.5X, 5X, 10X(标配), 20X, 50X, 100X(NIKON )

物镜切换: 5孔电动鼻切换 FOV: 1100x700um(10X物镜), 220x140um(50X物镜)

Z轴聚焦: 高精密直线平台自动聚焦

照明系统: 高 效长寿白光LED + 滤色镜片电动切换(绿色/蓝色)

倾斜调节: ±5°电动调节

横向分辨率: ≥0.35μm(与所配物镜有关)

3D测量主要技术指标(2):

垂直扫描速度: PSI : <10s,VSI/CSI:< 38um/s

高度测量范围: 0.1nm – 10mm

表面反射率: > 0.5%

测量精度: PSI: 垂直分辨率 < 0.1nm

准确度 < 1nm

RMS重复性 < 0.01nm (1σ)

台阶高重复性:0.15nm(1σ)

VSI/CSI:垂直分辨率 < 0.5nm

准确度<1%

重复性<0.1% (1σ,10um台阶高) NanoX-8000主设备尺寸:1290(W)x1390(D)x2190(H) mm。霍梅尔轮廓仪技术支持

但是在共焦图像中,通过多***盘的操作滤除模糊细节(未聚焦),只有来自聚焦平面的光到达CCD相机。霍梅尔轮廓仪技术支持

    超纳轮廓仪的主设计简介:

中组部第十一批“****”****,美国KLA-Tencor(集成电路行业检测设备市场的**企业)***研发总监,干涉测量技术**美国上市公司ADE-Phaseift的总研发工程师,创造多项干涉测量数字化所需的关键算法,在光测领域发表23个美国专利和35篇学术论文3个研发的产品获得大奖,国家教育部***批公派研究生,83年留学美国。光学轮廓仪可广泛应用于各类精密工件表面质量要求极高的如:半导体、微机电、纳米材料、生物医疗、精密涂层、科研院所、航空航天等领域。可以说只要是微型范围内重点部位的纳米级粗糙度、轮廓等参数的测量,除了三维光学轮廓仪,没有其它的仪器设备可以达到其精度要求。(网络)。 霍梅尔轮廓仪技术支持

岱美仪器技术服务(上海)有限公司是一家磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 的公司,创建于2002-02-07。岱美中国拥有一支经验丰富、技术创新的专业研发团队,以高度的专注和执着为客户提供[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]。公司终坚持自主研发创新发展理念,不断优化的技术、产品为客户带来效益,目前年营业额达到100-200万元。岱美中国始终关注仪器仪表行业。海纳百川,有容乃大,国内外同行的智慧都是促使我们前行的力量。

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