3D打印公司Nanoscribe早期是德国卡尔斯鲁厄理工学院的分支机构，自此成为全球市场的高精度，微型3D打印技术和微光解决方案的提供商。德国3D打印公司Nanoscribe正在使用其PhotonicProfessionalGT3D打印机来制造包括标准折射微光学，自由光学元件，衍射光学元件和多透镜系统在内的微光学形状。德国增材制造公司表示，“将3D打印技术与用户友好的软件和创新材料相结合，导致可重复的精益流程”，使客户能够“克服当前的技术障碍”。Nanoscribe使用其PhotonicProfessionalGT3D打印机，近期展示了如何使用双光子聚合工艺生产各种微光学形状。增材制造究竟是什么技术？想要了解请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司。北京微纳机器人增材制造微纳光刻
Nanoscribe基于双光子聚合技术的3D打印技术为构建具有自由形状和复杂特征的零件提供了极大的自由度，可直接根据CAD模型制造成品。若以传统方式来制造这些设计复杂的零件，则显得非常不切实际，甚至根本不可能完成。增材制造技术制造的零件往往更轻、更高效且能够更好地发挥工作性能。然而，这并不是说这种灵活性能够让我们随心所欲地设计任何想要的形状，至少在成本的约束下，我们也不可能做到这一点。Nanoscribe所具备的纳米标记系统基于双光子吸收，这是一种分子被激发到更高能态的过程。为了使用双光子工艺制造3D物体，使用含有单体和双光子活性光引发剂的凝胶作为原料。将激光照射到光敏材料上以形成纳米尺寸的3D打印物体，其中吸收的光的强度比较高。重庆高精度增材制造激光直写增材制造技术是一种三维实体快速自由成形制造新技术。
3D打印公司Nanoscribe早期是德国卡尔斯鲁厄理工学院的分支机构，自此成为全球市场的高精度，微型3D打印技术和微光解决方案的提供商。德国3D打印公司Nanoscribe正在使用其PhotonicProfessionalGT3D打印机来制造包括标准折射微光学，自由光学元件，衍射光学元件和多透镜系统在内的微光学形状。德国增材制造公司表示，“将3D打印技术与用户友好的软件和创新材料相结合，导致可重复的精益流程”，使客户能够“克服当前的技术障碍”。Nanoscribe使用其PhotonicProfessionalGT3D打印机，近期展示了如何使用双光子聚合工艺生产各种微光学形状。这些PhotonicProfessionalGT3D打印机据称提供具有光学质量表面光洁度的亚微米特征，以及沿着3D打印工作流程的快速制作。
Nanoscribe双光子聚合技术所具有的高设计自由度，可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统，可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。光学和光电组件的小型化对于实现数据通信和电信以及传感和成像的应用至关重要。通过传统的微纳3D打印来制作自由曲面透镜等其他新颖设计会有分辨率不足和光学质量表面不达标的缺陷，但是利用双光子聚合原理则可以完美解决这些问题。该技术不仅可以用于在平面基板上打印微纳米部件，还可以直接在预先设计的图案和拓扑上精确地直接打印复杂结构，包括光子集成电路，光纤顶端和预制晶片等。世界上头一台双光子灰度光刻（2GL®）系统QuantumX实现了2D和2.5D微纳结构的增材制造。该无掩模光刻系统将灰度光刻的出色性能与Nanoscribe的双光子聚合技术的精度和灵活性相结合，从而达到亚微米分辨率并实现对体素大小的超快控制，自动化打印以及特别高的形状精度和光学质量表面。高精度的增材制造可打印出顶端的折射微纳光学元件。得益于Nanoscribe双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司带您了解增材制造的工艺过程前处理。
谈到增材制造技术（俗称3D打印技术）估计很多人并不陌生，但是说到增材制造技术的应用，可能大部分人还只停在以下两个阶段：1)原型制造，即通过树脂、塑料等非金属材料打印的概念原型与功能原型。其中概念原型用于展示产品设计的整体概念、立体形态和布局安排，功能原型则用于优化产品的设计，促进新产品的开发，如检查产品的结构设计，模拟装配、装配干涉检验等。2)间接制造，即通过3D打印技术完成工、模具制造，再采用3D打印工模具进行零件的制造。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨增材制造技术与产业的发展及前景分析。山东高分辨率增材制造PPGT2
激光增材制造在航空航天、医疗和汽车等领域有广泛应用。北京微纳机器人增材制造微纳光刻
Nanoscribe是一家德国双光子增材制造系统制造商，2019年6月25日，南极熊从外媒获悉，该公司近日推出了一款新型的机器QuantumX。该系统使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件，其尺寸可小至200微米。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法，“Beers定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制，QuantumX采用双光子灰度光刻技术，克服了这些限制，提供了前所未有的设计自由度和易用性，我们的客户正在微加工的前沿工作。“PhotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款产品，在科学研究中得到了较广的应用，并在哈佛大学纳米系统中心，加州理工学院，伦敦帝国理工学院，苏黎世联邦理工大学和庆应义塾大学使用。北京微纳机器人增材制造微纳光刻
