等离子清洗机基本参数
  • 品牌
  • 达因特,晟鼎精密
  • 型号
  • SPA-5800
  • 用途
  • 工业用,医用,3c行业、显示行业、玻璃行业、新能源行业、汽车行业
  • 加工定制
  • 清洗方式
  • 等离子表面活化
  • 电源
  • 25-40KHz
  • 功率
  • 500-1000W
  • 外形尺寸
  • 580*480*150
  • 重量
  • 12
  • 产地
  • 广东东莞
  • 厂家
  • 晟鼎精密
等离子清洗机企业商机

什么是等离子体?等离子体(plasma)是由自由电子和带电离子为主要成分的物资状态。被称为物资的第四态。如何产生等离子体?通常我们接触到的等离子有三种方式:高温(燃烧)、高压(闪电)或者高频、高压源(等离子电源)下产生。等离子体在处理固体物质的时候,会有固体物质发生两种发应:物理反应、化学反应。物理反应:活性粒子轰击待清洗表面,使污染物脱离表面被带走。化学反应:大气中的氧气等离子的活性基团可以和处理物表面的有机物反应产生二氧化碳和水,达到深度清洁作用。微波等离子清洗机自由基分子的等离子体无偏压,不会对产品产生电性损坏。重庆国产等离子清洗机设备

等离子清洗机

Plasma封装等离子清洗机,顾名思义,其主要在于利用等离子体(Plasma)这一高能态物质对材料表面进行深度清洁与改性。在真空环境下,通过高频电场激发工艺气体,使其电离形成等离子体。这些等离子体中的高能粒子、自由基等活性物质,能够迅速与材料表面的污染物发生反应,将其分解为挥发性物质并被真空泵抽走,从而实现表面的深度清洁。同时,等离子体还能与材料表面分子发生化学反应,引入新的官能团,实现表面改性。相比传统清洗方法,Plasma封装等离子清洗机具有无需化学溶剂、无废水排放、环保节能、处理速度快、效果明显等优势。吉林宽幅等离子清洗机用途在线式等离子清洗机在IC封装行业中的应用越来越广。

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在微电子封装领域,Plasma封装等离子清洗机发挥着至关重要的作用。随着集成电路技术的不断发展,芯片尺寸不断缩小,对封装过程中的表面清洁度要求也越来越高。传统的湿法清洗方法难以彻底去除芯片表面的微小颗粒和有机物残留,而Plasma封装等离子清洗机则能够在分子级别上实现表面的深度清洁,有效去除这些污染物,提高封装的可靠性和稳定性。此外,等离子体还能对芯片表面进行改性,提高其与封装材料的粘附力,降低封装过程中的失效风险。因此,Plasma封装等离子清洗机已成为微电子封装生产线上的必备设备。

随着集成电路技术的发展,半导体封装技术也在不断创新和改进,以满足高性能、小型化、高频化、低功耗、以及低成本的要求。等离子处理技术作为一种高效、环保的解决方案,能够满足先进半导体封装的要求,被广泛应用于半导体芯片DB/WB工艺、Flip Chip (FC)倒装工艺中。芯片键合(DieBonding)是指将晶圆上切割下来的单个芯片固定到封装基板上的过程。其目的在于为芯片提供一个稳定的支撑,并确保芯片与外部电路之间的电气和机械连接。常用的方法有树脂粘结、共晶焊接、铅锡合金焊接等。在点胶装片前,基板上如果存在污染物,银胶容易形成圆球状,降低芯片粘结度。因此,在DB工艺前,需要进行等离子处理,提高基板表面的亲水性和粗糙度,有利于银胶的平铺及芯片粘贴,提高封装的可靠性和耐久性。在提升点胶质量的同时可以节省银胶使用量,降低成本。等离子体处理可以解决TPE喷漆附着困难的问题。

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等离子体密度:一般来说,射频电源的频率越高,电场变化越快,气体分子在高频电场的作用下更容易电离,从而产生更多的等离子体。高密度的等离子体意味着更多的活性粒子参与清洗过程,有助于提高清洗效率。等离子体均匀性:频率的选择还会影响等离子体的分布均匀性。在适当的频率下,电场能够均匀地分布在真空腔体内,使得等离子体在整个清洗区域内均匀生成。这种均匀性对于保证清洗效果的一致性至关重要。电子温度与能量:射频电源的频率还决定了等离子体中电子的温度和能量。高频电场能够加速电子的运动,使其获得更高的能量。高能量的电子更容易与材料表面发生碰撞,促进化学反应和物理溅射过程,从而增强清洗效果。大气等离子适用于各种平面材料的表面清洗活化,可搭配直喷或旋转喷头。重庆国产等离子清洗机设备

真空等离子清洗机适用于面积较大、形状复杂的材料清洗,可搭配多种工艺气体。重庆国产等离子清洗机设备

目前,在汽车发动机领域,油底壳与曲轴箱、曲轴箱与缸体等密封面通常采用硅胶密封,这些硅胶密封面常因残留有机物(如珩磨油、切削液、清洗液等)造成硅胶的附着力不足,从而导致密封失效,发动机漏油。目前的常规工艺为涂胶前对涂胶面进行人工擦拭,而人工擦拭存在诸多缺点,无法达到清洁的要求。等离子清洗机的应用能够很好地解决这些问题,目前已经应用到光学行业、航空工业、半导体业等领域,并成为关键技术,变得越来越重要。等离子清洗机发动机涂胶面上的应用:发动机涂胶面残留的有机物薄膜,通常为碳氢氧化合物(CHO,);等离子清洗的过程如下:将压缩空气电离成低温等离子体,通过喷枪喷射到涂胶表面,利用等离子体(主要利用压缩空气中的氧气作为反应气体)对有机物的分解作用,将涂胶表面残留的有机物进行分解,以达到清洁目的。反应过程主要有两种:第一种化学反应,将压缩空气电离后获得大量氧等离子体:氧等离子体与有机物作用,把有机物(CHO,)分解成二氧化碳和水,CHyOz+O*→H20+CO2,二种是物理反应,压缩空气电离成等离子体后,等离子体内的高能粒子以高能量、高速度轰击涂胶面表面,使分子分解。重庆国产等离子清洗机设备

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