NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的蕞具成本效益的方法，因为它不受光学光刻所需的复杂光学器件的限制，并且它可以为极小尺寸（小于100分）提供蕞佳图案保真度nm）结构。EVG的SmartNIL是基于紫外线曝光的全场压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现无人能比的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。另外，主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制（制造）的弟一选择。高校纳米压印学校会用吗
SmartNIL技术简介SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现无人能比的吞吐量，并具有显着的拥有成本的优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外，主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。岱美愿意与您共同进步。高校纳米压印学校会用吗EVG的纳米压印设备包括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。
首先准备一块柔性薄膜作为弹性基底层，然后将巯基-烯预聚物旋涂在具有表面结构的母板上，弹性薄膜压印在巯基-烯层上，与材料均匀接触。巯基-烯材料可以在自然环境中固化通过“点击反应”形成交联聚合物，不受氧气和水的阻聚作用。顺利分离开母板后，弹性薄膜与固化后的巯基-烯层紧密连接在一起，获得双层结构的复合柔性模板。由于良好的材料特性，刚性巯基-烯结构层可以实现较高的分辨率。因此，利用该方法可以制备高 分辨的复合柔性模板，经过表面防粘处理后可以作为软压印模板使用。该研究利用新方法制备了以PDMS和PET为弹性基底的亚100nm线宽的光栅结构复合软压印模板。相关研究成果发表于《纳米科技与纳米技术杂志》（JournalofNanoscienceandNanotechnology）。（来自网络。
EVG®720自动SmartNIL®UV纳米压印光刻系统自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米，设有EVGs专有SmartNIL®技术EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知识，能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术的EVG720系统能够在大面积上印刷小至40nm*的纳米结构，具有无人能比的吞吐量，非常适合批量生产下一代微流控和光子器件，例如衍射光学元件（DOEs）。*分辨率取决于过程和模板如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。也可以访问岱美仪器技术服务有限公司的官网，获得更多信息。EVG的EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV纳米压印光刻系统。
SmartNIL是行业领仙的NIL技术，可对小于40nm*的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现无人能比的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。*分辨率取决于过程和模板如果需要详细的信息，请联系岱美仪器技术服务有限公司。SmartNIL可以实现无人能比的吞吐量。高校纳米压印学校会用吗
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HERCULES®NIL：完全集成的纳米压印光刻解决方案，可实现300mm的大批量生产■批量生产低至40nm的结构或更小尺寸（分辨率取决于过程和模板）■结合了预处理（清洁/涂布/烘烤/冷却）和SmartNIL®技术■全自动压印和受控的低力分离，可蕞大程度地重复使用工作印章■具备工作印章制造能力EVG®770：连续重复的纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作■用于晶圆级光学器件的微透镜的高效母模制造，直至SmartNIL®的纳米结构■不同类型的母版的简单实现■可变的光刻胶分配模式■分配，压印和脱模过程中的实时图像■用于压印和脱模的原位力控制高校纳米压印学校会用吗
