Nanoscribe基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 产地
  • 德国
Nanoscribe企业商机

Nanoscribe称,Quantum X是世界上**基于双光子灰度光刻技术(two-photon grayscale lithography,2GL)的工业系统,目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合,可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。多层衍射光学元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成,从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示,折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力,可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列,以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状,如球面和非球面透镜。  科学家们运用Nanoscribe的双光子聚合技术,实现微流道母版制造和密闭通道系统内部的芯片内直接打印。德国微纳Nanoscribe微光学

德国微纳Nanoscribe微光学,Nanoscribe

Nanoscribe设备专注于纳米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印机设计用于使用双光子聚合生产纳米和微结构塑料组件和模具。在该过程中,激光固化部分液态光敏材料,逐层固化。使用双光子聚合,分辨率可低至200纳米或高达几毫米。另一方面,GT2现在可以在短时间内在高达100×100mm2的打印区域上生产具有亚微米细节的物体,通常为160纳米至毫米范围。此外,使用GT2,用户可以选择针对其应用定制的多组物镜,基板,材料和自动化流程。该系统还具有用户友好的3D打印工作流程,用于制作单个元素。这些元件可以创造出比较大的形状精度和表面光滑度,满足智能手机行业中微透镜或细胞生物学中的花丝支架结构的要求。 Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司带您了解增材制造的工艺过程前处理。 浙江超高速Nanoscribe微纳光刻Nanoscribe的3D打印设备具有高度灵活性和可定制性,能够满足不同行业的需求。

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Nanoscribe称,QuantumX是世界上**基于双光子灰度光刻技术(two-photongrayscalelithography,2GL)的工业系统,目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合,可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。该系统配备三个用于实时过程控制的摄像头和一个树脂分配器。为了简化硬件配置之间的转换,物镜和样品夹持器识别会自动运行。多层衍射光学元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成,从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示,折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力,可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列,以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状,如球面和非球面透镜。 

科学家们基于Nanoscribe的双光子聚合 技术(2PP) ,发明了GRIN 光学微纳制造工艺。这种新的制造技术实现了简单一步操作即可同时控制几何形状和折射率来打印自由曲面光学元件。凭借这种全新的制造工艺,科学家们完成了令人印象深刻的展示制作,打印了世界上特别小的可聚焦可见光的龙勃透镜(15 µm 直径)。相似于人类眼睛晶状体的梯度,这种球面晶状体的折射率向中心逐渐增加,使其具有独特的聚光特性。Nanoscribe的Photonic Professional打印系统可用于将不同折射率的龙勃透镜和其他自由形状的光学组件打印于微孔支架材料上(例如孔状硅材及二氧化硅)。突出特点是不再像常规的双光子聚合(2PP)那样在基体表面进行直写,而是在孔型支架内。通过调整直写激光的曝光参数可以改变微孔支架内材料的聚合量,从而影响打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技术(通过激光束曝光控制的亚表面折射率)可以在保证亚微米级别的空间分辨率同时,对折射率的调节范围甚至超过0.3。


微米级分辨率,咨询纳糯三维科技(上海)有限公司。

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由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度,属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料,是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件,从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期,包括仿生表面,微光学元件,机械超材料和3D细胞支架等。世界上头一台双光子灰度光刻(2GL ®)系统Quantum X实现了2D和2.5D微纳结构的增材制造。   德国Nanoscribe公司的双光子聚合技术的3D打印设备为亚微尺度和纳尺度结构制造提供了有效的解决方案。双光子聚合Nanoscribe3D微纳加工

Quantum X新型超高速无掩模光刻技术的重点是Nanoscribe独有的双光子灰度光刻技术。德国微纳Nanoscribe微光学

售后支持和服务拥有超过14年的微加工技术经验,我们的技术支持团队努力在短的时间内为客户提供好的支持。在德国总部,中国分公司和美国分公司,以及通过Nanoscribe认证的经销商提供的销售服务和技术支持。我们的跨学科和多语言技术支持团队为客户提供各方面的支持:装机、维护和维修现场和线上的培训课程通过NanoGuide综合自助服务平台自助查询电话、电子邮件和设备自带远程支持功能基础操作技巧之外的高阶技术和应用支持延长维修保修合同、升级服务、移机服务德国微纳Nanoscribe微光学

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