下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...
使用高温钟罩炉有特定的操作方法,需按照标准操作规范进行,下面是真萍科技的钟罩炉的使用注意事项。在使用高温钟罩炉时,其升温要缓慢地用逐渐进步电压的方法进行。留意不要超过安全温度,避免焚毁电热丝。将物料放入炉膛时,切勿碰及热电偶,因伸入炉膛内的热电偶热端在高温下易于折断。将金属以及其它矿藏放入高温钟罩炉炉内加热时,有必要置于耐高温的瓷坍涡或瓷皿中,或垫以耐火泥板或石棉板,避免与炉膛粘连在一起。不要让高温钟罩炉受潮,以防漏电。试验箱有什么特点?合肥真萍科技告诉您。大试验箱厂家直销价格
温湿度振动三综合试验箱,广泛应用在对电工电子、家用电器、汽摩配件、化工涂料、航天、航空、石油、化工、电子、通讯、及其它相关产品零部件及材料进行高低温、恒定、交变湿热及振动冲击综合试验,并与单一因素作用相比更能真实地反映电工电子产品在运输和实际使用过程中对温湿度及振动复合环境变化的适应性,暴露产品的缺点,是新产品研制、样机试验、产品合格鉴定试验全过程必不可少的重要试验手段。三综合试验是指综合温度、湿度、振动三个环境应力的试验,具有极宽大的温湿度控制范围,可满足用户的各种需要采用独特的平衡调温调湿方式,可获得安全、精确的温湿度环境。高低温高压试验箱制造合肥真萍科技告诉您试验箱的外观设计有哪些要求。
连续炉就是连续作业炉,是指连续或间歇地装料,工件在炉内不断移动,完成加热、保温,有时包括冷却在内全过程的热处理炉。连续作业炉可借助某些机械结构连续地或间歇地进行装料和出料,连续顺序地通过按零件处理工艺要求的不同温度区完成加热过程。使用连续作业炉可提高产品质量,提高劳动生产率和改善劳动条件。下面为大家介绍一下连续炉的技术参数。1.送风方式:送风循环系统;2.温度范围:RT+30℃~300℃;3.温度精度:±1℃4.温度均匀性:±1℃5.温控装置:富士智能PID温控仪,LED数字显示,PID自动演算及定时;6.材质:内胆不锈钢,外箱体钢板静电喷塑;7.传送方式:链杆、链网、自动锟轮,相当强承重;8.复合式电加热器;9.保护装置:漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。
隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的产品特点。1.双边配有链条传动,解决传送过程中跑偏的现象;2.烘箱分段式加热,单独电箱控制,方便操作。结构主要由输送机系统与烘干炉两大部分组成,多段单独;3.PID温度控制,炉内温度均匀;4.输送速度变频调速,调节自如,运行平稳,产能高;5.每段单独箱体设置废气排放接口,可外接到车间外面,避免车间废气污染。合肥真萍科技的试验箱是否耐用?
隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的技术参数。1.送风方式:强制送风循环系统。2.温度范围:RT+10℃~300℃。3.温度精度:±1℃4.温度均匀性:±1℃5.温控装置:富士智能PID温控仪,LED数字显示,PID自动演算及定时。6.材质:内胆不锈钢,外箱体钢板静电喷塑。7.传送方式:链杆、链网、自动锟轮,相当强承重。8.特制复合式电加热器。9.保护装置:漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。试验箱的运作原理是什么?大试验箱厂家直销价格
试验箱选购应该注意哪些呢?合肥真萍科技告诉您。大试验箱厂家直销价格
真萍科技的电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的氮气监控系统。1.2.3寸LED大屏幕数字显示湿度/温度。2.温湿度显示值0.1%-99.9%RH,温度显示值0.1℃-60.0℃。3.温湿度收集采准确传感器,长距离传输无误差。4.湿度控制:4.1利用湿度设定值来控制氮气流入,到达湿度设定值即停止进气,节省氮气耗用。4.2湿度在1%-60%RH可调整。大试验箱厂家直销价格
下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...
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