下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...
1.炉膛气氛:2路空气,流量计量程为7~70L/min,每路流量可调节;2.排气系统:在炉膛顶部设置一个排气囱,用于废气排放。二、传动系统1.传动方式:升降式2.传动类型:电动推杆传动3.容积:20L三、冷却系统1.冷却结构:无2.产品降温:随炉降温四、安全保护1.升、降、停按钮:载料台的升、降、停控制2.报警指示:超温、断偶、过载、超程、偏差等声光报警3.设备安全升温速率≤5℃/min五、温度控制系统1.温度测量:采用B分度热偶测量2.控制方式:高性能移相调压+SCR晶闸管模块控制2.1当测量温度超过设定的安全值时,断加热,并报警2.2当测量温度超过目标温度达到限制偏差值时,报警3.控制仪表:采用进口智能调节仪控制。具有PID参数自整定、高温上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能。合肥真萍科技告诉您试验箱的选择方法。小型试验箱联系方式
中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理等阶段。下面为大家介绍一下中温气氛箱式炉的系统配置。一、冷却系统1.冷却结构无2.产品降温随炉降温3.安全保护4.报警指示超温、断偶、停水、停气等声光报警保护5.设备安全升温速率≤5℃/min二、温度控制系统1.温度测量采用K分度热偶测量2.控制仪表采用进口智能调节仪控制。具有PID参数自整定、高温3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能4.控制方式固态继电器过零控制5.超温处理⑴.当测量温度超过设定的安全值时,断加热,并报警。⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时,报警。大型试验箱型号如何选择试验箱选购应该注意哪些呢?合肥真萍科技告诉您。
下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的技术指标。1.使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃;2.绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸;3.加热元件:石墨加热棒;4.冷却方式:气冷+循环风冷降温;5.控温稳定度:2℃,具有PID参数自整定功能;6.炉膛温度均匀度:5℃(恒温1500℃);7.气氛:可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%;8.极限真空:10-3torr级;9.抽气速率:空载下,30min达到10-2torr10.升温功率:170kW;11.升温速率:15℃/min(空载);12.降温速率:1450℃至80℃,240分钟
试验箱是一种特殊制造的受控环境,公司用来检查设备、产品的耐久性或稳定性,环境试验箱模拟产品在使用过程中可能遇到的气候条件。这些条件可能包括温度或湿度、海拔高度或地理位置的极端变化。测试人员也可能进行动态测试,将产品暴露在物理力(包括惯性或振动)下,以试图在产品在飞行中或高速率下使用之前发现故障。公司可能会将测试室用于已完成或部分完成的产品。科学家和烧杯制造商在房间大小从2立方英尺(0.05立方米)到整个房间大小的房间。试验箱哪家好,推荐合肥真萍科技。
连续炉即是连续作业炉,是指连续地或间歇地装料,工件在炉内不断移动,完成加热、保温,有时包括冷却在内全过程的热处理炉。连续作业炉可借助某些机械机构连续地或间歇地进行装料和出料,连续顺序地通过按零件处理工艺要求的不同温度区完成加热过程。使用连续作业炉可提高产品质量,提高劳动生产率和改善劳动条件。下面为大家介绍一下连续炉的产品特性。1.采用智能型温度控制模块,PID自动演算,LED显示,配合SSR大功率可控硅输出,能控制温度之精细度;2.分段控制(当到达设定温度时可任意关掉其中几段发热管,降低加热功率,其达到省电效果)3.内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢(清洁无尘,防生锈、耐腐蚀),外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板(强度、塑性和焊接综合性能相当好);4.整机控制系统采用触摸屏加PLC程序控制,设备加热、运风、传动、自动门开关均采用智能控制,防止失误动作;5.当实际检测温度超过超温保护温控器设定值时,自动切断加热电源,起到双重保护功能。试验箱定制生产,价格从优。四川哪里有试验箱
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下面为大家介绍一下高温钟罩炉的各项系统。一、气氛系统。1.炉膛气氛:2路空气,流量计量程为7~70L/min,每路流量可调节;2.排气系统:在炉膛顶部设置一个排气囱,用于废气排放。二、传动系统1.传动方式:升降式2.传动类型:电动推杆传动3.容积:20L三、冷却系统1.冷却结构:无2.产品降温:随炉降温四、安全保护1.升、降、停按钮:载料台的升、降、停控制2.报警指示:超温、断偶、过载、超程、偏差等声光报警3.设备安全升温速率≤5℃/min小型试验箱联系方式
下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...
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