事实上，双光子聚合加工是在2001年开始真正应用在微纳制造领域的，其先驱者是东京大阪大学的Kawata教授以及孙洪波教授。当时这个实验室在nature上发表的一篇工作，也就是传说中的纳米牛引起了极大的轰动：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是，这篇文献中还进行了另外一个更厉害的工作，这两位教授做出了当时世界上特别小的弹簧振子，其加工分辨率达到了120nm，超越了衍射极限，同时还没有使用诸如近场加工之类的解决方案，而是单纯的利用了材料的性质。来自不来梅大学微型传感器、致动器和系统(IMSAS)研究所的科学家们发明了一种全新的微流道混合方式，使用Nanoscribe公司的3D打印系统，利用双光子聚合原理（2PP）结合光刻技术，将自由形式3D微流控混合元件集成到预制的晶圆级二维微流道中。双光子聚合技术（2PP）是一种“纳米光学”3D打印方法。北京TPP双光子聚合微纳光刻
双光子聚合激光直写技术在生物医学领域也有着广泛的应用前景。通过控制激光束的强度和聚焦点的位置，我们可以在生物材料中实现微创伤害，实现精确的细胞操作。这为组织工程等领域的研究提供了新的工具和方法，有望推动医学科学的进一步发展。双光子聚合激光直写技术的发展离不开科研人员的不懈努力和创新精神。他们通过不断优化激光系统、改进材料性能，使得这项技术在实际应用中更加稳定和可靠。同时，企业的支持也为双光子聚合激光直写技术的发展提供了坚实的基础。展望未来，双光子聚合激光直写技术将继续推动科技的发展。我们有理由相信，随着技术的不断成熟和应用的不断拓展，双光子聚合激光直写技术将在更多领域展现出其无限的潜力，为人类创造更美好的未来。卡尔斯鲁厄亚微米级双光子聚合微纳加工系统双光子聚合技术的更多知识，请致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司。
作为纳米、微米和介观尺度高分辨率3D微纳加工的关键技术，双光子聚合技术(2PP)能在高速打印的同时确保高精度制作。结合极高设计自由度的特点，2PP高精度增材制造推动着未来技术在例如生命科学、微流体、材料工程、微机械 和MEMS等科研和工业领域应用的发展。Nanoscribe作为2PP微纳加工市场人物，将继续突破3D微纳加工的极限。基于突破性双光子对准技术(A2PL@)的Quantum X平台系列，可以实现在光纤前列和光子芯片上直接打印自由曲面微光学元件，助力光子封装领域实现在所有空间方向的纳米级对准和定位。此外，该系统具备的双光子灰度光刻技术(2GL @)是制造具备比较高光学质量的2.5D折射和衍射微光学器件的好的选择，
Nanoscribe对准双光可光刻技术搭配nanoPrintX，一种基于场景图概念的软件工具，可用于定义对准3D打印的打印项目。树状数据结构提供了所有与打印相关的对象和操作的分层组织，用于定义何时、何地、以及如何进行打印。在nanoPrintX中可以定义单个对准标记以及基板特征，例如芯片边缘和光纤表面。使用QuantumXalign系统的共焦单元或光纤照明单元，可以识别这些特定的基板标记，并将其与在nanoPrintX中定义的数字模型进行匹配。对准双光子光刻技术和nanoPrintX软件是QuantumXalign系统的标配。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维邀您一起探讨研究国内外在双光子聚合技术领域的进展。
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系统可以实现精度上限的3D打印，突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以特别广的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施双光子聚合技术可用于3D微纳结构的增材制造！2PP双光子聚合技术3D打印
三维加工能力：这种技术可以实现三维加工，能够制造出具有复杂形状的纳米结构。北京TPP双光子聚合微纳光刻
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高。北京TPP双光子聚合微纳光刻
