在当前科技快速发展的时代，各种新技术层出不穷。其中，双光子聚合技术以其独特的优势和应用前景，正在引起越来越多的关注。双光子聚合是物质在发生双光子吸收后所引发的光聚合过程，它有着更多的应用前景，包括快速3D打印、光子晶体形成、高精度光子器件制造等领域。双光子聚合技术的优势：1. 高精度和高分辨率：双光子聚合技术采用光子作为加工单位，具有超高的精度和分辨率。与传统的加工技术相比，双光子聚合技术可以制造出更加精细、复杂的结构，从而实现更高级别的光学器件和制造工艺。2. 快速和高效：双光子聚合技术可以在短时间内完成大量材料的加工和制备。由于其高精度和高分辨率的特点，使得制造过程更加快速和高效。这不仅缩短了产品的研发周期，还能满足工业化大规模生产的需求。3. 高度灵活性和可扩展性：双光子聚合技术具有高度灵活性和可扩展性，可以在不同材料和表面上应用。这种技术不仅可以用于玻璃、塑料等常见材料的加工，还可以应用于半导体、生物医学等领域。这意味着双光子聚合技术的应用领域非常多，可以为不同行业提供定制化的解决方案。Nanoscribe将在未来在基于双光子聚合技术的3D微纳加工系统基础上进一步扩大产品组合实现多样化。黑龙江TPP双光子聚合微纳光刻
Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）。文章中介绍了高精度3D打印，并重点讲解了先进的打印材料是如何让双光子聚合技术应用锦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程，实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造，可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。Nanoscribe的双光子灰度光刻激光直写技术(2GL®)可用于工业领域2.5D微纳米结构原型母版制作。2GL通过创新的设计重新定义了典型复杂结构微纳光学元件的微纳加工制造。该技术结合了灰度光刻的出色性能，以及双光子聚合的亚微米级分辨率和灵活性
湖北亚微米双光子聚合三维光刻双光子聚合微纳加工系统利用飞秒激光双光子聚合技术可以深入透明材料内部。
QuantumXshape是一款真正意义上的全能机型。基于双光子聚合技术，该激光直写系统不只是快速成型制作的特别好的机型，同时适用于基于晶圆上的任何亚微米精度的2.5D及3D形状的规模化生产。QuantumXshape在3D微纳加工领域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有赖于其高能力的体素调制比和超精细处理网格，从而实现亚体素的尺寸控制。此外，受益于双光子灰度光刻对体素的微调，该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑，同时保持高精度的形状控制。
事实上，双光子聚合加工是在2001年开始真正应用在微纳制造领域的，其先驱者是东京大阪大学的Kawata教授以及孙洪波教授。当时这个实验室在nature上发表的一篇工作，也就是传说中的纳米牛引起了极大的轰动：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是，这篇文献中还进行了另外一个更厉害的工作，这两位教授做出了当时世界上特别小的弹簧振子，其加工分辨率达到了120nm，超越了衍射极限，同时还没有使用诸如近场加工之类的解决方案，而是单纯的利用了材料的性质。来自不来梅大学微型传感器、致动器和系统(IMSAS)研究所的科学家们发明了一种全新的微流道混合方式，使用Nanoscribe公司的3D打印系统，利用双光子聚合原理（2PP）结合光刻技术，将自由形式3D微流控混合元件集成到预制的晶圆级二维微流道中。事实上，双光子聚合加工是在2001年开始真正应用在微纳制造领域的。
加入Nanoscribe的用户行列!作为高精密增材制造领域的先驱和市场领导我们是您在微加工系统、软件和解决方案方面的可靠合作伙伴。我们成立于2007年，是卡尔斯鲁厄理工分离出来的单独子公司，是一个充满活力、屡获殊荣的公司，并于2021年6月成为BICO集团的一部分。凭借成熟稳定的系统、直观的一步加工工作流程和一体化解决方案，我们的3000多名系统用户正在致力于研究改变未来的应用。Nanoscribe的用户群体中，有科学研究和工业的创新者，包括生命科学、微光学、光子学、材料工程、微流体、微力学和MEMS。他们优越的创新现已发表在1300多份同行评议期刊上。Nanoscribe公司的系列产品是基于双光子聚合原理的高精度微纳3D打印系统。黑龙江TPP双光子聚合微纳光刻
Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨国内在双光子聚合技术的发展趋势。黑龙江TPP双光子聚合微纳光刻
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D无掩模光刻技术，用于快速，精度非常高的微纳加工，可以轻松3D微纳光学制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以实现芯片和光纤上直接打印。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。3D设计的多功能性对于制作复杂且响应迅速的高精度微型机械，传感器和执行器是至关重要的。基于双光子聚合原理的激光直写技术，可适用于您的任何新颖创意的快速原型制作；也适合科学家和工程师们在无需额外成本增加的前提下，实现不同参数的创新3D结构的制作。微米级增材制造能够突破传统微纳光学设计的上限，借助Nanoscribe双光子聚合技术的出色的性能，可以轻松实现球形，非球形，自由曲面或复杂3D微纳光学元件制作，并具备出色的光学质量表面和形状精度。
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