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实验室分析仪基本参数
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  • 齐全
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实验室分析仪企业商机

测量低密度颗粒:示差沉降法过去一般用于测量密度大于分散介质液体密度的颗粒,CPS开发了一项新的技术技术(US Patent5,786,898)。很多用常规示差沉降法很难或者不可能分析的材料(例如油乳液、蜡乳液、粘性乳液或脂质体),现在可以方便地使用CPS进行分析,而且精度很高。速度调节:CPS开发了一种特殊的圆盘设计使得在分析过程中可以调节圆盘的转速,而不会对沉降液体产生扰动,转速可以在20倍范围内升高或者降低,这样一来就使得分析的动态范围几乎增大了20倍。驰光机电敢于承担、克难攻坚。江苏激光粒度分析仪报价

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颗粒的大小称作粒度,颗粒的直径称做粒径。通常用粒径来表示粒度,粒度测量仪可以利用颗粒对激光的散射特性作等效对比,可快速有效测量粒径,采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在短焦距获得大量程,有效提高仪器的分辨能力对小颗粒有的测试能力,是工厂、研究所、高等院校等机构进行相关粒度测试的理想选择。粒度测量仪的应用现状与前景展望:基于光散射原理的激光粒度仪已经大量应用于各领域的粒度检测。如:各种非金属粉体,如重钙、轻钙、滑石粉、高岭土、石墨、硅灰石、水镁石、重晶石、云母粉、膨润土、硅藻土、黏土等。吉林病毒颗粒分析仪山东驰光机电科技有限公司产品适用范围广,产品规格齐全,欢迎咨询。

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而CMP工艺离不开研磨料的发展,那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面,将抛光垫放置在研磨盘上,抛光时,旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上,由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动,然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下,均匀分布其上,在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。

CMP浆料粒度分析的难点在于必须在抛光过程中全浓度条件下快速测定平均颗粒直径和粒度分布,因为稀释可能导致浆料稳定性和粒度的变化(比如进一步的团聚或解聚),另外在稀释后的浆料中很难检测本来就较少量的团聚体。CPS-24000型纳米粒度分析仪是较新型的纳米粒度分析仪,它采用斯托克斯定律分析方法,V=D²(ρP-ρF)G/18η,即颗粒沉降的速度与颗粒的尺寸平方成正比来进行粒度的测量,因此粒径相差小至1%的颗粒都可以明显分辨出来。适用于稀到高浓度的样品粒度测定,对团聚体的存在非常敏感。公司狠抓产品质量的提高,逐年立项对制造、检测、试验装置进行技术改造。

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主要特点如下:1.所需样品量少。每次只需要0.1ml,这在疫苗研发、化学合成方面具有较大的优势。2.一次测试可到40多个样品。在前处理准备工作做完以后,可结合标准颗粒一批次测试40多个样品。3.分辨率高。同激光散射和颗粒计数等方法比较,对于样品中即使只有1%峰值差异的颗粒,依旧可以很好地区分测量出来,即可以得到真实的粒度分布结果。4.灵敏度高。低至 10-8g的样品就可以满足日常分析需要。5.分析时间短。和传统沉降法比较,由于采用更快的圆盘转速和高速检测器,因此较大缩短了分析所需时间。驰光机电团队从用户需求出发。吉林病毒颗粒分析仪

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如果能够对催化剂元素含量(钴、锰和溴Br)进行连续在线分析,可以更好地控制工艺,提高产品质量和增加产量。C-Quand在线EDXRF分析仪:利用 C-Quand在线EDXRF分析仪对钴、锰、溴三种催化剂进行了同时和连续的分析。所使用的技术是由X射线管激发的能量分散X射线荧光,不需要放射源。在分析过程中,连续流动过程样品中的催化剂被X射线激发,并发出其特征辐射。使用技术气体比例计数器(GPC)检测和分析这些放射X射线,并使用存储的校准曲线将其转换为结果。江苏激光粒度分析仪报价

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为了实现较佳过程控制,样品测量时间为5分钟左右。催化剂浓度通常在40至1000ppm范围内。C-Quand在线XRF分析仪是一款真正的过程分析仪,专为化工厂的恶劣环境而设计。分析仪配置和操作简单。它配有模拟和串行数据传输协议。C-Quand在线 XRF分析仪可以连续测量多达四个流路,每个流都有自己的校准曲线。此外,C-Quand在线XRF分析仪有各种方法来检查和确保可靠的数据。每小时分析一次内置的固体参考。有了这个内置的自动参考,您将能够在一年内实现无漂移过程测量。山东驰光机电科技有限公司产品适用范围广,产品规格齐全,欢迎咨询。河北CPS高精度纳米粒度分析仪价格质量控制是保证分析仪准确性和可靠...

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