安徽激光粒度分析仪报价

而化学机械抛光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成电路芯片的一个关键制程，国内抛光所用关键材料CMP抛光垫，几乎全部依赖进口。CMP典型的抛光浆料都是纳米级发烟硅石(5Vol%，170-230nm)、高纯硅胶(9Vol%，6-80nm)、氧化铈(6Vol%，200-240nm)或氧化铝颗粒，它们的粒度或粒度分布必须小心地进行控制以免在抛光面上产生刮痕。CMP浆料的分散稳定性和保存期也是必须被认真考虑的重要环节。这种纳米浆料的使用浓度一般在(5-30W%)，容易聚集。随着贮存时间延长，它的粒度可能增大从而导致损害的产生。驰光拥有先进的产品生产设备，雄厚的技术力量。安徽激光粒度分析仪报价

应用实例：测量高纯氧化铝粉。一般来说，含量大于99%的氧化铝称为高纯氧化铝，其特性有耐化学腐蚀、耐高温(正常使用在1600℃，短期1800℃)、耐骤冷骤热、密度高等。99.995%高纯氧化铝粉主要用于LED人造蓝宝石晶体、高级陶瓷、PDP荧光粉及其他高性能材料；99.99%高纯氧化铝粉用于高压钠灯、新型发光材料、特殊陶瓷、高级涂层、三基色、催化剂及其他高性能材料。粒度是高纯氧化铝粉产品的重要指标，CPS纳米粒度分析仪能给您带来确切稳定的测量结果。使用CPS分析仪平行测定3次高纯氧化铝粉得到的叠加图。江西高纯度氧化铝粉粒度在线分析仪报价驰光机电科技有限公司与广大客户携手共创碧水蓝天。

磨料的粒度测量：以上我们了解到磨料在CMP工艺中起到了关键性的作用，CMP磨料颗粒的典型尺寸范围是50-250纳米，典型的过大聚集体为1-10微米，并出现在ppm范围内。颗粒表征的挑战来自于精确确定纳米级颗粒尺寸，同时还识别出相对较少的微米级聚集体。CPS纳米粒度分析仪表征磨料颗粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的颗粒，提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。较小峰值宽度可小至峰值直径的2%，粒径差别在大于3%的窄峰可以被完全分辨出来。

使用CPS分析仪平行测定3次高纯氧化铝粉得到的叠加图，表明仪器的重复性较好，样品的粒径为0.586微米。分析氧化铝粉末时，为防止样品发生凝聚，需要添加入少量的乙酸。氧化锌ZnO粉末：氧化锌俗称锌白，是锌的一种氧化物。氧化锌是一种常用的化学添加剂，大量地应用于塑料、硅酸盐制品、合成橡胶、润滑油、油漆涂料、药膏、粘合剂、食品、电池、阻燃剂等产品的制作中。氧化锌的能带隙和激子束缚能较大，透明度高，有优良的常温发光性能，在半导体领域的液晶显示器、薄膜晶体管、发光二极管等产品中均有应用。驰光机电科技坚持“顾客至上，合作共赢”。

测量低密度颗粒：示差沉降法过去一般用于测量密度大于分散介质液体密度的颗粒，CPS开发了一项新的技术技术(US Patent5,786,898)。很多用常规示差沉降法很难或者不可能分析的材料(例如油乳液、蜡乳液、粘性乳液或脂质体)，现在可以方便地使用CPS进行分析，而且精度很高。速度调节：CPS开发了一种特殊的圆盘设计使得在分析过程中可以调节圆盘的转速，而不会对沉降液体产生扰动，转速可以在20倍范围内升高或者降低，这样一来就使得分析的动态范围几乎增大了20倍。公司地理位置优越，拥有完善的服务体系。安徽高纯度氧化铝粉粒度在线分析仪报价

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