浙江纳米粒度分析仪

颗粒的大小称作粒度，颗粒的直径称做粒径。通常用粒径来表示粒度，粒度测量仪可以利用颗粒对激光的散射特性作等效对比，可快速有效测量粒径，采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在短焦距获得大量程，有效提高仪器的分辨能力对小颗粒有的测试能力，是工厂、研究所、高等院校等机构进行相关粒度测试的理想选择。粒度测量仪的应用现状与前景展望：基于光散射原理的激光粒度仪已经大量应用于各领域的粒度检测。如：各种非金属粉体，如重钙、轻钙、滑石粉、高岭土、石墨、硅灰石、水镁石、重晶石、云母粉、膨润土、硅藻土、黏土等。驰光机电科技锐意进取，持续创新为各行各业提供专业化服务。浙江纳米粒度分析仪

UHR型可达1%，良好性能：CPS高精度纳米粒度分析仪能够提供高分辨率准确的分析结果，即使对于使用其它分析方法非常难分析的样品，CPS依然能够提供满意的分析结果。高分辨率：CPS具有强大的分辨率，粒径差别在2%以内的窄峰可以被完全分辨出来。所示样品包含五种不同的聚苯乙烯标定颗粒，在图中可以清楚地看到它们完全被分辨出来呈现为五个单独的粒度峰。高准确度：可追溯&校准到NIST标准颗粒的可靠、重复性结果。高精度：与SEM/显微镜分析结果的对比。天津高精度纳米粒度分析仪厂家驰光机电科技倾城服务，确保质量无后顾之忧。

光电探测器阵列由一系列同心环带组成，每个环带是一个单独的探测器，能将投射到上面的散射光线形地转换成电压，然后送给数据采集卡，该卡将电信号放大，再进行AID转化后送入计算机。激光粒度仪依据全量程米氏散射理论，充分考虑到被测颗粒和分散介质的折射率等光学性质，根据激光照射在颗粒上产生的散射光能量反演出颗粒群的粒度大小和粒度分布规律。激光粒度仪注意事项：本仪器适用于＜1mm粒度测定，＞1mm的应过筛测定；必须先开计算机电源，工作正常后，再开仪器电源，顺序不能反了，否则信号送不到计算机。

而化学机械抛光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成电路芯片的一个关键制程，国内抛光所用关键材料CMP抛光垫，几乎全部依赖进口。CMP典型的抛光浆料都是纳米级发烟硅石(5Vol%，170-230nm)、高纯硅胶(9Vol%，6-80nm)、氧化铈(6Vol%，200-240nm)或氧化铝颗粒，它们的粒度或粒度分布必须小心地进行控制以免在抛光面上产生刮痕。CMP浆料的分散稳定性和保存期也是必须被认真考虑的重要环节。这种纳米浆料的使用浓度一般在(5-30W%)，容易聚集。随着贮存时间延长，它的粒度可能增大从而导致损害的产生。驰光机电科技周边生态环境状况好。

CPS纳米粒度分析仪样本分散系统：自动液体循环、干粉分散器、粉料送样器、温度控制器、气溶胶控制器。粒度仪的较佳选择：EyeTech可以提供颗粒系统粒径、形状和浓度等方面的总体信息。具有多样化的功能，可以：监测动力学过程；提供标准的体积和数量分布的结果。激光和图像通道的结合：对球形、非球形及细长颗粒的精确定性分析；可同时测量粒径、粒形和浓度；多种模块配置可满足不同类型的干法及湿法检测需求；测量过程中可实时观察样品颗粒。驰光拥有先进的产品生产设备，雄厚的技术力量。天津高灵敏度纳米粒度分析仪厂家

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如果能够对催化剂元素含量（钴、锰和溴Br）进行连续在线分析，可以更好地控制工艺，提高产品质量和增加产量。C-Quand在线EDXRF分析仪：利用 C-Quand在线EDXRF分析仪对钴、锰、溴三种催化剂进行了同时和连续的分析。所使用的技术是由X射线管激发的能量分散X射线荧光，不需要放射源。在分析过程中，连续流动过程样品中的催化剂被X射线激发，并发出其特征辐射。使用技术气体比例计数器（GPC）检测和分析这些放射X射线，并使用存储的校准曲线将其转换为结果。浙江纳米粒度分析仪

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