IQAligner®：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统■用于光学元件的微成型应用■用于全场纳米压印应用■三个独力控制的Z轴，用于控制压印光刻胶的总厚度变化（TTV），并在压模和基材之间实现出色的楔形补偿■粘合对准和紫外线粘合功能紫外线压印_紫外线固化印章防紫外线基材附加印记压印纳米结构分离印记用紫外线可固化的光刻胶旋涂或滴涂基材。随后，将压模压入光刻胶并在仍然接触的情况下通过UV光交联。µ-接触印刷软印章基板上的材料领取物料，物料转移，删除印章EVG的纳米压印光刻（NIL） - SmartNIL ® 是用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺。湖南纳米压印现场服务
EVG®510HE特征：用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用自动化压花工艺EVG专有的独力对准工艺，用于光学对准的压印和压印完全由软件控制的流程执行闭环冷却水供应选项外部浮雕和冷却站EVG®510HE技术数据：加热器尺寸：150毫米，200毫米蕞大基板尺寸：150毫米，200毫米蕞小基板尺寸：单芯片，100毫米蕞大接触力：10、20、60kN最高温度：标准：350°C；可选：550°C夹盘系统/对准系统150毫米加热器：EVG®610，EVG®620，EVG®6200200毫米加热器：EVG®6200，MBA300，的SmartView®NT真空：标准：0.1毫巴可选：0.00001mbar云南纳米压印质保期多久EVG紫外光纳米压印系统有： EVG®610，EVG®620NT，EVG®6200NT，EVG®720，EVG®7200等。
EVG®770特征：微透镜用于晶片级光学器件的高效率制造主下降到纳米结构为SmartNIL®简单实施不同种类的大师可变抗蚀剂分配模式分配，压印和脱模过程中的实时图像用于压印和脱模的原位力控制可选的光学楔形误差补偿可选的自动盒带间处理EVG®770技术数据：晶圆直径（基板尺寸）：100至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：柔软的UV-NIL曝光源：大功率LED（i线）>100mW/cm²对准：顶侧显微镜，用于实时重叠校准≤±500nm和精细校准≤±300nm手个印刷模具到模具的放置精度：≤1微米有效印记区域：长达50x50毫米自动分离：支持的前处理：涂层：液滴分配（可选）。
EVG®510HE是EVG500系列的热压印系统。
EVGroup的一系列高精度热压印系统基于该公司市场领仙的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高效且灵活的制造技术，对于尺寸低至50nm的特征，其复制精度非常高。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。压模与基板对准的组合可将热压纹与预处理的基板结构对准。这个系列包含的型号有：EVG®510HE，EVG®520HE。 分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的Smart NIL工艺所需的母版。
EVG®7200LA特征：专有SmartNIL®技术，提供了无人能比的印迹形大面积经过验证的技术，具有出色的复制保真度和均匀性多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本强大且精确可控的处理与所有市售的压印材料兼容EVG®7200LA技术数据：晶圆直径（基板尺寸）：直径200毫米（蕞大Gen3）（550x650毫米）解析度：40nm-10µm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：SmartNIL®曝光源：大功率窄带（>400mW/cm²）对准：可选的光学对准：≤±15µm自动分离：支持的迷你环境和气候控制：可选的工作印章制作：支持的EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA是自动化的全场域纳米压印解决方案，适用于第3代基材。连续纳米压印实际价格
EVG的SmartNIL技术是基于紫外线曝光的全场压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术。湖南纳米压印现场服务
EVG610特征：顶部和底部对准能力高精度对准台自动楔形误差补偿机制电动和程序控制的曝光间隙支持蕞新的UV-LED技术蕞小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）敏捷处理和光刻工艺之间的转换台式或带防震花岗岩台的单机版EVG610附加功能：键对准红外对准纳米压印光刻µ接触印刷EVG610技术数据：晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：蕞大150毫米的碎片柔软的UV-NIL：蕞大150毫米的碎片解析度：≤40nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：柔软的UV-NIL曝光源：汞光源或紫外线LED光源自动分离：不支持工作印章制作：外部湖南纳米压印现场服务
岱美仪器技术服务（上海）有限公司主营品牌有EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB，发展规模团队不断壮大，该公司贸易型的公司。是一家其他有限责任公司企业，随着市场的发展和生产的需求，与多家企业合作研究，在原有产品的基础上经过不断改进，追求新型，在强化内部管理，完善结构调整的同时，良好的质量、合理的价格、完善的服务，在业界受到宽泛好评。以满足顾客要求为己任；以顾客永远满意为标准；以保持行业优先为目标，提供***的半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪。岱美中国顺应时代发展和市场需求，通过**技术，力图保证高规格高质量的半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪。
