目前离子镀膜比较常用的组合方式有： 1.低压等离子体离子镀（LPPD）。利用电子束进行加热；依靠等离子体使充入的惰性气体，反应气体离化。这种方法的特点是：基板温升小，要对基板加热，结构简单，能获得氧化铝，氮化钛，碳化钛等离子化合物镀层；可用于镀机械制品，电子器件，装饰品。 2.电场蒸发。利用电子束进行加热依靠电子束形成的金属等离子体进行离化。这种方法的特点是：基板温升小，要对基板加热，带电场的真空蒸镀，镀层质量好；可用于镀电子器件，音响器件。 3.感应离子加热镀。利用高频感应进行加热；依靠感应漏磁进行离化。这种方法的特点是：基板温升小，能获得化合物镀层；可用于机械制品，电子器件，装饰品。 4.集团离子束镀。利用电阻加热，从坩锅中喷出集团状蒸发颗粒。依靠电子发射或从灯丝发出电子的碰撞作用进行离化。这种方法的特点是：基板温升小，即能镀金属膜又能直接镀化合物膜，如氧化锌等；可用于镀电子器件，音响器件。 5.多弧离子镀。利用阴极弧光进行加热；依靠蒸发原子束的定向运动使反应气体(或真空)离化。这种方法的特点是：基板温升较大，离化率高，沉积速率大；可用于镀机械制品，刀锯，模具。真空镀膜机磁控溅射镀膜工艺，已经涉及到各个行业。连续式真空镀膜机有用吗
真空镀膜机普遍应用于工业制冷，它能提供恒流、恒温、恒压，控制真空电镀设备的温度，不同工艺流程需要控制不同的温度，真空电镀设备中冷水机可以分为风冷式的冷水机和水冷式的冷水机，水冷式冷水机达到好的冷却效果加冷却水塔，风冷式冷水机对工作环境有要求，它通过热风循环制冷，通风效果的好坏直接影响到冷水机的制冷效果。冷水机应当具备水温调节控制能力，不受气温及环境影响；性能要稳定，保证长年连续运转情况下不出现故障；节能省电，有自我调节功能，有效节约电；噪音要低，应当有缺相、错相、电流过载、高低压保护系统。真空电镀设备配备宏赛冷水机是为了达到高效率、高精度控制温度的目的以保证镀件的高质量，增加镀件的密度和平滑，缩短电镀周期，提高生产效率和改善产品的质量。真空镀膜机工作原理我国在真空蒸镀机关键技术上已取得重大突破，摆脱国外技术依赖指日可待！
真空镀膜的基础知识： 薄膜是一种物质形态，它所使用的膜材料非常广，可以是单质元素或化合物，也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样，可以是单晶态的，多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。 镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，扩散法，电镀法，涂布法，液相生长法等。气相生成法又可分为物理的气相沉积法，化学气相沉积法和放电聚合法等。 真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物理的气相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。
真空镀膜应用包括建筑玻璃镀膜，光学器件镀膜，CD/DVD镀膜和硬质合金镀膜等适合的真空设备和真空解决方案是真空镀膜应用的关键。当开动电机，当真空泵正常运转后，打开出口压力表和滑阀真空泵，视其显示出适当压力后，逐渐打开闸阀，同时检查电机负荷情况。尽量控制真空泵的流量和扬程在标牌上注明的范围内，以保证真空泵在较高效率点运转，才能获得较大的节能效果。真空泵在运行过程中，轴承温度不得比周围温度高30℃，而且温度值不高于60℃。向滚轮轴承室内压入ZG-4号钙基润滑脂，以充满轴承室空间的2/3为宜。正常工作的轴承应每年装油3~4次，一年内至少清洗轴承一次，更换全部的润滑脂。目前离子镀膜比较常用的组合方式有哪些？
如何选择一个适合自己的品牌镀膜机呢？需要考虑以下方面： 1.真空电源，国产电源和进口电源的差距还是比较明显，当然价格也比较优惠，一台国产的20KW中频电源在8万左右，一台进口的中频电源在20万，进口电源的性能和可靠性，稳定性会更好，国产电源由于产地就在国内，可能在服务上要好于进口电源。 2.控制系统，现在很多的真空镀膜机都采用全自动控制，但是在自动控制中的区别还是很大的，大多数还是在半自动的状态，真正能够实现全自动控制的，一键式操作的镀膜设备还不多，而且在自动控制中是否给操作中足够的安全互锁，功能模块也是区别很大的。 3.是否需要配置低温捕集器PolyCold,低温捕集器可以说是一种锦上添花的设备，它能够较大提高抽气的速度，将真空室内的可凝性气体吸附在冷盘管上，净化真空室内的气氛，使膜层质量更好，在炎热潮湿的夏季，低温捕集器的使用无疑在很大程度上，提高了生产效率。真空镀膜机需要开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。上海蒸发式真空镀膜机厂家
对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材。连续式真空镀膜机有用吗
真空镀膜机的薄膜均匀性的概念： 1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。 2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。 3.晶格有序度的均匀性： 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题。连续式真空镀膜机有用吗
