带状基材的跑偏和起褶问题。随着卷绕速度的提高，带状基材在卷绕镀膜过程中，起褶和发生偏斜，严重时会造成基材的断裂，使生产中断，既影响生产效率，又浪费材料。因此，在卷绕机构的设计中应充分考虑这一问题。卷绕镀膜机真空抽气系统分上室下室两组，下室为蒸镀室，要求真空度高，主泵多为油扩散泵。上室为基材卷绕室，要求真空度较低，为罗茨泵机组或扩散泵一罗茨泵一机械泵组。一般蒸镀室要达到的真空度为1x10^-3人a—2×10^-3人a，而工作压力为1×10^-2Pa—2×10^-2Pa，而卷绕室真空度通常较蒸镀室低一个数量级。有时卷绕镀膜机以增扩泵（油扩散泵的一种）为主泵，它的极限压力虽然不及油扩散泵，但其抽速范围向高压方向延伸一个数量级，非常适宜此类蒸发的镀膜过程。有时卷绕镀膜机以增扩泵为主泵。南京卷绕镀膜机哪家强
原膜经过平整度调节辊后再经过镀膜鼓和磁控溅射阴极系统，这样就保证镀膜时原膜是经过平整度调节辊调整后再进行镀膜的，因此保证了镀膜时的良品率；原膜在离开镀膜鼓时是经过平整度调节辊后再到收卷装置，这样就保证了收卷整齐、平整。柔性卷绕镀膜采用平整度在线控制装置可以直接在线实时对角度的控制，保证镀膜时膜面平整、收卷整齐、平整；特别是针对PET基材厚度小于50 µm的薄膜进行使用时，能有效地降低产品褶皱的产生，提高产品的良品率，目前已经在产线进行实际使用。苏州卷绕镀膜机价格卷绕镀膜机产品在国内外的包装材料工业、印刷材料工业、电子工业等领域得到普遍的应用。
真空镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜。 真空蒸镀，其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。 溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。
特殊性塑料的种类很多，并非所有的都可以进行真空镀膜，有的与金属层的结合力很差，没有实用价值，有的与金属镀层的某些物理性质如膨胀系数相差过大，在高温差环境中难以保证其使用性能，所以真空镀膜时，与金属、玻璃等无机物相比，作为基体材料的塑料具有一定的特殊性。使沉积温度受到制约塑料属于高分子有机物，耐热性较差，特别是光学塑料，一般要在35～45℃的温度下进行镀膜。而真空镀膜时，不论采用什么方法，基体都受到热的影响，如蒸发源的辐射热，高能量的溅射原子撞击基体的动能以及镀膜材料原子的凝聚能等，都会引起基体的温度升高。控制基体温度在允许的范围内，使真空镀膜时的沉积温度受到制约。卷绕式真空镀膜机在结构上除有一般镀膜机所有的结构外，必须有一个实现连续镀膜而设置的卷绕机构。
真空蒸发镀膜在真空环境下加热镀膜材料，使它在极短时间内蒸发，蒸发了的镀膜材料分子沉积在塑料表面上形成镀膜层。此法简单便利、操作容易、成膜速度快、效率高，是薄膜真空制备中较为普遍使用的技术，但薄膜与基体结合较差，工艺重复性不好，只能蒸发铝这样的低熔点金属。磁控溅射镀膜是在真空中充入惰性气体，并在塑料基体和金属靶之间加上高压直流电，由辉光放电产生的电子激发惰性气体，产生等离子体，等离子体将金属靶材的原子击出，沉积在塑料基体上。卷绕镀膜机的镀膜产品用于装饰、包装、电容器等领域中。南京卷绕镀膜机哪家强
由于卷绕室与蒸镀室之间隔板窄缝很小，使放出来的气体不易进入蒸镀室中。南京卷绕镀膜机哪家强
蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法较早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。南京卷绕镀膜机哪家强
