特殊性塑料的种类很多，并非所有的都可以进行真空镀膜，有的与金属层的结合力很差，没有实用价值，有的与金属镀层的某些物理性质如膨胀系数相差过大，在高温差环境中难以保证其使用性能，所以真空镀膜时，与金属、玻璃等无机物相比，作为基体材料的塑料具有一定的特殊性。使沉积温度受到制约塑料属于高分子有机物，耐热性较差，特别是光学塑料，一般要在35～45℃的温度下进行镀膜。而真空镀膜时，不论采用什么方法，基体都受到热的影响，如蒸发源的辐射热，高能量的溅射原子撞击基体的动能以及镀膜材料原子的凝聚能等，都会引起基体的温度升高。控制基体温度在允许的范围内，使真空镀膜时的沉积温度受到制约。均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。常州卷绕镀膜机价格表
目前国内卷绕式镀膜机蒸发源多采用坩埚蒸发，其材质有氮化硼、石墨、钼等。氮化硼由于电学及热学性能好，使用寿命长，因而较为普遍地应用于卷绕镀膜机中。每个坩埚的加热功率为6kW—8kW，加热电压为10V—12V。坩埚数量由基材幅宽来确定。辐宽愈宽坩埚数量愈多。幅宽500mm时4只坩埚，800mm时7只坩埚，1300mm时12只坩埚。坩埚分布是不均匀的，中间部分间距大些，在基材边缘处间距小，有的较外侧坩埚与基材幅宽边缘重合。磁控溅射卷绕镀膜是采用磁控溅射（直流、中频、射频）的方法把各种金属、合金、化合物、陶瓷等材料沉积到柔性基材上，进行单层或多层镀膜。 连云港卷绕镀膜机价格测试设备的抽真空速度，在测试过程中检查漏气情况与各真空泵的性能。
真空蒸发镀膜在真空环境下加热镀膜材料，使它在极短时间内蒸发，蒸发了的镀膜材料分子沉积在塑料表面上形成镀膜层。此法简单便利、操作容易、成膜速度快、效率高，是薄膜真空制备中较为普遍使用的技术，但薄膜与基体结合较差，工艺重复性不好，只能蒸发铝这样的低熔点金属。磁控溅射镀膜是在真空中充入惰性气体，并在塑料基体和金属靶之间加上高压直流电，由辉光放电产生的电子激发惰性气体，产生等离子体，等离子体将金属靶材的原子击出，沉积在塑料基体上。
国外在上世纪90年代研究开发各种透明阻隔真空卷绕镀膜技术时，总结出采用电子束镀膜技术蒸镀SiOx和反应蒸镀Al2O3透明阻隔膜的工艺，其薄膜阻隔性能满足包装工业的要求。并且该工艺可大规模生产，镀膜质量好，工艺稳定性好，在生产过程中或以后均不存在环境污染问题。我们需要先了解一下电子束卷绕真空镀膜的工作原理。高能量扫描电子束发射的电子束按照预先设定的模式在盛放着待镀膜料的坩埚上方横向和纵向扫描，并轰击加热待镀膜材料，使其熔化蒸发或升华蒸发，或者氧化反应蒸发，直至把膜料镀至待镀膜卷上。 虽然比蒸发卷绕镀膜技术起步晚，但发展极为迅速，在未来的高科技领域和环保节能领域将大有可为。
带状基材的线速恒定问题。这一问题也很重要，因为只有卷绕机构保证带状基材的线速恒定，才能使基材上镀层厚度均匀。这一点对制备带状基材的功能性膜（如电容器膜）尤为重要。带状基材的跑偏和起褶问题。随着卷绕速度的提高，带状基材在卷绕镀膜过程中，起褶和发生偏斜，严重时会造成基材的断裂，使生产中断，既影响生产效率，又浪费材料。因此，在卷绕机构的设计中应充分考虑这一问题。卷绕镀膜机真空抽气系统分上室下室两组，下室为蒸镀室，要求真空度高，主泵多为油扩散泵。上室为基材卷绕室，要求真空度较低，为罗茨泵机组或扩散泵一罗茨泵一机械泵组。卷绕镀膜机在国外日本的EW系列产品中，其卷绕速度已达到300m/min，。卷绕镀膜机供应商
单室结构必须配置较大的排气系统才能保障蒸镀时的工作压力。常州卷绕镀膜机价格表
目前我国多弧离子镀膜机企业在优良产品系列尚无法与国外产品竞争，在国际上有名度不高。国内多弧离子镀膜机的生产厂家，主要考虑的是国内的中、低端市场，采用设备的性能和可靠性的低价策略来赢得市场，生产经营也缺乏对设备研制的能力和将技术研发付诸于实施的中长期规划。未来五年，国际厂商不断进入，国内多弧离子镀膜机行业的整合趋势势必加剧，行业竞争愈发激烈，企业生存要受到来自多方面的的挑战。材料是现代高新技术和产业的基础与先导，是高新技术取得突破的前提条件。真空离子镀膜设备工作时往往温度较高，甚至可以达到350到500摄氏度，要求设备制造材料有耐高温和较强度特性。常州卷绕镀膜机价格表
