溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击回体表面(靶),使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态,常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子,离子或中性粒子,因为离子在电场下易于加速获得所需要动能,因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上,即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电;磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。卷绕镀膜机上室为基材卷绕室，要求真空度较低，为罗茨泵机组或扩散泵一罗茨泵一机械泵组。连云港卷绕镀膜机原理
在国内外的包装材料工业、印刷材料工业、纺织工业、电子工业等领域得到普遍的应用，其各种形式的金属化薄膜，用于软包装材料、食品和的包装、工艺美术装璜用的电化铝、服装装饰用的金银丝，高级包装和装饰性保护薄膜，绝缘材料上形成的抗静电层，电缆电线的屏蔽层，丝网印刷和装饰的本底，阳光反射膜，贴墙纸，微波包装，反射路标以及转移镀膜工艺用的PET和OPP的金属化等，随着新技术的迅速发展和应用，其实际的用途还在不断增加。根据试验工艺进行了膜层溅射，溅射后测定成品膜透过率为87.2%，面电阻72 Ω/□，满足行业一般要求，因触摸屏实际使用可能会遇到不同的环境条件，产品遇到高温、低温、高低温冲击等恶劣环境，完全模拟现实条件需要的时间很长，不利于产品的及时推广，因此一般采取实验室测试的方法，结合行业经验对开发产品进行可靠性进行测试。无锡卷绕镀膜机咨询只有卷绕机构保证带状基材的线速恒定，才能使基材上镀层厚度均匀。
一般蒸镀室要达到的真空度为1x10^-3人a—2×10^-3人a，而工作压力为1×10^-2Pa—2×10^-2Pa，而卷绕室真空度通常较蒸镀室低一个数量级。有时卷绕镀膜机以增扩泵（油扩散泵的一种）为主泵，它的极限压力虽然不及油扩散泵，但其抽速范围向高压方向延伸一个数量级，非常适宜此类蒸发的镀膜过程。目前国内卷绕式镀膜机蒸发源多采用坩埚蒸发，其材质有氮化硼、石墨、钼等。氮化硼由于电学及热学性能好，使用寿命长，因而较为普遍地应用于卷绕镀膜机中。每个坩埚的加热功率为6kW—8kW，加热电压为10V—12V。坩埚数量由基材幅宽来确定。辐宽愈宽坩埚数量愈多。幅宽500mm时4只坩埚，800mm时7只坩埚，1300mm时12只坩埚。坩埚分布是不均匀的，中间部分间距大些，在基材边缘处间距小，有的较外侧坩埚与基材幅宽边缘重合。
目前国内卷绕式镀膜机蒸发源多采用坩埚蒸发，其材质有氮化硼、石墨、钼等。氮化硼由于电学及热学性能好，使用寿命长，因而较为普遍地应用于卷绕镀膜机中。每个坩埚的加热功率为6kW—8kW，加热电压为10V—12V。坩埚数量由基材幅宽来确定。辐宽愈宽坩埚数量愈多。幅宽500mm时4只坩埚，800mm时7只坩埚，1300mm时12只坩埚。坩埚分布是不均匀的，中间部分间距大些，在基材边缘处间距小，有的较外侧坩埚与基材幅宽边缘重合。磁控溅射卷绕镀膜是采用磁控溅射（直流、中频、射频）的方法把各种金属、合金、化合物、陶瓷等材料沉积到柔性基材上，进行单层或多层镀膜。 镀膜材料适应范围宽、细腻、均匀、附着牢固等优点。
随着真空镀膜技术的不断发展，其配套的真空度测量技术的关注度也与日俱增。下面就由阿布来向大家介绍本期阿布小课堂的“主角”——真空计。真空计是测量真空度或气压的仪器，一般利用不同气压下气体的物理效应变化进压的测量，在科研和工业生产中普遍使用。从工艺生产流程可以看出，薄膜材料镀膜是采用卷对卷的方式，生产时是连续生产完一卷后才会生产下一卷，每卷在中间生产出现问题时无法进行在线处理，这样就造成了整卷的浪费，因此特别是很薄的薄膜生产时，中间产生褶皱时在收卷的时候由于张力的影响会对后面没有产生褶皱的产品产生杠印，对生产品质和良率造成影响。因此需要进一步改进设计工艺。卷绕镀膜机操作方便缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。无锡卷绕镀膜机咨询
卷绕镀膜机的产品性能满足触摸屏使用要求，后端使用无不良反馈，小批量量产验证稳定可靠。连云港卷绕镀膜机原理
卷绕式真空镀膜在线测厚仪（镀铝膜测厚仪）由探测系统、人机交互设备、电脑实时监控系统三部分组成。卷绕式真空镀膜在线测厚仪能在线实时监控产品品质。工作原理是因为材料的透过率(光密度)和材料的镀层厚度成一定的比例关系。这样通过监控材料的光学透过率(光密度)来达到监控材料的均匀性，镀层厚度的目的。适用于各种卷绕真空镀膜，玻璃镀膜，玻璃生产线等等。卷绕式真空镀膜在线测厚仪LS152在真空环境下经过8个小时的测试，温度从31.7℃到33.3℃，虽然温度在一直升高中，但是升幅不大，只升高了1.6℃。对于测试没有任何影响。连云港卷绕镀膜机原理
