箱式炉的安全操作：1、清理炉内铁屑，清扫炉底板，以免铁屑落于电阻丝上造成短路损坏。2、入箱式炉的工件应不超过炉底板.大载荷量，装卸工件时应确保电源断开的情况下进行。3、汪意检查热电偶安装位置。热电偶插入炉内后，应保证不与工件相碰。4、根据工件的图纸要求，试验箱式炉，确定合理的工艺范围。按时升温，保证出炉操作，经常检查仪表温度并进行校准，防止误操作。5、为保证炉温，不能随便打开箱式炉炉门，检查炉内情况应从炉门孔中观察。6、冷却剂应放置于就近方便的位置，减少工件出炉后降温。7、出炉时应工位正确，夹持稳固，防止炽热工件伤害人体。8、箱式炉检修后，必须按规定进行烘烤，并检查炉堂及顶部保温粉是否填满，接地是否与炉壳紧固。 CVD管式炉使用或长时间不用后，要在120℃左右烘烤1小时。云南箱式气氛炉高校**
PECVD管式炉的具体工艺流程？硅烷与氨气反应生成SiN淀积在硅片表面形成减反射膜。利用高频电源辉光放电产生等离子体对化学气相沉积过程施加影响的技术。由于等离子体存在，促进气体分子的分解、化合、激发和电离，促进反应活性基团的生成，从而降低沉积温度。PECVD在200℃～500℃范围内成膜，远小于其它CVD在700℃～950℃范围内成膜。反应过程中有大量的氢离子注入到硅片中，使硅片中悬挂键饱和、缺陷失去活性，达到表面钝化和体钝化的目的。 上海管式炉用途真空管式炉大多数需要注入一些特殊的气体，这个时候就要检查好管式炉的密封性，避免发生炸裂等。
管式炉采用先进技术，有单管、卧式、可开启式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、温场均匀性高、温区多，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、真空退火用的理想产品.为实验单位提供具有真空、可控气氛及高温的实验条件下做元素分析、物理测定、等加热实验。并应用在半导体、纳米、碳纤维等新材料、新工艺领域中。管式炉必须在相对温度不超过85%、没有导电尘埃、炸裂性气体或腐蚀性气体的场所工作。，当初次使用或长期停用后再次使用时，必须进行烘炉，烘炉的时间应为室温200℃四小时，使用时，炉温较高不得超过额定温度，以免烧毁电热元件。另外禁止向炉内灌注各种液体及易溶解的金属，电炉在低于较高温度50℃以下工作，此时炉丝有较长的寿命。
管式炉的外形是一个横置的圆柱形，它是安放在薄钢板制作而成的底座上面的，管式电阻炉的炉壳同样是使用薄钢板制作而成，其工作室是由碳化硅耐火材料制成的管形炉膛，在炉膛的外面制有螺旋形状的单丝槽，而加热元件是由铁铬合金绕在单丝槽里面的，在炉膛的两端使用耐火材料制成的炉圈固定在炉盖上面，炉膛和炉壳之间是使用耐火纤维以及泡沫导型砖等砌筑成保温层的。在管式炉的炉体的两个端口处还安装有偶孔砖和堵口砖，而热电偶就是从偶孔砖里面进入到炉膛的。1000摄氏度和1200摄氏度的管式电炉，它们的结构都是高铝炉管外面绕电热丝，炉膛管水平放置，炉温比较均匀。1300摄氏度的管式加热炉的加热元件使用的是碳硅棒，并且其炉膛管就是其加热元件，升温比较快，炉温均匀。炉膛有水平和垂直两种放置方式。管式炉的温度控制系统有两种方式，其中KSY系列的控制器采用的是智能的温控仪表，专业的模块，控制精度比较高。KSW系列的控制器采用的是位式控温仪表，控温准确，操作比较简单。使用真空管式炉的操作：把真空管式炉温度指示仪的后端接线板上面的“短”和“短”直接的连线。
管式炉的重要工艺设计参数有：热负荷、热效率、辐射管热强度、管内介质流速、火墙温度、对流室烟气流速等。1、热负荷：被加热介质吸收的热量，注意不是燃料的放热量，也不是加热炉的供给热量。它表示管式炉规模的大小，MW。2、热效率：表示供给管式炉的热量被有效利用的程度，%。她是管式炉先进性的重要指标。3、辐射管平均热强度：表示单位时间通过炉管单位外表面积的热量，W/m2。它也是管式炉先进性的重要指标。标准称呼是“热流密度”。4、管内介质流速：表示介质在管内流动的快慢，有质量流速（kg/m2.s)和线速（m/s)两种表达方式，还有经济流速和品质流速之分。5、火墙温度：烟气出辐射室温度，也称桥墙温度。它表示辐射室传热的激烈程度。它也是管式炉操作中的重要控制指标。6、对流室烟气流速：烟气通过对流室管束流动的快慢。它影响到对流传热系数的大小和烟囱的高低。使用真空管式炉的操作：如果使用补偿导线以及冷端补偿器的话，那么要把机械零位调整到基准温度点。内蒙古管式炉高校**
管式炉的使用注意事项：需要特别注意加热元件的各连接点的连接是否牢固。云南箱式气氛炉高校**
管式炉是一种实验室设备,适用于金属，纳米，单晶硅,多晶硅,电池等的扩散焊接以及真空下的气体保护下，在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。采用先进技术，开发研制的节能环保电炉，管式炉有单管、双管、卧式、可开启式管式实验电炉。如要通各种气体也可以也可配备气体控制柜。管式炉适用于工矿企业、大专院校，科研院所及实验室作真空或气氛状态下烧结各种新材料样品用。真空气氛管式炉是一种先进实验设备，适用于金属，纳米，单晶硅，多晶硅，电池等的扩散焊接以及真空气体保护下，气氛热处理的加热设备。真空气氛炉主要用于材料试验、合成、烧结等。炉体保温性能良好，节能，气氛炉还可用于、复合材料、粉体材料、结构陶瓷、合金的真空热压烧结。云南箱式气氛炉高校**
