在较低温度下进行无助焊剂焊接的合适替代方法是在甲酸(HCOOH)蒸气下进行焊料回流。蒸气在较低温度(150–160°C)下与金属氧化物发生化学反应以形成格式;提高温度甚至会进一步将形式分解为氢气、水和二氧化碳。当与真空回流焊系统结合使用时,这些气体和蒸汽可以通过真空系统去除。典型的甲酸真空焊料回流曲线如下所示。在使用氮气再填充的两个真空阶段之后,腔室中没有大气和氧气。温度随着甲酸蒸气的引入而升高(氮气用作甲酸蒸气的载体)并在160°C停留,进一步升温至220°C并停留为焊料回流提供时间和氧化物去除。然后用氮气吹扫腔室并用真空台抽空以去除任何空隙。甲酸回流焊是一种经过验证的无助焊剂焊接方法,由于甲酸蒸汽的氧化物去除特性在较低温度下有效,因此它也是一种非常灵活的工艺。它消除了对回流前助焊剂和回流后助焊剂去除的需要。而且由于甲酸的腐蚀性,它会留下裸露的金属表面,适合进一步的扩散过程,例如引线键合。模块化设计便于设备升级。肇庆真空甲酸回流焊接炉研发

主要技术特点:无助焊剂焊接: 完全替代传统助焊剂,甲酸及其产物可被排出,焊接后基本无残留物,省去清洗步骤。低焊点空洞率: 真空环境有效减少熔融焊料中滞留的气体,通常能将空洞率降至较低水平(常低于3%或更低),这有助于连接点的强度、导热性和长期稳定性。金属连接效果: 清洁活化的金属表面结合真空条件,促进形成连接良好的金属间化合物。适用性: 适用于对残留物敏感或难以清洗的器件。防氧化: 还原性气氛抑制了焊料和焊盘在高温下的氧化。工艺气体: 使用甲酸替代某些含卤素的助焊剂,但甲酸本身需安全处理和尾气净化。肇庆真空甲酸回流焊接炉研发真空甲酸回流焊接炉支持多种焊接模式切换。

中国方面高度重视半导体产业的发展,出台了一系列支持政策,为真空甲酸回流焊接炉行业的发展提供了良好的政策环境。《国家集成电路产业发展推进纲要》明确提出要加快集成电路装备的国产化进程,支持国内企业研发和生产半导体设备。各地也纷纷出台配套政策,通过财政补贴、税收优惠、人才引进等方式,支持半导体设备企业的发展。这些政策的出台,为真空甲酸回流焊接炉制造商提供了资金支持和市场机遇,促进了企业的研发投入和技术创新,加快了国产化替代的进程。
全球真空甲酸回流焊接炉市场竞争激烈,主要参与者包括国外企业和国内新兴企业。国外企业如德国的部分企业,凭借长期积累的技术优势和丰富的市场经验,在全球市场占据主导地位。这些企业技术研发、产品性能优化以及品牌建设方面投入巨大,其产品在真空度、温度控制精度、设备稳定性等关键性能指标上处于行业重要水平,深受全球半导体制造企业的青睐。国内企业近年来发展迅速,他们凭借国产化优势和不断提升的技术创新能力,在全球市场中逐渐崭露头角。国内企业充分利用国内制造业的成本优势,提供性价比更高的产品,满足了国内半导体企业对国产化设备的需求,同时积极拓展国际市场。在技术创新方面,国内企业加大研发投入,与高校、科研机构紧密合作,在部分关键技术领域取得突破。这些国内企业通过技术创新和产品优化,逐渐在全球市场竞争中占据一席之地,对国外企业的市场地位构成了一定挑战,推动了全球真空甲酸回流焊接炉市场竞争格局的多元
设备加热速度快,缩短预热时间。

气路系统负责向焊接腔体内通入氮气、甲酸等气体,以满足焊接过程中的不同需求。气路系统包含多条气体路径,其中氮气通常有三条路径:一条直接进入工艺腔体,用于提供惰性保护气氛,防止金属氧化;一条作为气冷介质进入冷却管,与水冷系统协同工作,实现对焊接后的器件快速冷却;还有一条连接至真空泵的气球室,用于增强真空泵的压缩比,提高真空系统的性能。甲酸气体通过专门的管道和流量控制系统进入腔体,在焊接过程中发挥还原氧化物的作用。气路系统配备了高精度的气体流量控制器,能够精确控制各种气体的流量和比例,确保焊接过程中的气体氛围满足工艺要求。减少焊点腐蚀风险,提升长期稳定性。江苏翰美QLS-23真空甲酸回流焊接炉产能
甲酸还原氧化层,增强焊点结合力。肇庆真空甲酸回流焊接炉研发
未来,真空甲酸回流焊接技术将朝着更高精度、更高效率、更环保和更智能化的方向发展。在精度提升方面,随着半导体器件不断向更小尺寸和更高集成度发展,对焊接精度的要求将达到纳米级。为了满足这一需求,真空甲酸回流焊接炉将进一步优化温度控制、真空度控制和气体流量控制等重要技术,提高控制精度。例如,通过采用更先进的传感器和控制算法,将温度控制精度提升至 ±0.1℃,真空度控制精度提升至 0.1Pa 以下,确保在微小尺寸焊点的焊接过程中,能够精确控制焊接环境和工艺参数,实现高质量焊接。肇庆真空甲酸回流焊接炉研发