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辅助烧结基本参数
  • 品牌
  • 海目星,海目星激光
  • 型号
  • 海目星
辅助烧结企业商机

为了方便操作人员快速了解设备的运行状态和异常情况,控制系统配备了声光三色报警指示灯。当设备出现异常或故障时,报警指示灯会发出相应的声光信号,提醒操作人员及时处理。同时,设备还配备了急停按钮,可以在紧急情况下迅速停止设备的运行,大幅度地减少设备和人员的安全风险。

控制系统在整个硅片检测设备中起到了至关重要的作用。通过采用高性能计算机控制系统、自主研发的控制软件、专业先进的人机界面以及完备的安全功能和操作权限管理,控制系统实现了设备的自动化、智能化和高效化运行。这不仅提高了设备的检测效率和精度,还降低了操作人员的劳动强度和误操作的风险。 所有电器、配电箱及控制箱的设计安装,符合国家电器技术的安全标准。江苏激光诱导辅助烧结定制

设备运行环境对于硅片检测设备的稳定性和准确性具有重要影响。为了确保设备的正常运行和高效率,需要提供一个适宜的环境条件。接下来,我们将对设备运行环境的各项要求进行详细的分析和探讨。

供电电压是设备运行的基础条件之一,它直接影响到设备的稳定性和安全性。硅片检测设备需要供电电压为AC380V,允许的电压波动范围为±10%。这样的电压范围能够保证设备在正常工作时不会因电压波动而产生异常或故障。同时,为了确保设备的安全运行,还需要提供接地端子,并保证接地电阻小于4欧姆。 青海激光诱导辅助烧结价格具有声光三色报警指示灯,急停按钮。

皮带传输:精确稳定的硅片定位在硅片传输过程中,皮带传输方式发挥着至关重要的作用。传统的传输方式可能因为振动、摩擦或其他外部因素而导致硅片位置偏移,影响后续加工精度。而海目星设备采用的皮带传输系统具有高稳定性,能够确保硅片在传输过程中的精确位置控制。同时,先进的传感器和控制系统实时监测硅片的位置和姿态,一旦发现任何偏差,系统会迅速作出调整,确保硅片在烧结和打标过程中的定位精度。

旋转治具平台:硅片表面处理的技术在硅片输送到位后,旋转治具平台发挥了关键作用。传统的固定式治具平台无法满足复杂表面处理的多样化需求。而海目星设备的旋转治具平台通过精确控制硅片的旋转角度和速度,实现了对硅片表面的高效处理。通过旋转治具平台,硅片表面能够与激光束进行多方位的接触,确保打标和烧结效果的均匀性。此外,旋转治具平台还具有自动校准功能,可以根据硅片的大小和形状自动调整旋转参数,进一步提高了加工精度和一致性。

温度是影响硅片检测设备稳定性和准确性的重要因素之一。适宜的温度能够保证设备的正常运行和检测结果的准确性。根据设备运行的要求,温度范围应为17-35℃。在此温度范围内,设备的各项性能指标都能够得到保证,同时也有利于延长设备的使用寿命。

相对湿度也是影响硅片检测设备稳定性和准确性的重要因素之一。适宜的相对湿度能够保证设备的正常运行和延长设备的使用寿命。根据设备运行的要求,相对湿度的范围应为40-60%。在此湿度范围内,设备的各项性能指标都能够得到保证,同时也有利于防止静电和凝露的产生。 使用高精度像素相机对硅片的位置进行定位。

主机是整个硅片检测设备中的重要部分,它负责硅片的输送、缓存、上下料、CCD定位、激光标记、通反向电源等功能。主机的设计需要考虑到硅片的特性、检测精度、生产效率等多个方面,以确保设备能够高效、准确地完成检测任务。

1.硅片输送模组硅片输送模组是主机中的重要组成部分,它负责将硅片平稳、轻柔地输送到缓存机构和加工位中。该模组采用皮带输送装置,通过步进电机的驱动,聚氨酯定制皮带以及主从动轮的配合,实现硅片的快速稳定运输。在输送过程中,硅片的位置和姿态得到精确控制,以确保它们能够正确地对准和定位。 大限度减少与工件的接触,柔和抓取工件,同时减少吸盘的升降动作,提升吸取速率。青海激光诱导辅助烧结价格

海目星提供以下设备操作技术支持服务。江苏激光诱导辅助烧结定制

在硅片尺寸和厚度方面,该设备明确指出适用硅片的直径范围为182-230mm,并且硅片的厚度应大于或等于100um。这确保了设备在检测不同规格硅片时的稳定性和准确性。

此外,该设备采用对接丝网烧结炉网带的上料方式,这使得设备能够与丝网烧结炉无缝对接,进一步提高了生产线的连续性和效率。

在产能方面,该设备对于182*182mm的硅片尺寸,每小时可以完成9600片以上的检测;而对于210*210mm的硅片尺寸,每小时的产能也达到了9000片以上。这样的高效率对于大规模生产的硅片制造商来说是非常有吸引力的。

碎片率是评估设备性能的重要指标。该设备的碎片率非常低,182*182mm规格的硅片碎片率不超过0.02%,而210*210mm规格的碎片率则不超过0.03%。这表明该设备在检测过程中对硅片的损伤极小,能够保证硅片的高质量。 江苏激光诱导辅助烧结定制

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