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4、Al-SiO2法

Al-SiO2法是目前制备氧化铝陶瓷中采用**多的方法。该方法将Al金属和SiO2粉体混合均匀后，在Ar气条件下进行反应，反应温度一般为1300～1500 ℃

，反应时间为2～4h，制备得到氧化铝陶瓷。

Al-SiO2法优点是原料价格低廉，工艺操作简单易行。缺点是：制备过程中需要通入保护气体，限制了其工业应用。

5、前驱体法

化学反应前驱体法在水热条件下进行，原料在高压釜内发生反应得到前驱体，前驱体已经具有陶瓷或是纤维状结构，为**终产物的出现提供了骨架。在水热制备氧化铝陶瓷中，勃姆石纤维为常见中间体。主要工艺过程是采用 Al（OH）3为前驱体，胶体经水热反应生成纤维状勃姆石晶粒，再经常压下煅烧，得到 α-Al2O3微粉，晶粒仍保持了纤维形状。 来选择相应的真空接口就行。不管被加工物形状如何，都可以吸附.深圳销售微孔陶瓷真空吸盘联系人

真空吸盘要求高孔隙率，超微细孔径的场合，Fountyl微孔陶瓷正空吸盘，孔大小在30微米到60微米的范围。微孔陶瓷的结构形状有很多种，都是由无数不同规格的硅酸铝瓷质颗粒**而成，**时不同规则地形成了几十微米到0.1微米的自由空隙，经过掺入高温（１5００℃）的溶蚀粘结物，再经烧结而获得强度大、空隙多而小、耐腐蚀、耐高温的微孔陶瓷。经特殊工艺加工出来的微孔陶瓷材料，采用粗细均匀的颗粒，加工出来的陶瓷板具有孔径分布均匀，研磨后的表面光滑平整，可替代国外进口材料，是各种半导体片生产过程中用于吸附及承载的**工具，应用于减薄、划片、清洗、搬运等工序，广泛应用于半导体、印刷、电子陶瓷等行业的真空吸盘设备。销售微孔陶瓷真空吸盘维修电话再经烧结而获得强度大、空隙多而小、耐腐蚀、耐高温的微孔陶瓷。

3、等静压成型

对形状特殊和尺寸大的氧化锆结构陶瓷，需采用等静压成型。等静压成型的坯体由于各方向所受压力均匀相等，且压力大，因此成型后的坯体密度高，均匀性好，烧成收缩小，不易变形、开裂、分层。该成型方法可避免干压时易出现的分层，特别是成型较厚的氧化锆制品，干压时极易出现分层，而等静压成型则可避免，因此该成型方法是生产氧化锆制品常用的方法。但等静压成型后的坯体需要加工，因此会浪费一部分原料，同时由于坯体很硬，加工比较麻烦，且加工速度要求缓慢，否则坯体易发生断裂，生产效率不高。

挤出成型多孔蜂窝陶瓷

蜂窝陶瓷的成型方法有许多种,挤出成型是**普遍采用的制造方法之一。它的工艺流程为:原料合成-混和-挤出成型-干燥-烧成制品

固相烧结工艺

固相烧结工艺利用微细颗粒易于烧结的特点，在骨料中加入相同组分的微细颗粒，在一定的温度下微细颗粒通过蒸发和迁移，在大颗粒连接部烧结，从而将大颗粒连接起来。由于每一粒骨料*在几个点上与其他颗粒发生连接，因而在烧结体中形成大量的三维贯通孔道。

凝胶注模工艺

凝胶注模工艺源于20世纪90年代，美国橡树岭国家实验室**早将传统陶瓷成型技术与高分子化学反应结合在一起，研制出这种新型陶瓷制备工艺。凝胶注模工艺过程是一个原位成型过程，主要利用有机单体或少量添加剂的化学反应原位凝固成型，获得具有良好微观均匀性和一定强度的坯体，而后烧结制得成品。 固定盘连接在旋转器上，被固定物可以随着固定盘一起旋转。

高纯型氧化铝陶瓷系Al2O3含量在99．9%以上的陶瓷材料，由于其烧结温度高达1650—1990℃，透射波长为1～6μm，在电子工业中可用作集成电路基板与高频绝缘材料。

 氧化锆陶瓷呈白色，含杂质时呈黄色或灰色，一般含有HfO2，不易分离。在常压下纯ZrO2共有三种晶态。氧化锆陶瓷的生产要求制备高纯、分散性能好、粒子超细、粒度分布窄的粉体，氧化锆超细粉末的制备方法很多，氧化锆的提纯主要有氯化和热分解法、碱金属氧化分解法、石灰熔融法、等离子弧法、沉淀法、胶体法、水解法、喷雾热解法等。 微孔陶瓷真空吸盘的着眼点及产品特点.销售微孔陶瓷真空吸盘维修电话

经特殊工艺加工出来的微孔陶瓷材料.深圳销售微孔陶瓷真空吸盘联系人

材质

(1)高硅质硅酸盐材料，它主要以硬质瓷渣、耐酸陶瓷渣及其他耐酸的合成陶瓷颗粒为骨料，具有耐水性、耐酸性，使用温度达700℃。

(2)铝硅酸盐材料，它以耐火粘土熟料、烧矾土、硅线石和合成莫来石颗粒为骨料。具有耐酸性和耐弱碱性，使用温度达1 000℃。

(3)精陶质材料，它以多种粘土熟料颗粒与粘土等混合烧结，得到微孔陶瓷材料。

(4)硅藻土质材料，它主要以精选硅藻土为原料，加粘土烧结而成。用于精滤水和酸性介质。

(5)纯炭质材料，它以低灰分煤或石油沥青焦颗粒为原料，或加入部分石墨，用稀焦油粘结烧制而成，用于耐水、冷热强酸、冷热强碱介质以及空气的消毒和过滤等。

(6)刚玉和金刚砂材料，它以不同型号的电熔刚玉和碳化硅颗粒为骨料，具有耐强酸、耐高温的特性 深圳销售微孔陶瓷真空吸盘联系人

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