企业商机
真空烘箱基本参数
  • 品牌
  • 宏誉科技
  • 型号
  • HY-608-100
真空烘箱企业商机

    有机玻璃/亚克力制品是由聚甲基丙烯酸甲酚制成,聚甲基丙烯酸甲酚含有极性侧甲基,具有较强吸湿性能,吸水率一般在亚克力板材必须保持干燥,干燥需要的条件是78℃-80℃下干燥5-6h.亚克力在流动的过程中的温度一般都在150℃左右,但是当亚克力开始分解的时候,温度却是高于270℃,所以说在温度的变化方面还是很灵活的,不会受到温度的影响而生产,耐高温是有机玻璃的特性。Pmma通俗的名称:有机玻璃,又称作亚克力压克力物理性能:密度:≥16kg/cm3拉伸强度≥61Kg/m3热变型温度≥78℃热软化温度≥105℃1.首先原料必须烘干:80度4个小时以上2.成型温度:200---315度当然,温度是根据产品的厚薄度,考虑所需的流动性,3.模温:60---90度。 储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。加热功率比例可调真空烘箱监控系统

真空烘箱

烘箱结构真空烘箱能在较低温度下获得较高的干燥速率,热量利用充足,主要合用于对热敏性物料和含有容剂及需回收溶剂物料的干燥。在干燥前可进行消毒办理,干燥过程中任何不纯物无混入,本干燥器属于静态真空干燥器,故干燥物料的形成不会破坏。加热方式有:蒸汽、热水、导热油、电热。在真空条件下,溶剂沸点明显降低,箱内保持温度恒定,实现样品在较低温度下快速干燥,同时供给一个无尘、无旋涡、平和的干燥环境,还使得溶剂的蒸汽易于采集,排放或再利用。空气循环系统采纳双电机水平循环送风方式,风循环平均高效。加热功率比例可调真空烘箱监控系统整体成型硅橡密封圈,高真空度密封。

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    塑料制品的热处理是指将成型制品在一定温度下停留一段时间而消除内应力的方法。热处理是消除塑料制品内取向应力的比较好方法。对制件进行热处理,可以使高聚物分子由不平衡构象向平衡构象转变,使强迫冻结的处于稳定的高弹形变获得能量而进行热松弛,从而降低或基本消除内应力。常采用的热处理温高于制件使用温度10~20℃或低于热变形温度5~10℃。热处理时间取决于塑料种类、制厚度、热处理温度和注塑条件。一般厚度的制件,热处理1~2小时即可,随着制件厚度增热处理时间应适当延长。提高热处理温度和延长热处理时间具有相似的效果,但温度的效更明显些。热处理方法:1)是将制件放入水、甘油、矿物油、乙二醇和液体石蜡等液体介质中,2)放入空气循环烘箱中加热到指定温度,并在该温度下停留一定时间,然后缓慢冷却到室温。实验表明,脱模后的制件立即进行热处理,对降低内应力、改善制件性能的效果更明显。此外,提高模具温度,延长制件在模内冷却时间,脱模后进行保温处理都有类似热处理的作用。

维护保养:5、有条件的对管中同样进行清理,确保管路畅通。6、重新装配后应进行试运行,一般须空运转2小时并换油二次,因清洗时在真空泵中会留有一定量易挥发物,待运转正常后,再投入正常工作。7、检查真空泵管路及结合处有无松动现象。用手转动真空泵,试看真空泵是否灵活。8、向轴承体内加入轴承润滑机油,观察油位应在油标的中心线处,润滑油应及时更换或补充。9、拧下真空泵泵体的引水螺塞,灌注引水(或引浆)。10、关好出水管路的闸阀和出口压力表及进口真空表。11、点动电机,试看电机转向是否正确。12、开动电机,当真空泵正常运转后,打开出口压力表和进口真空泵,视其显示出适当压力后,逐渐打开闸阀,同时检查电机负荷情况。真空烘箱专为干燥热敏性、易分解和易氧化物质而设计。

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    与普通干燥箱相比,真空烘箱突出的优势为它的加热方式。真空烘箱是四面安装有紧贴真空室外箱壁金属板的功率相同的电热丝,所以在电热丝在进行加热时,热量通过真空室的不锈钢金属壁辐射到工作室内,保证了工作室内的温度辐射热量相同,从而使得烘干中的物料保持均匀性。随着时间的推移和设备的使用,真空烘箱在工作中也暴露了许多缺陷。真空烘箱的维修很麻烦,对于电热丝烧断的维修,只能先把真空烘箱的大门拆掉,然后取下硅胶密封条并拆掉真空室的固定螺丝,再拆掉真空烘箱后面的盖板,取出所有的保温岩棉,拆卸出真空室。这样繁琐的步骤结束后才能更换新的电热丝并重新安装真空烘箱设备。此外,真空烘箱的温度上升慢、下降慢问题,给干燥工作带来一定的局限性,且真空实验结束后,还容易使得实验人员被真空室的四周金属壁烫伤,因此真空烘箱的安全性和人性化设计需要进一步改进。经常检查油质情况,发现油变质应及时更换新油,确保真空泵工作正常。宁波进口数显真空烘箱箱内高真空度

真空泵在运行过程中,轴承温度不能超过环境温度35C,最高温度不得超过80C。加热功率比例可调真空烘箱监控系统

在CCD(电荷耦合器件)制造过程中,颗粒沾污对CCD的薄膜质量、光刻图形完整性等有很大的影响,降低CCD的成品率。CCD制造过程中的颗粒来源主要有两个方面:一个制造过程中工艺环境产生的颗粒;另一个是薄膜的淀积、光刻和离子注入等CCD工艺过程中产生的颗粒。工艺环境的颗粒可来源于墙体、设施、设备、材料和人员,工艺过程的颗粒来源于易产生粉尘的工艺,比如说LPCVD淀积多晶硅和氮化硅及刻蚀工艺等。无尘烘箱,即使在普通环境下使用,能够确保烘箱内部等级达到Class 100,为CCD(电荷耦合器件)制造过程中烘烤提供洁净环境,预防颗粒沾污加热功率比例可调真空烘箱监控系统

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