光催化系统就是光触媒在外界光的作用下发生催化作用，光触媒在光照条件下（可以是不同波长的光照）所起到的催化作用的化学反应。从1972年，Fujishima在半导体TiO2电极上发现了水的光催化分解作用，从而开辟了半导体光催化这一新的领域。1977年，Yokota发现光照条件下，二氧化钛对丙烯环氧化具有光催化活性，拓宽了光催化应用范围，为有机物氧化反应提供了一条新思路。此后光催化技术在能源制氢、二氧化碳还原、污染物降解等方面迅速发展起来，光催化制氢在解决环境和能源问题上具有广阔的应用前景。光催化系统可根据客户的科研需求，个性化定制多通道装置，有利于做平行实验。高均匀性光催化活性评价系统
光催化原理：光催化法是近几十年来发展起来的一种深度氧化技术(advancedoxidationprocess,AOP)。它是将特定光源(如紫外光UV)与催化剂(TiO2或CdS)联合作用对有机废水进行降解处理的过程。TiO2受光源激发产生的空穴是一种强氧化剂，导带电子则是一种强还原，大多数有机物和无机物能够直接或间接被它们氧化还原。反应过程中生成的·OH具有很强的化学活性，利用这种高活性的自由基可以氧化包括生物难以转化的各种有机物并使之矿化，甚至能够氧化细菌体内的有机物生成CO2和H2O。另外，它还可以与有毒的无机物起氧化反应使其在短时间内失去毒性。北京氢能源光催化氙灯光催化反应所指的是什么？
光催化是光化学和催化科学的交叉点，一般是指在催化剂参与下的光化学反应。半导体材料之所以具有光催化特性，是由它的能带结构所决定。半导体的晶粒内含有能带结构，其能带结构通常由一个充满电子的低能价带（valent-band，VB）和一个空的高能导带（conductionband，CB）构成，价带和导带之间由禁带分开，该区域的大小称为禁带宽度，其能差为带隙能，半导体的带隙能一般为0.2~3.0eV。当用能量等于或大于带隙能的光照射催化剂时，价带上的电子被激发，越过禁带进入导带，同时在价带上产生相应的空穴，即生成电子/空穴对。由于半导体能带的不连续性，电子和空穴的寿命较长，在电场作用下或通过扩散的方式运动，与吸附在催化剂粒子表面上的物质发生氧化还原反应，或者被表面晶格缺陷俘获。空穴和电子在催化剂内部或表面也可能直接复合。
光催化原理：半导体光催化剂大多是n型半导体材料，都具有区别于金属或绝缘物质的特别的能带结构,即在价带和导带之间存在一个禁带。由于半导体的光吸收阈值与带隙具有式K=1240/Eg(eV)的关系,因此常用的宽带隙半导体的吸收波长阈值大都在紫外区域。当光子能量高于半导体吸收阈值的光照射半导体时,半导体的价带电子发生带间跃迁,即从价带跃迁到导带,从而产生光生电子(e-)和空穴(h+)。此时吸附在纳米颗粒表面的溶解氧俘获电子形成超氧负离子,而空穴将吸附在催化剂表面的氢氧根离子和水氧化成氢氧自由基。而超氧负离子和氢氧自由基具有很强的氧化性,能将绝大多数的有机物氧化至终产物CO2和H2O,甚至对一些无机物也能彻底分解。光催化法是将特定光源与催化剂联合作用对有机废水进行降解处理的过程。
光催化氙灯光源的分类：氙灯光源按照灯泡结构分类分为长弧氙灯、短弧氙灯和球形氙灯，按照照射方式不同可分为内照式光源和外照式光源。长弧氙灯一般采用管型氙灯灯管，把灯管置于反应器内部，采用四周发散式照射，一般被称为内照式光源。这种光源属于全波段照射，不能增加滤光片，但是价格低廉，适合光化学的初级研究用。短弧氙灯一般采用球型氙灯灯泡，平行光束通过出光口照射，光输出部分可以选配不同的滤光片，进而得到紫外光谱、可见光谱、紫外或者可见单色光，出光口可360度旋转调节角度任意方向照射。球形氙灯需要高精密的光路设计，一般是通过后置反光镜将光收集汇聚成点光源，然后经过光学透镜组，实现平行光输出，这样输出的平行光均匀度高，适合做光电方面、太阳能电池、光生物方面实验。常常用来配合单色仪，组成可调单色光源。光催化法是近几十年来发展起来的一种深度氧化技术。深圳高稳定性光催化活性评价系统
光催化水分解法将水转化为氢气。高均匀性光催化活性评价系统
光催化氙灯光源是一种利用氙气放电发光的电光源。由于灯中的放电材料是惰性气体氙气，因此激发电位和电离电位之间的差异很小。氙灯辐射光谱的能量分布接近太阳光，色温约为6000K。连续光谱部分的氙灯光谱分布几乎与灯光输入功率的变化无关，光谱能量的分布在使用寿命期间几乎不变。由于氙灯光源的特殊性，其目前的应用领域主要集中在实验设备上。例如，各种光催化实验都离不开氙灯作为光源的使用；还有一个模拟太阳能可见光的加速实验，加速实验模拟太阳紫外光等，都需要用氙灯作为光源。科学实验设备似乎离不开这种氙灯发出的光源。高均匀性光催化活性评价系统
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