根据板式uv光催化氧化设备的结垢情况、老化程度和用户的要求，板式uv光催化氧化设备的化学清洗可分为拆卸清洗和不拆卸清洗两种方法。拆卸清洗除垢比较彻底，效果好，但劳动量大、工序复杂，且容易造成uv光催化氧化设备渗漏、零配件损坏等不良影响。当板式uv光催化氧化设备结垢情况严重、换热效率低下，甚至堵塞时，必须采取拆卸清洗;当板式uv光催化氧化设备结垢较轻或老化严重时，可采取不拆卸清洗。不拆卸清洗除垢不够彻底，但劳动量小、工序简单，且不容易造成uv光催化氧化设备渗漏、零配件损坏等不良影响。uv光催化氧化设备自动调整冷煤流量。uv光催化氧化生产
uv光催化氧化设备的吸附可分为物理吸附和化学吸附；物理吸附亦称范德华吸附，是由于吸附剂与吸附质分子之间的静电力或范德华引力导致物理吸附引起的，当固体和气体之间的分子引力大于气体分子之间的引力时，即使气体的压力低于与操作温度相对应和饱和蒸气压，气体分子也会冷凝在固体表面上，物理吸附是一种吸热过程。化学吸附亦称活性吸附，是由于吸附剂表面与吸附质分子间的化学反应力导致化学吸附，它涉及分子中化学键的破坏和重新结合。uv光催化氧化生产uv光催化氧化设备内侧仍旧保持高温。
uv光催化氧化设备吸收法主要指的是液体吸收法，采用低挥发或不挥发性的液体吸收剂对废气中的物质进行吸收，从而对废气进行处理。根据吸收原理的不同，液体吸收法可分为物理吸收法和化学吸收法。前者利用物质的相似相容原理，通过吸收剂选择性地吸收与其性质相似的气体从而达到净化目的；后者则是通过吸收剂与废气之间发生化学反应，从而实现净化废气、分离污染物的目的。针对不同成分的废气，选择合适的吸收剂重要。肖潇等对比了几种废气吸收液(二乙基轻胺、聚乙二醇400、硅油、食用油、废机油、0#柴油)对甲苯废气的吸收效果。
uv光催化氧化设备流程的确定：两侧流体的流量大致相当时，应尽量按等程布置。：当两侧流体的流量相差较大时，则流量小的一侧按多流程布置或采用不等截面通道的板式uv光催化氧化设备。另外，当某一介质的温升或温降幅度较大时，也可采用多流程。有相变发生的一侧一般均为单流程，且接口方式为上进下出。在多流程uv光催化氧化设备中，一般对同流体在各流程中应采用相同的流道数。uv光催化氧化设备压降修正系数，单流程时取1、2~1、4,2~3流程取1、8~2、0,4~5流程取2、6~2、8。流向的选取。单相换热时，逆流具有较大的平均温差，一般在板式uv光催化氧化设备的设计中要尽可能把流体布置为逆流。两侧流体为等流程时，为逆流。uv光催化氧化设备有着广阔的市场前景,因此要加强研究力度,提高处理故障的能力,消除不利因素影响。
uv光催化氧化设备单板面积的选择。单板面积过小，则板片数目多，占地面积大，阻力降减小;反之，单板面积过大，则板片数目少，占地面积小，阻力降增大，但是难以保证适当的板间流速。因此一般单板面积可按角孔流速为6m/s左右考虑。板间流速的选取。流体在板间的流速，影响换热性能和压力降。流速高，传热系数高，阻力降也增大：反之，则相反。一般取板间流速为0、2-0、8m/s,且尽量使两种流体板问速度一致。流速小于0、2m/s时，流体达不到湍流状态，且会形成较大的死角区;流速过高会导致阻力降剧增，气体板间流速一般不大于10m/s。uv光催化氧化设备一定要保证是安全确实的接地,以免产生静电感应。uv光催化氧化生产
uv光催化氧化设备的排气与吸气压力值偏低。uv光催化氧化生产
uv光催化氧化设备的活性炭吸附箱当废气由风机提供动力，负压进入吸附箱后进入活性炭吸附层，由于活性炭吸附剂的表面上存在着未平衡和未饱和分子引力或化学键力，因此当活性炭吸附剂的表面与气体接触时，就能吸引气体分子，使其浓聚并保持在活性炭表面，此现象称为吸附。利用活性炭吸附剂表面的吸附能力使废气与大表面的多孔性活性炭吸附剂相接触，废气中的污染物被吸附在活性炭表面上，使其与气体混合物分离，净化后的气体高空排放UV光氧活性炭一体机结合了UV光解氧化技术和活性炭吸附。uv光催化氧化生产
