首页 >  环保 >  徐州石墨烯超纯水设备 欢迎来电「硕科环保工程设备供应」

超纯水设备基本参数
  • 品牌
  • 翮硕,硕科
  • 型号
  • SK0003
  • 适用领域
  • 电子工业,化工,电镀,医药,食品饮料,多种适用
  • 加工定制
超纯水设备企业商机

很多朋友都在问,做超纯水设备的企业这么多,硕科环保工程设备的设备有着哪些优势呢?:1、降低能耗,减少化学药品的使用量,让整个生产的综合成本更低。2、硕科环保工程的超纯水设备,每个自动运行程序的工艺参数、控制参数都可以在线进行设定。3、硕科环保工程的纯水设备拥有着自动报警系统,可分析各类故障并发出警报,显示故障点和故障状态。4、硕科环保工程的超纯水设备,整体设备运行稳定,自动化程度高,无需人工干预,可以降低人工成本。5、整套超纯水设备中,均有安装杀菌消毒系统,确保出水水质不受二次污染,保持水质的稳定性。超纯水设备的运用有助于提高工业生产的效率和产品质量。徐州石墨烯超纯水设备

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    EDI超纯水设备各种技术工艺的优缺点。目前,成套EDI超纯水设备制备超纯水技术大约有三种,三种工艺各有各的优点,也各有各的缺点,第一种是传统的利用离子置换树脂制备超纯水的工艺,这种工艺优点较明显,设备运行初期的资金投入少,并且设备体积较小,但树脂工作时间长了需要再生,在再生阶段会造成大量的酸碱浪费以及污染,所以比较不环保。现如今,超纯水系统工艺主要有三大类,其他的工艺基本上都是在这三大类的基础上进行不同结合搭配衍生出来的。现在将这三种工艺的优缺点列于此。1、EDI电子超纯水设备采用的第一种工艺主要使用离子交换树脂,优点显示在投入资金少,占用的地方不是很大,但缺点也非常明显,必须经常进行再生,对环境有一定的破坏。2、第二种工艺使用反渗透技术作为预处理装置技术,这个工艺缺点比上一种工艺还要严重,初期的投入资金比上一种高出很多,优点就是EDI电子超纯水设备再生时间间隔相对要长,对环境同样有一定污染性。3、、第三种工艺同样是采用反渗透作装置作为预处理设备,第三种方法这是现如今制取超纯水比较经济、环保用来制取超纯水工艺,不必进行设备再生处理,并且周围环境基本无污染。 RO超纯水设备厂家电话硕科智能化超纯水设备生产。

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    超纯水设备的工艺流程为:1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)。2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)。3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(新工艺)。4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(新工艺)。5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)。

    制备电子工业用超纯水的工艺流程。电子工业制备超纯水的工艺大致分成以下3种:(1)采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。(2)采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。图片(3)采用反渗透设备与电去离子(EDI)设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式,这是一种制取超纯水的新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。 光学光电超纯水设备生产厂家。

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     EDI超纯水处理设备,电去离子简称EDI,是一种将离子交换技术,离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。属高科技绿色环保技术。工业edi超纯水设备的原理1、RO产水进入edi模块后被均匀地分配到淡水室中。2、RO膜未脱除的微量离子被淡水室中的离子交换树脂吸附在膜表面。3、直流电加在edi模块的两端电极,驱动淡水室中的阴阳离子向相应电极迁移至浓水室,从而制取高纯水。4、在电场作用下,水分子被大量电离成H+和OH-,从而连续地对离子交换树脂进行再生。制药超纯水设备装置选购技巧。反渗透超纯水设备故障原因分析

大型工业超纯水设备安装调试。徐州石墨烯超纯水设备

多晶硅超纯水设备主要用在多晶硅片清洗中,多晶硅片,半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于去除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,引起严重漏电,颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等,会导致各种缺陷。针对多晶硅加工工艺需求和当地水源情况,可采用工艺流程:ASS+UF+1RO+2RO+EDI+SMB或MMF+ACF+1RO+2RO+EDI+SMB工艺流程,硕科环保采用国内先进设计理念,确保系统设备产水达到标准。 徐州石墨烯超纯水设备

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